【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学设计领域,尤其涉及一种视场像差稳定性高的光学设计方法。
技术介绍
1、目前,传统的光学设计方法注重光学系统的成像质量,比如点列图半径优化方法、波像差优化方法等。传统方法设计的镜头对物面细节具有很高的分辨能力,但像差随视场变化明显,一般小视场成像清晰,大视场下的像差较大,并且像差种类各不相同,一般中心视场像差主要由球差和轴上色差构成,而边缘视场下的畸变、彗差的影响会更大。目前大多数相机都搭载了图像信号处理(image signal processing,以下简称isp)算法,部分相机可能还要用来执行图像识别、图像恢复等机器视觉任务。像差在各视场上分布不均,会使得图像模糊程度、模糊类型随空间坐标变化明显,这会加重后续图像算法的计算压力,也不利于后续机器视觉任务的完成。
技术实现思路
1、针对现有技术中光学系统像差在各视场下分布不均的不足,本专利技术提出一种视场像差稳定性高的光学设计方法,该方法可以优化设计出成像质量在视场上高度均匀的成像系统,更满足均匀成像和机器视觉任务需要。
2、具本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种视场像差稳定性高的光学设计方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的视场像差稳定性高的光学设计方法,其特征在于,所述S1中,系统参数包括:工作波段、工作视场以及镜头孔径大小。
3.根据权利要求1所述的视场像差稳定性高的光学设计方法,其特征在于,所述S1中,镜片结构参数包括:表面半径、表面间距、镜片材料。
4.根据权利要求1所述的视场像差稳定性高的光学设计方法,其特征在于,所述S2中,全视场特征采样点下的点列图半径方差s2的计算表达式如下:
5.根据权利要求1所述的视场像差稳定性高的光学设计方法,其
...【技术特征摘要】
1.一种视场像差稳定性高的光学设计方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的视场像差稳定性高的光学设计方法,其特征在于,所述s1中,系统参数包括:工作波段、工作视场以及镜头孔径大小。
3.根据权利要求1所述的视场像差稳定性高的光学设计方法,其特征在于,所述s1中,镜片结构参数包括:表面半径、表面间距、镜片材料。
4.根据权利要求1所述的视场像差稳定性高的光学设计方法,其特征在于,所述s2中,全视场特征采样点下的点列图半径方差s2的计算表达式如下:
5.根据权利要求1所述的视场像...
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