【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及静电吸盘，具体是一种氮化铝多层静电吸盘制备方法。
技术介绍
1、集成电路的制造过程中，有着数千道的工艺步骤，硅片需要在这些工艺设备之间传递、运输并进行加工和检测；在加工过程中，硅片必须被平稳放置在工艺设备中，这就需要对硅片的夹持技术提出严格的要求，由于静电吸盘与其他夹持工具相比，对工件的物理应力小，能够将吸附作用均匀分布于硅片表面，防止硅片在制作过程中产生翘曲变形，而且静电吸盘对硅片无污染，对硅片无伤害，因此在现代半导体工业中应用最广。
2、静电吸盘通常由氧化铝、氮化铝或蓝宝石等陶瓷材料制成，由于陶瓷为绝缘体，通过在陶瓷胚体上覆金属电极层，改变陶瓷胚体的电学性能，使覆金属电极层的陶瓷胚体可以通过产生静电经硅片产生吸附作用。
3、但是，在陶瓷胚体上覆金属电极层的工艺步骤十分复杂，先在陶瓷胚体上加入光刻胶，然后通过旋转利用离心力的作用使光刻胶均匀的分布在陶瓷胚体上，然后使用光刻曝光机进行光刻，形成金属电极层，制作工程中需要使用的设备很多，陶瓷胚体需要通过夹持工具在各种设备的操作台之间移动和多次固定，十分...
【技术保护点】
1.一种氮化铝多层静电吸盘制备方法，其特征在于；包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种氮化铝多层静电吸盘制备方法，其特征在于：所述光刻装置包括底座(1)；所述底座(1)的上方设置有凸轮分割器组件(2)；所述凸轮分割器组件(2)的上方设置有圆盘工作台(3)；所述凸轮分割器组件(2)用于带动圆盘工作台(3)间歇转动；所述圆盘工作台(3)上设置有若干个圆形操作台(4)；所述圆形操作台(4)的上端外侧壁上呈圆周陈列布置有若干个橡胶条(5)；所述圆盘工作台(3)开设有若干个通槽(6)；所述圆形操作台(4)与通槽(6)一一对应，所述通槽(6)的上端与橡胶条(5)...
【技术特征摘要】
1.一种氮化铝多层静电吸盘制备方法，其特征在于；包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种氮化铝多层静电吸盘制备方法，其特征在于：所述光刻装置包括底座(1)；所述底座(1)的上方设置有凸轮分割器组件(2)；所述凸轮分割器组件(2)的上方设置有圆盘工作台(3)；所述凸轮分割器组件(2)用于带动圆盘工作台(3)间歇转动；所述圆盘工作台(3)上设置有若干个圆形操作台(4)；所述圆形操作台(4)的上端外侧壁上呈圆周陈列布置有若干个橡胶条(5)；所述圆盘工作台(3)开设有若干个通槽(6)；所述圆形操作台(4)与通槽(6)一一对应，所述通槽(6)的上端与橡胶条(5)插嵌连接；所述通槽(6)的下端与圆形操作台(4)转动连接；所述圆盘工作台(3)的下方设置有负压罩(7)；所述负压罩(7)呈弧形，所述圆形操作台(4)上开设有若干个负压孔(8)；所述负压罩(7)内设置有顶升组件(9)；所述顶升组件(9)位于其中一个圆形操作台(4)的正下方；所述顶升组件(9)用于顶升顶升组件(9)正上方的圆形操作台(4)；所述圆盘工作台(3)的一侧设置有第一气缸(10)；所述气缸的输出端固定连接有驱动组件(11)；所述驱动组件(11)用于带动圆形操作台(4)转动；所述圆盘工作台(3)的上方设置有下胶管(12)、集胶组件(13)和光刻曝光机(14)；所述下胶管(12)、集胶组件(13)和光刻曝光机(14)分别位于其中一个圆形操作台(4)的正上方。
3.根据权利要求2所述的一种氮化铝多层静电吸盘制备方法，其特征在于：所述凸轮分割器组件(2)包括凸轮分割器(21)；所述底座(1)上固定连接有凸轮分割器(21)；所述凸轮分割器(21)上固定连接有第一电机(22)；所述第一电机(22)的输出端与凸轮分割器(21)的输入端固定连接；所述凸轮分割器(21)的输出端固定连接有转动轴(23)；所述转动轴(23)的顶部与圆盘工作台(3)固定连接，所述转动轴(23)的外部套有支撑柱(24)；所述支撑柱(24)的下端与凸轮分割器(21)固定连接；支撑柱(24)的上端与圆盘工作台(3)滑动连接。
4.根据权利要求3所述的一种氮化铝多层静电吸盘...
【专利技术属性】
技术研发人员：董金勇，黄怡芳，赵栋，
申请(专利权)人：芯鸿光苏州纳米新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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