【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶片加工设备，尤其涉及一种单片晶片甩干防飞溅防护罩。
技术介绍
1、晶片在加工过程中需要经过水洗步骤，水洗之后通常使用单片晶片甩干机进行甩干，现有挡板采用的都是平面的挡板，多次甩干后挡板有残留物，而且甩干时会飞溅出液体，对晶片的产生污染从而影响甩干效果，同时挡板表面残留需要经常擦拭，提升了人工成本。
2、因此，如何设计一种单片晶片甩干防飞溅防护罩，能利用斜面接收甩干晶片时飞溅出的液体，将液体聚集到导流槽排走，从而减少晶片所受到的污染，减少擦拭挡板的频率，成为本领域技术人员亟待解决的技术难题。
技术实现思路
1、本技术的目的是提供一种单片晶片甩干防飞溅防护罩，解决甩干时飞溅出的液体污染晶片的问题。
2、为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：
3、本技术一种单片晶片甩干防飞溅防护罩，包括甩干机、保护罩、集液槽和防护罩，所述保护罩为底端封闭的方筒，所述甩干机设置在所述保护罩的内侧底部，所述保护罩的顶端设置有所述集液槽，所述集液槽的外侧连接有所述
【技术保护点】
1.一种单片晶片甩干防飞溅防护罩，其特征在于：包括甩干机(1)、保护罩(2)、集液槽(3)和防护罩(4)，所述保护罩(2)为底端封闭的方筒，所述甩干机(1)设置在所述保护罩(2)的内侧底部，所述保护罩(2)的顶端设置有所述集液槽(3)，所述集液槽(3)的外侧连接有所述防护罩(4)。
2.根据权利要求1所述的单片晶片甩干防飞溅防护罩，其特征在于：所述防护罩(4)包括第一直挡板(401)、斜挡板(402)和第二直挡板(403)，所述第一直挡板(401)的底端连接所述斜挡板(402)的顶端，所述斜挡板(402)的上部向内侧倾斜，所述斜挡板(402)的底端连接所述...
【技术特征摘要】
1.一种单片晶片甩干防飞溅防护罩，其特征在于：包括甩干机(1)、保护罩(2)、集液槽(3)和防护罩(4)，所述保护罩(2)为底端封闭的方筒，所述甩干机(1)设置在所述保护罩(2)的内侧底部，所述保护罩(2)的顶端设置有所述集液槽(3)，所述集液槽(3)的外侧连接有所述防护罩(4)。
2.根据权利要求1所述的单片晶片甩干防飞溅防护罩，其特征在于：所述防护罩(4)包括第一直挡板(401)、斜挡板(402)和第二直挡板(403)，所述第一直挡板(401)的底端连接所述斜挡板(402)的顶端，所述斜挡板(402)的上部向内侧倾斜，所述斜挡板(402)的底端连接所述第二直挡板(403)的顶端，所述第二直挡板(403)的底端连接所述集液...
【专利技术属性】
技术研发人员：张华，任殿胜，张帅，
申请(专利权)人：保定通美晶体制造有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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