System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种高层纪念塔制造技术_技高网
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一种高层纪念塔制造技术

技术编号:41395075 阅读:7 留言:0更新日期:2024-05-20 19:18
本发明专利技术公开了一种高层纪念塔,其包括斜坡式结构体、土壤、若干个墓位和若干个支撑立柱,若干个所述墓位由上至下呈退台式布设于所述斜坡式结构体的外表面并形成多层的台阶式墓位,多层所述台阶式墓位组成纪念塔,若干个所述支撑立柱用于支撑上下相邻两层所述台阶式墓位,所述土壤填充于所述斜坡式结构体的外表面与若干个所述墓位之间,所述墓位包括墓穴和树穴,所述墓穴位于所述树穴的顶部,所述树穴的底部连接于所述土壤,所述斜坡式结构体的顶部具有雨水收集部,所述雨水收集部内的水用于浇灌所述土壤和所述树穴。实现节约土地,用地效率可以达到传统陵园的4‑5倍。同时纪念塔的造型富有感染力。且有效利用雨水;有水供给,树木可以常青。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及墓地,特别涉及一种高层纪念塔


技术介绍

1、陵园是人们最后的归属,通过陵园可以体现社会环境、殡葬文化和景观艺术的发展,近十年来城市化速度加快和人口老龄化现象的严重,陵园发展迅猛,并且大部分陵园为了迎合大众心理都建设在城市风景良好的区域。同时,现有的陵园均为平面形式,非常浪费建设用地。


技术实现思路

1、本专利技术的目的是为了克服现有做法存在的上述不足,本专利技术提供一种高层纪念塔。

2、本专利技术是通过以下技术方案实现的:

3、一种高层纪念塔,其包括斜坡式结构体、土壤、若干个墓位和若干个支撑立柱,若干个所述墓位由上至下呈退台式布设于所述斜坡式结构体的外表面并形成多层的台阶式墓位,多层所述台阶式墓位组成纪念塔,若干个所述支撑立柱用于支撑上下相邻两层所述台阶式墓位,所述土壤填充于所述斜坡式结构体的外表面与若干个所述墓位之间,所述墓位包括墓穴和树穴,所述墓穴位于所述树穴的顶部,所述树穴的底部连接于所述土壤,所述斜坡式结构体的顶部具有雨水收集部,所述雨水收集部内的水用于浇灌所述土壤和所述树穴。

4、进一步地,所述斜坡式结构体内具有内部空间,所述墓位还包括有背景墙和灵窗,所述背景墙开设有通风通道,所述通风通道自所述背景墙的外侧面向内贯穿所述土壤和所述斜坡式结构体并与所述内部空间相连通,所述灵窗连接于所述背景墙并嵌入至所述通风通道内。

5、进一步地,所述灵窗为花格窗。

6、进一步地,所述一种高层纪念塔还包括中央墓坛,所述中央墓坛设置于所述内部空间内;

7、和/或,所述一种高层纪念塔还包括雕像塔,所述雕像塔设置于所述内部空间内。

8、进一步地,所述墓位包括追思台和行走台,所述追思台和所述行走台均位于所述树穴中背向所述斜坡式结构体的一端,且所述追思台的两端分别连接于所述行走台和所述树穴,所述支撑立柱的底部连接于所述墓位的所述追思台,所述支撑立柱的顶部连接于上方所述墓位的所述行走台,每一层所述墓位通过多个所述行走台形成有公共通道。

9、进一步地,所述墓位还包括安全护栏,所述安全护栏连接于所述行走台中背向所述追思台的一端。

10、进一步地,所述墓位还包括墓碑,所述墓碑连接于所述墓穴上。

11、进一步地,所述一种高层纪念塔还包括若干个地宫,若干个所述地宫沿高度方向多层布设于所述斜坡式结构体的下方,每一个所述地宫具有多个地宫墓位。

12、进一步地,所述纪念塔的平面造型为方形、圆形或者多边形;

13、和/或,所述纪念塔设有多个垂直交通核。

14、进一步地,所述树穴与所述土壤之间设有篦网。

15、本专利技术的有益效果在于:

