阵列基板、制作方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

技术编号:41432214 阅读:16 留言:0更新日期:2024-05-28 20:28
本申请属于显示技术领域,具体涉及一种阵列基板、制作方法、显示面板及显示装置。所述阵列基板还包括:像素电极,所述像素电极通过过孔与所述薄膜晶体管的第二极连接;调光单元,所述调光单元设于所述像素电极靠近所述衬底基板的一侧,所述调光单元在所述衬底基板上的正投影位于所述像素电极在所述衬底基板上的正投影内,所述调光单元与所述薄膜晶体管间隔设置;所述调光单元包括调光层和平坦层,所述调光层设于所述衬底基板上,所述平坦层覆盖所述调光层设置,所述平坦层远离所述衬底基板的一侧设有所述像素电极,所述调光层的折射率大于所述平坦层的折射率。本申请方案能够提升显示面板的透光率和提高显示品质。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于显示,具体涉及一种阵列基板、制作方法、显示面板及显示装置


技术介绍

1、近年来,由于材料的发展、像素设计、驱动方案和制造技术的改进,平板显示器的屏幕质量有了很大的改进。液晶显示器(lcd)背光效率、对比度和视角的提高,光学功能薄膜对此有很大贡献。

2、但是目前针对液晶显示器的透光率以及显示品质仍存在一系列问题。


技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种阵列基板、制作方法、显示面板及显示装置,能够提升显示面板的透光率和提高显示品质。

2、本申请第一方面提供了一种阵列基板,所述阵列基板包括衬底基板以及多个在所述衬底基板上阵列排布的子像素,每个子像素均设有发光区和遮挡区,所述遮挡区环绕所述发光区设置,所述遮挡区内设有薄膜晶体管,在所述发光区内,所述阵列基板还包括:

3、像素电极,所述像素电极通过过孔与所述薄膜晶体管的第二极连接;

4、调光单元,所述调光单元设于所述像素电极靠近所述衬底基板的一侧,所述调光单元在所述衬底基板上的正投影位于所述像素电极在所述衬本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种阵列基板,所述阵列基板包括衬底基板以及多个在所述衬底基板上阵列排布的子像素,每个子像素均设有发光区和遮挡区,所述遮挡区环绕所述发光区设置,所述遮挡区内设有薄膜晶体管,其特征在于,在所述发光区内,所述阵列基板还包括:

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括钝化层,所述平坦层和与其相邻的所述钝化层位于同一平面。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括设于所述衬底基板上的栅绝缘层,所述栅绝缘层设于所述钝化层靠近所述衬底基板的一侧;

4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,在所述衬底基板至所述像...

【技术特征摘要】

1.一种阵列基板,所述阵列基板包括衬底基板以及多个在所述衬底基板上阵列排布的子像素,每个子像素均设有发光区和遮挡区,所述遮挡区环绕所述发光区设置,所述遮挡区内设有薄膜晶体管,其特征在于,在所述发光区内,所述阵列基板还包括:

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括钝化层,所述平坦层和与其相邻的所述钝化层位于同一平面。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括设于所述衬底基板上的栅绝缘层,所述栅绝缘层设于所述钝化层靠近所述衬底基板的一侧;

4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,在所述衬底基板至所述像素电极的方向上,所述第一部分和所述第二部分在垂直于所述衬底基板厚度方向上的截面积逐渐减小。

5.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述调光层包括多个相互连接的调光部,所述调光部设于所述衬底基板上,所述调光部远离所述衬底基板的一侧设有圆弧状的调光面,所述调光面朝向远离所述衬底基板的一侧凸出设置;

6.根据权利要求5所述的阵列基板,其特征在于,在所述遮挡区还包括设于所述衬底基板上的公共电极线,所述公共电极线与所述薄膜晶体管间隔设置,所述调光单元设于所述公共电极线和所述薄膜晶体管之间。

7.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,所述阵列基板包括衬底基板、钝化层、栅绝缘层以及多个在所述衬底基板上阵列排布的子像素,每个子像素均设有发光区和遮挡区,所述遮挡区环绕所述发光区设置,所述遮挡区内设有薄膜晶体管;在所述发光区内,所述阵列基板还包括像素电极和调光单元,所述像素电极通过过孔与所述薄膜晶体管的第二极连接;所述调光单元设于所述像素电极靠近所述衬底基板的一侧,所述调光单元在所述衬底基板上的正投影位于所述像素电极在所述衬底基板上的正投影内,所述调光单元与所述薄膜晶体管间隔设置;所...

【专利技术属性】
技术研发人员:姚登莉刘凯军谢俊烽
申请(专利权)人:惠科股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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