滤光基板及其形成方法技术

一种滤光基板及其形成方法，所述形成方法包括：提供基底和掩模板；在所述基底上形成第一光刻胶层；基于第一线宽，设定第一光强；以所述第一光强，通过掩模板，对所述第一光刻胶层进行曝光以形成第一光阻层；在所述基底上形成第二光刻胶层；基于第二线宽，设定第二光强；以所述第二光强，通过所述掩模板，对所述第二光刻胶层进行曝光以形成第二光阻层。基于光阻层的线宽设定曝光光强，进行曝光的过程中，通过同一掩模板利用不同光强，形成不同光阻层，从而能够有效减小滤光基板制造过程中所需掩模板的数量，能够有效控制制造成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示制造领域，特别涉及一种滤光基板及其形成方法。

技术介绍

1、掩模板(mask)是显示制造领域不可缺少的部分。掩模板是设计所得的掩模板设计(original design)经修正后，转移到掩模板基板上，以参与后续的曝光(litho)、显影(etch)等工艺环节，最终实现设计的图像在光刻胶上成像。掩模板的质量直接决定了光刻工艺的质量。

2、掩模板是通过深紫外(deep ultra-violet，duv)或者电子束将掩模板设计书写至掩模板的基板上。掩模板的制造成本较高，因此掩模板的数量对滤光基板的生产成本影响巨大。

技术实现思路

1、本专利技术解决的问题是如何以同一掩模板形成不同光阻层以减少掩模板数量、控制成本。

2、为解决上述问题，本专利技术提供一种滤光基板的形成方法，包括：

3、提供基底和掩模板；在所述基底上形成第一光刻胶层；基于第一线宽，设定第一光强；以所述第一光强，通过掩模板，对所述第一光刻胶层进行曝光以形成第一光阻层；在所述基底上形成第二光刻胶层；基于本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种滤光基板的形成方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述第一光阻层和所述第二光阻层中至少1个为负性光刻胶层。

3.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述第一光阻层是红色光阻层、蓝色光阻层、绿色光阻层中的1个；所述第二光阻层是红色光阻层、蓝色光阻层、绿色光阻层中的1个。

4.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述第一光阻层和所述第二光阻层中1个是黑矩阵层。

5.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，进行曝光的步骤中，采用可调曝光装置进行曝光，其中所述可调曝光装置包括：</p>

6.如权...

【技术特征摘要】

1.一种滤光基板的形成方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述第一光阻层和所述第二光阻层中至少1个为负性光刻胶层。

3.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述第一光阻层是红色光阻层、蓝色光阻层、绿色光阻层中的1个；所述第二光阻层是红色光阻层、蓝色光阻层、绿色光阻层中的1个。

4.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述第一光阻层和所述第二光阻层中1个是黑矩阵层。

5.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，进行曝光的步骤中，采用可调曝光装置进行曝光，其中所述可调曝光装置包括：

6.如权利要求5所述的形成方法，其特征在于，所述调光单元包括：

7.如权利要求6所述的形成方法，其特征在于，第一偏振片和第二偏振片中一个为透振方向可调的偏振片。

8.如权利要求5所述的形成方法，其特征在于，设定第一光强的步骤还包括：根据所述第一光强值，调节光源以设定所述第一光强；设定第二光强的步骤包括：根据所述第二线宽，调节光源以设定所述第二光强。

9.如权利要求8所述的形成方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹佳豪，范刚洪，徐广军，唐文静，
申请(专利权)人：上海仪电显示材料有限公司，
类型：发明
国别省市：