【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及气体阻隔性和水蒸气阻隔性高且清晰度高的多层结构体及其制造方法、以及使用其得到的电子设备的保护片和电子设备。
技术介绍
1、具备太阳能电池、显示装置的电子设备等电子设备需要对表面加以保护的透光性保护构件。作为该保护构件，有时使用例如在厚玻璃板、树脂基材上具备阻隔层的阻隔性(氧气阻隔性和水蒸气阻隔性)优异的保护片等。
2、作为前述阻隔性优异的保护片，专利文献1中记载了具备包含多层结构体的保护片的电子设备，所述多层结构体通过在基材(x)上涂布含有包含铝的化合物和磷化合物的涂布液，接着进行干燥和热处理而设置有包含反应产物的层(y)，前述反应产物的平均粒径为5～70nm，并记载了：该保护片的气体阻隔性和水蒸气阻隔性优异，在温热试验后也能够维持其性能。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：国际公开第2016/103720号
技术实现思路
1、专利技术所要解决的问题
2、近年来，对于电子设备等的保护片(多层结构体)，有时要求更高水平的清晰度，前述现有电子设备中使用的多层结构体有时清晰度不充分。前述现有电子设备中使用的多层结构体的高阻隔性作为电子设备等的保护片是有用的，寻求在维持这种性能的同时还具有高清晰度的多层结构体。本专利技术人等为了实现清晰度高的多层结构体，使用图像清晰度(写像性)高的基材作为基材(x)并进行了多次研究，但难以实现高清晰度。本专利技术人等进行了深入研究，结果发现：在形成层(y)时涂布的涂布液
3、本专利技术是基于上述那样的情况而进行的，其目的是提供具有高阻隔性和清晰度的多层结构体及其制造方法、以及使用其得到的电子设备的保护片和电子设备。
4、用于解决问题的手段
5、根据本专利技术，前述目的通过提供下述技术方案而得以实现。
6、[1]多层结构体，其为具备基材(x)和层(y)的多层结构体，层(y)包含含有铝原子的金属氧化物(a)(以下有时简写为“金属氧化物(a)”)与无机磷化合物(bi)的反应产物(d)，基材(x)与层(y)邻接，按照iso17221:2014而测得的光梳宽度为0.25mm时的前述多层结构体的图像清晰度为90％以上；
7、[2]根据[1]的多层结构体，其中，按照jis k7105:1981而测得的雾度值为3％以下；
8、[3]根据[1]或[2]的多层结构体，其中，按照iso15106-5:2015而测得的40℃、90％rh下的水蒸气透过率为1×10-2g/m2·day以下；
9、[4]根据[1]～[3]中任一项的多层结构体，其中，在210℃下加热1分钟时的基材(x)的md方向的热收缩率为2.90％以下；
10、[5]根据[1]～[4]中任一项的多层结构体，其中，按照iso17221:2014而测得的光梳宽度为0.25mm时的基材(x)的图像清晰度为90％以上；
11、[6]根据[1]～[5]中任一项的多层结构体，其中，基材(x)具有表面层；
12、[7]根据[1]～[6]中任一项的多层结构体，其具有直接层叠有基材(x)和层(y)的构成；
13、[8]根据[1]～[6]中任一项的多层结构体，其具有基材(x)与层(y)经由粘接层(i)层叠而成的构成；
14、[9]根据[1]～[8]的多层结构体，其具备在基材(x)的两面分别配置的层(y)；
15、[10]多层结构体的制造方法，其包括如下工序：
16、工序(i)，其通过在基材(x)的至少一面侧涂布包含含有铝原子的金属氧化物(a)、无机磷化合物(bi)和溶剂的涂布液(s)，并去除前述溶剂，从而形成层(y)的前体层；以及
17、工序(ii)，其通过对层(y)的前体层进行热处理而形成层(y)，
18、工序(i)的涂布液(s)的涂布速度相对于涂布宽度1cm为0.03cm/s以上且2.5cm/s以下，按照iso17221:2014而测得的光梳宽度为0.25mm时的所得多层结构体的图像清晰度为90％以上；
19、[11]电子设备的保护片，其包含[1]～[9]中任一项的多层结构体；
20、[12]根据[11]的保护片，其为对光电转换装置、信息显示装置或照明装置的表面加以保护的保护片；
21、[13]电子设备，其具有[11]或[12]的保护片。
22、专利技术效果
23、根据本专利技术，可提供具有高阻隔性和清晰度的多层结构体及其制造方法、以及使用其得到的电子设备的保护片和电子设备。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.多层结构体，其为具备基材(X)和层(Y)的多层结构体，
2.根据权利要求1所述的多层结构体，其中，按照JIS K7105:1981而测得的雾度值为3％以下。
3.根据权利要求1或2所述的多层结构体，其中，按照ISO15106-5:2015而测得的40℃、90％RH下的水蒸气透过率为1×10-2g/m2·day以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的多层结构体，其中，基材(X)在210℃下加热1分钟时的MD方向的热收缩率为2.90％以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的多层结构体，其中，按照ISO17221:2014而测得的光梳宽度为0.25mm时的基材(X)的图像清晰度为90％以上。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的多层结构体，其中，基材(X)具有表面层。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的多层结构体，其具有直接层叠有基材(X)和层(Y)的构成。
8.根据权利要求1～6中任一项所述的多层结构体，其具有基材(X)与层(Y)经由粘接层(I)层叠而成的构成。
9.根据权利
10.多层结构体的制造方法，其包括如下工序：
11.电子设备的保护片，其包含权利要求1～9中任一项所述的多层结构体。
12.根据权利要求11所述的保护片，其为对光电转换装置、信息显示装置、或照明装置的表面加以保护的保护片。
13.电子设备，其具有权利要求11或12所述的保护片。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.多层结构体，其为具备基材(x)和层(y)的多层结构体，
2.根据权利要求1所述的多层结构体，其中，按照jis k7105:1981而测得的雾度值为3％以下。
3.根据权利要求1或2所述的多层结构体，其中，按照iso15106-5:2015而测得的40℃、90％rh下的水蒸气透过率为1×10-2g/m2·day以下。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的多层结构体，其中，基材(x)在210℃下加热1分钟时的md方向的热收缩率为2.90％以下。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的多层结构体，其中，按照iso17221:2014而测得的光梳宽度为0.25mm时的基材(x)的图像清晰度为90％以上。
6.根据权利要求1～5中任一项所...
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