【技术实现步骤摘要】
本技术涉及蚀刻机相关，具体为一种干法刻蚀机排气装置。
技术介绍
1、等离子刻蚀是利用射频电源使反应气体生成反应活性高的离子和电子，对二氧化硅晶片进行物理轰击及化学反应，以选择性的去除部分区域，被刻蚀的物质变成挥发性的气体；
2、等离子刻蚀产生的尾气中包含未反应气体以及一些辅助加工产生的废气，反应中间产物及反应产生物质等，直接排入大气会造成污染，因而市面上出现了一些排气装置对废气进行简单的处理，但是此类排气装置在实际使用中仍存在以下不足。
3、但是目前刻蚀机排气装置其处理效果较为单一，无法对酸性废气进行良好均匀稳定的净化处理，同时不能对净化后的废气进行实时的监测，极易对后续环境造成污染，使得废气净化的效果波动较大，稳定性较差。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种干法刻蚀机排气装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种干法刻蚀机排气装置，包括净化箱，所述净化箱顶部通过螺栓可拆安装有顶盖，所述净化箱内安装有...
【技术保护点】
1.一种干法刻蚀机排气装置，包括净化箱(1)，所述净化箱(1)顶部通过螺栓可拆安装有顶盖(2)，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种干法刻蚀机排气装置，其特征在于：所述净化机构包括连通穿设在净化箱(1)底部一侧的气管(3)，在气管(3)上安装有用于抽气的气泵，所述净化箱(1)内底部一侧安装有腔体(4)，且腔体(4)与气管(3)连通，并在腔体(4)一侧连通安装有多个送气管(5)，所述送气管(5)顶部均匀连通分布有多个喷头(6)。
3.根据权利要求2所述的一种干法刻蚀机排气装置，其特征在于：所述送气管(5)通过支架固定在净化箱(1)内底部，通...
【技术特征摘要】
1.一种干法刻蚀机排气装置，包括净化箱(1)，所述净化箱(1)顶部通过螺栓可拆安装有顶盖(2)，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的一种干法刻蚀机排气装置，其特征在于：所述净化机构包括连通穿设在净化箱(1)底部一侧的气管(3)，在气管(3)上安装有用于抽气的气泵，所述净化箱(1)内底部一侧安装有腔体(4)，且腔体(4)与气管(3)连通，并在腔体(4)一侧连通安装有多个送气管(5)，所述送气管(5)顶部均匀连通分布有多个喷头(6)。
3.根据权利要求2所述的一种干法刻蚀机排气装置，其特征在于：所述送气管(5)通过支架固定在净化箱(1)内底部，通过送气管(5)上的多个喷头(6)将废气均匀的喷出。
4.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴钦，杨志华，
申请(专利权)人：倍特微半导体科技江苏有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。