【技术实现步骤摘要】
本申请涉及一种单晶金刚石衬底的激光打标方法,属于单晶金刚石激光打标。
技术介绍
1、金刚石由于其卓越的物理特性在多方面都有应用前景,在实际生产中,常常需要通过激光打标来分辨不同批次的产品。金刚石分为单晶金刚石和多晶金刚石,多晶金刚石对激光的透射性差,激光进入其内部之后能够被反射,因此打标过程比较顺利,不存在打裂的情况。
2、然而单晶金刚石具有优异的光学透过性和硬脆特性,导致在激光打标过程中激光穿透至金刚石内部,从而出现穿透深度不同和打裂等现象,这影响了打标质量和效率。
3、现有的解决方法主要包括调整激光参数、降低激光功率和采用特殊的激光脉冲模式等。然而,这些方法在处理单晶金刚石时仍然存在一些缺陷,例如调整激光参数可能会导致其他材料的打标效果变差,并且比较繁琐,也增加了时间成本,降低激光功率可能会降低打标速度和质量,而特殊的激光脉冲模式则需要额外的设备和复杂的操作,增加了成本和操作难度。
技术实现思路
1、为了解决上述问题,提供了一种单晶金刚石衬底的激光打标方法,该方
...【技术保护点】
1.一种单晶金刚石衬底的激光打标方法,其特征在于,包括下述步骤:
2.根据权利要求1所述的单晶金刚石衬底的激光打标方法,其特征在于,所述无定形碳缓冲层的厚度为0.5~5μm。
3.根据权利要求1所述的单晶金刚石衬底的激光打标方法,其特征在于,所述无定形碳选自乙炔黑、活性炭、硬碳中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的单晶金刚石衬底的激光打标方法,其特征在于,所述无定形碳选自乙炔黑和炭黑,且二者的重量比为1:1。
5.根据权利要求1所述的单晶金刚石衬底的激光打标方法,其特征在于,所述无定形碳缓冲层采用涂覆含有无定型碳的悬浮
...【技术特征摘要】
1.一种单晶金刚石衬底的激光打标方法,其特征在于,包括下述步骤:
2.根据权利要求1所述的单晶金刚石衬底的激光打标方法,其特征在于,所述无定形碳缓冲层的厚度为0.5~5μm。
3.根据权利要求1所述的单晶金刚石衬底的激光打标方法,其特征在于,所述无定形碳选自乙炔黑、活性炭、硬碳中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的单晶金刚石衬底的激光打标方法,其特征在于,所述无定形碳选自乙炔黑和炭黑,且二者的重量比为1:1。
5.根据权利要求1所述的单晶金刚石衬底的激光打标方法,其特征在于,所述无定形碳缓冲层采用涂覆含有无定型碳的悬浮液、化学气相沉积、溅射、蒸镀、熔射中的任意一种方式形成。
6.根据权利要求5所述的单晶金刚石衬底的激光打标方法,其特征在于,所述无定形碳缓冲...
【专利技术属性】
技术研发人员:王旗,马立兴,刘硕,邵殿领,王立凤,张林,王凯,宋猛,朱灿,隋晓明,
申请(专利权)人:山东天岳先进科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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