一种镭射无褪色定制化基片制备工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，包括以下重量份材料制成：PETG树脂37.5～40.7重量份、PE高融粒子22～24重量份、水基PU树脂乳液10～12.5重量份、热稳定剂1～3重量份、钛白粉3.2～5.3重量份、玻璃纤维5.2～8重量份、润湿剂3～5重量份、增塑剂0.3～0.7重量份和抗氧剂0.4～0.8重量份；具体制备工艺步骤如下：步骤一：称取相应重量份的PETG树脂、PE高融粒子、水基PU树脂乳液、热稳定剂、钛白粉、玻璃纤维、润湿剂、增塑剂和抗氧剂，备用。该发明专利技术制备的基片使其不易褪色，粘接效果好，粘接强度高，不易老化和剥落，经久耐用；制备方法简单易操作、能耗低，能够在产业上推广应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于身份证基片材料制备，具体涉及一种镭射无褪色定制化基片制备工艺。

技术介绍

1、采用吹塑、流延拉伸工艺生产的petg片材尽管具有优良的物理机械性能、耐化学性能、气密性能、加工性能及耐低温性能，并有不易破碎、无异嗅、无毒、透明度高等优点，但采用流延、吹塑、拉伸工艺生产产品有流纹、厚度不均，热收缩率大，无法控制产品粗糙度等缺陷，产品有流纹及无法控制粗糙度影响产品的印刷性能和作防伪标识处理；产品厚度不均和热收缩率过大，产品层合(热合)后，在作用力影响下，易变形、翘曲，故采用用流延、吹塑、拉伸工艺生产产品不能用于制卡，因此采用注塑工艺制备身份证定制化基片材料。

2、现有的定制化基片制备工艺制备的基片材料高温容易老化和褪色，不能在增加强度的同时增加其韧性和抗疲劳效果，制备方法复杂、能耗高，不便于在产业上推广应用。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，以解决上述
技术介绍
中提出的现有的定制化基片制备工艺制备的基片材料高温容易老化和褪色，不能在增加强度的同时增加本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，包括以下重量份材料制成：

2.根据权利要求1所述的一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，其特征在于：所述步骤四中高速混炼机混炼温度190～200℃，混炼的时间在8～16min。

3.根据权利要求1所述的一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，其特征在于：所述步骤二中筛网的孔径为25～30um。

4.根据权利要求1所述的一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，其特征在于：所述润湿剂为有机硅润湿剂，密度17.00～32.00g/cm，粘度在25℃为15～20CPS。

5.根据权利要求1所述的一种镭射无褪色定制化基片制备工艺...

【技术特征摘要】

1.一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，包括以下重量份材料制成：

2.根据权利要求1所述的一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，其特征在于：所述步骤四中高速混炼机混炼温度190～200℃，混炼的时间在8～16min。

3.根据权利要求1所述的一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，其特征在于：所述步骤二中筛网的孔径为25～30um。

4.根据权利要求1所述的一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，其特征在于：所述润湿剂为有机硅润湿剂，密度17.00～32.00g/cm，粘度在25℃为15～20cps。

5.根据权利要求1所述的一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，其特征在于：所述步骤六中测量每块样品的表观密度、导热系数和垂直于基片板面方向的抗拉强度分别取算术平均值，使用热流计法测量试样的导热系数，用拉伸强度试验机测其抗拉强度。

6.根据权利要求1所述的一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，其特征在于：所述增塑剂为聚酯类增塑剂或磺酸酯中的一种，所述磺酸酯折射指数nd20℃为1.500±0.002，粘度在20℃为112±12cps。

7.根据权利要求1所述的一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，其特征在于：所述步骤五中将注塑液体恒温至180～200℃，在注塑的过程中采取保温处理。

8.根据权利要求1所述的一种镭射无褪色定制化基片制备工艺，其特征在于：所述步骤七中的烘干设备，包括底座（13）、支撑侧板（2）、烘干箱（7）和石英加热管（19）；所述底座（13）的顶部一侧焊接有烘干箱（7）且烘干箱（7）内顶端等距离通过螺钉安装有石英加热管（19），所述烘干箱（7）的顶部等距离设置有吸风口（6）且吸风口（6）内通过安装座安装有吸风扇（21），所述烘干箱（7）的一端通过螺栓安装有压均口（8），所述压均口（8）内顶部两端通过连接片（10...

【专利技术属性】
技术研发人员：王铁，彭超，
申请(专利权)人：江阴奥翔薄膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：