一种混合控制的等离子体镀膜电源系统技术方案

本发明专利技术公开了一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，包括：功率电路模块，用于对220V市电进行处理，输出用于射流等离子体发生器的高频交流电；采样控制模块，与功率电路模块连接，用于对功率电路进行采样和驱动；辅助电源模块，用于为采样控制模块供电；其中，所述采样控制模块采用数字峰值电流移相全桥控制算法和数字PFC母线电压控制算法混合控制电源功率。本发明专利技术提供一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，能够提高电源系统的功率范围和对不同等离子体发生器负载的适应性，动态响应和稳定性，精度和可靠性，功率因数和效率，满足等离子体镀膜电源日益增长的性能要求。本发明专利技术可广泛应用于等离子体领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及等离子体领域，尤其涉及一种混合控制的等离子体镀膜电源系统。

技术介绍

1、等离子体镀膜工艺利用等离子体增强化学气相沉积技术，通入等离子体发生器中的气体在高频交流电的作用下电离为等离子体通入反应腔中，反应腔内反应物质在等离子体作用下产生交联或者聚合，在气流的作用下沉积到材料表面得到固态薄膜，目前等离子体镀膜技术广泛应用在电子制造业，光学制造业，集成电路领域中。传统的等离子体镀膜电源功率范围窄，对不同等离子体发生器负载的适应性差，系统动态响应不及时，系统稳定性差，效率低，功率因数低，随着等离子体应用的发展，传统的电源越来越无法满足日益增长的性能要求。

技术实现思路

1、为至少一定程度上解决现有技术中存在的技术问题之一，本专利技术的目的在于提供一种混合控制的等离子体镀膜电源系统。

2、本专利技术所采用的技术方案是：

3、一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，包括：

4、功率电路模块，用于对220v市电进行处理，输出用于射流等离子体发生器的高频交流电；

5、本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，其特征在于，所述等离子体镀膜电源系统还包括射流等离子体发生器和射流等离子体镀膜模块；

3.根据权利要求2所述的一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，其特征在于，所述射流等离子体镀膜模块包括药液灌，水冷箱和反应腔；

4.根据权利要求1所述的一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，其特征在于，所述功率电路模块包括依次连接的无桥PFC电路、全桥逆变电路、谐振腔电路和高频变压器；所述无桥PFC电路的输入端连接220V市电，所述高频变压器的输出端连接...

【技术特征摘要】

1.一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，其特征在于，所述等离子体镀膜电源系统还包括射流等离子体发生器和射流等离子体镀膜模块；

3.根据权利要求2所述的一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，其特征在于，所述射流等离子体镀膜模块包括药液灌，水冷箱和反应腔；

4.根据权利要求1所述的一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，其特征在于，所述功率电路模块包括依次连接的无桥pfc电路、全桥逆变电路、谐振腔电路和高频变压器；所述无桥pfc电路的输入端连接220v市电，所述高频变压器的输出端连接射流等离子体发生器；

5.根据权利要求4所述的一种混合控制的等离子体镀膜电源系统，其特征在于，所述采样控制模块包括信号采样与调理模块、dsp处理器模块、驱动电路模块；

6....

【专利技术属性】
技术研发人员：薛家祥，王一统，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：