【技术实现步骤摘要】
本技术涉及磁材镀膜，具体涉及一种磁材用镀膜装置。
技术介绍
1、磁材真空镀膜一般需要镀制的膜层厚度约为20um，磁材只要在镀膜室里反复走动多次就可以镀制出理想的膜层。但是，目前镀制比较厚的膜层，一般都是增加镀膜室的长度，并增加磁控靶的数量，从而实现在磁材上镀制比较厚的膜层。
2、1、现有技术中，镀膜装置在镀膜过程中由于工件在转动过程中始终一侧朝向镀膜喷头，易导致工件会出现镀膜不均匀的情况，影响产品质量；
3、2、现有技术中，磁材走出镀膜室时的温度达到100℃，如果直接走到大气环境，容易出现氧化。
技术实现思路
1、本技术提供一种磁材用镀膜装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案是：
3、一种磁材用镀膜装置，包括壳体，所述壳体的内壁两侧靠近中部设置有转轴，所述转轴的顶部固定连接有安装架，所述安装架的内壁活动连接有双向螺纹杆，所述双向螺纹杆的外壁活动套接有滑块，所述滑块的内侧转动安装有连接杆，所述双向...
【技术保护点】
1.一种磁材用镀膜装置，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)的内壁两侧靠近中部设置有转轴(2)，所述转轴(2)的顶部固定连接有安装架(3)，所述安装架(3)的内壁活动连接有双向螺纹杆(4)，所述双向螺纹杆(4)的外壁活动套接有滑块(5)，所述滑块(5)的内侧转动安装有连接杆(6)，所述双向螺纹杆(4)的一侧设置有连接块(8)，所述连接块(8)的内侧转动安装有连接杆(6)，所述连接块(8)的一侧固定连接有压块(10)，所述压块(10)的内部固定连接于橡胶防护层(11)。
2.根据权利要求1所述的一种磁材用镀膜装置，其特征在于：所述滑块(5)与连接杆(6...
【技术特征摘要】
1.一种磁材用镀膜装置，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)的内壁两侧靠近中部设置有转轴(2)，所述转轴(2)的顶部固定连接有安装架(3)，所述安装架(3)的内壁活动连接有双向螺纹杆(4)，所述双向螺纹杆(4)的外壁活动套接有滑块(5)，所述滑块(5)的内侧转动安装有连接杆(6)，所述双向螺纹杆(4)的一侧设置有连接块(8)，所述连接块(8)的内侧转动安装有连接杆(6)，所述连接块(8)的一侧固定连接有压块(10)，所述压块(10)的内部固定连接于橡胶防护层(11)。
2.根据权利要求1所述的一种磁材用镀膜装置，其特征在于：所述滑块(5)与连接杆(6)之间设置有第一连接销轴(7)，所述连接块(8)与连接杆(6)之间设置有第二连接销轴(9)。
3.根据权利要求1所述的一种磁材用镀膜装置，其特征在于：所述壳体(1)的外壁靠近顶部固定安装有冷却箱(12)，所述冷却箱(12)的内部固定安装有风机(13)，所述壳体(1)的内部开设有吹风孔(14)，所述冷却箱(12)与吹风孔(14)相连通，所述吹风孔(14)的内部设置有过滤网(15)。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：张威峰，冷俊志，
申请(专利权)人：东莞市鑫刚金真空纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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