【技术实现步骤摘要】
本申请涉及但不限于生产设备领域，尤其涉及一种固定机构、遮挡装置、生产设备和生产线。
技术介绍
1、物理气相沉积(physical vapar deposition，pvd)是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。镀膜层的物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在工件表面生成与基材性能完全不同的新的固体物质镀膜层，该技术是科技含量较高且被广泛应用的离子镀膜技术，它具有镀膜层致密均匀、附着力强、镀性好、沉积速度快、处理温度低、可镀材料广泛等特点，是表面处理工程领域较佳的选择。
2、但由于镀膜层的物质源需要经过溅射，因此容易溅射至工件周围的机体等位置，因此需要设置防护罩，但随着溅镀材料在遮罩板上的累积，溅镀材料的厚度不断增加，其附着力也会逐渐下降，会随机剥落从而掉落在工件上，从而会将工件的表面遮挡，影响对工件的加工，导致工件的良品率下降，此外，还需要定期对遮罩板进行清洗维护，一方面清洗工艺难，周期长，成本高，另一方面还要准备大量的备用的遮罩板进行更换，时间和人力成本高，影响产能。
【技术保护点】
1.一种固定机构(2)，用于固定柔性的遮挡件(3)，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的固定机构(2)，其特征在于，所述连接组件(22)包括相连接的至少两个夹持件组，所述至少两个夹持件组中的至少一个所述夹持件组用于夹持所述遮挡件(3)的第一端，其余所述夹持件组用于夹持所述遮挡件(3)的第二端。
3.根据权利要求2所述的固定机构(2)，其特征在于，所述夹持件组包括第一夹持件(221)和第二夹持件(222)，所述第一夹持件(221)和所述第二夹持件(222)相卡接，以用于夹紧所述遮挡件(3)，或，
4.根据权利要求3所述的固定机...
【技术特征摘要】
1.一种固定机构(2)，用于固定柔性的遮挡件(3)，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的固定机构(2)，其特征在于，所述连接组件(22)包括相连接的至少两个夹持件组，所述至少两个夹持件组中的至少一个所述夹持件组用于夹持所述遮挡件(3)的第一端，其余所述夹持件组用于夹持所述遮挡件(3)的第二端。
3.根据权利要求2所述的固定机构(2)，其特征在于，所述夹持件组包括第一夹持件(221)和第二夹持件(222)，所述第一夹持件(221)和所述第二夹持件(222)相卡接，以用于夹紧所述遮挡件(3)，或，
4.根据权利要求3所述的固定机构(2)，其特征在于，所述第一夹持件(221)包括卷绕部，所述卷绕部用于所述遮挡件(3)的卷绕，所述至少两个夹持件组中的所述第二夹持...
【专利技术属性】
技术研发人员：安洋，陈晨，范慧斌，陶科，杨宝海，闫宝杰，李义升，
申请(专利权)人：营口金辰机械股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。