16、本专利技术的一种高层纪念塔,实现节约土地,用地效率可以达到传统陵园的4-5倍。同时纪念塔的造型富有感染力,内部空间富有纪念氛围,墓位风水流通,文化含义好。且有效利用雨水;有水供给,树木可以常青。

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【技术保护点】

1.一种高层纪念塔,其特征在于,其包括斜坡式结构体、土壤、若干个墓位和若干个支撑立柱,若干个所述墓位由上至下呈退台式布设于所述斜坡式结构体的外表面并形成多层的台阶式墓位,多层所述台阶式墓位组成纪念塔,若干个所述支撑立柱用于支撑上下相邻两层所述台阶式墓位,所述土壤填充于所述斜坡式结构体的外表面与若干个所述墓位之间,所述墓位包括墓穴和树穴,所述墓穴位于所述树穴的顶部,所述树穴的底部连接于所述土壤,所述斜坡式结构体的顶部具有雨水收集部,所述雨水收集部内的水用于浇灌所述土壤和所述树穴。

2.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述斜坡式结构体内具有内部空间,所述墓位还包括有背景墙和灵窗,所述背景墙开设有通风通道,所述通风通道自所述背景墙的外侧面向内贯穿所述土壤和所述斜坡式结构体并与所述内部空间相连通,所述灵窗连接于所述背景墙并嵌入至所述通风通道内。

3.如权利要求2所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述灵窗为花格窗。

4.如权利要求2所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述一种高层纪念塔还包括中央墓坛,所述中央墓坛设置于所述内部空间内;

5.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述墓位包括追思台和行走台,所述追思台和所述行走台均位于所述树穴中背向所述斜坡式结构体的一端,且所述追思台的两端分别连接于所述行走台和所述树穴,所述支撑立柱的底部连接于所述墓位的所述追思台,所述支撑立柱的顶部连接于上方所述墓位的所述行走台,每一层所述墓位通过多个所述行走台形成有公共通道。

6.如权利要求5所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述墓位还包括安全护栏,所述安全护栏连接于所述行走台中背向所述追思台的一端。

7.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述墓位还包括墓碑,所述墓碑连接于所述墓穴上。

8.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述一种高层纪念塔还包括若干个地宫,若干个所述地宫沿高度方向多层布设于所述斜坡式结构体的下方,每一个所述地宫具有多个地宫墓位。

9.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述纪念塔的平面造型为方形、圆形或者多边形;

10.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述树穴与所述土壤之间设有篦网。

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【技术特征摘要】

1.一种高层纪念塔,其特征在于,其包括斜坡式结构体、土壤、若干个墓位和若干个支撑立柱,若干个所述墓位由上至下呈退台式布设于所述斜坡式结构体的外表面并形成多层的台阶式墓位,多层所述台阶式墓位组成纪念塔,若干个所述支撑立柱用于支撑上下相邻两层所述台阶式墓位,所述土壤填充于所述斜坡式结构体的外表面与若干个所述墓位之间,所述墓位包括墓穴和树穴,所述墓穴位于所述树穴的顶部,所述树穴的底部连接于所述土壤,所述斜坡式结构体的顶部具有雨水收集部,所述雨水收集部内的水用于浇灌所述土壤和所述树穴。

2.如权利要求1所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述斜坡式结构体内具有内部空间,所述墓位还包括有背景墙和灵窗,所述背景墙开设有通风通道,所述通风通道自所述背景墙的外侧面向内贯穿所述土壤和所述斜坡式结构体并与所述内部空间相连通,所述灵窗连接于所述背景墙并嵌入至所述通风通道内。

3.如权利要求2所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述灵窗为花格窗。

4.如权利要求2所述的一种高层纪念塔,其特征在于,所述一种高层纪念塔还包括中央墓坛,所述中央墓坛设置于所述内部空间内;

【专利技术属性】
技术研发人员:陈丽
申请(专利权)人:陈丽
类型:发明
国别省市:

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