【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及的是一种集成光子领域的技术,具体是一种基于碳化硅片上集成的偏振分束旋转器。
技术介绍
1、在集成光路中,为了实现超宽的工作带宽和较小的传输损耗,需要设计结构尺寸紧凑、耦合效率高的光器件,其中一类重要的器件是偏振分束旋转器。偏振分束旋转器(psr)结合了偏振分束器和偏振旋转器的功能,能够分离两个偏振,并同时将其中一个偏振转换为另一个偏振。它作为一种具有紧凑占用空间的偏振管理设备引起了广泛关注。为充分利用不同材料的特性,设计制备高性能光电子集成器件,集成光子学领域一直在寻找新材料平台,该平台需要与硅基cmos工艺兼容,同时应具备低损耗、高折射率差、高非线性系数、高功率耐受性等特性。当前多种材料被发展,其中sic符合上述所有的光子学特性,因此sic被认为是一个极具潜力的新型光子平台。
技术实现思路
1、本专利技术针对现有技术无法控制光模场在sic层中的占比以及需要离子注入来引入非线性的不足,提出一种基于碳化硅片上集成的偏振分束旋转器,通过将光模场局限在碳化硅中使得其优良的光电学特性
...【技术保护点】
1.一种基于碳化硅片上集成的偏振分束旋转器,其特征在于,包括:衬底以及依次设置于其上的掩埋氧化硅层、碳化硅层和设置于碳化硅层上的能够同时传播TE模和TM模的硅波导,该硅波导包括:一个绝热锥度结构和一个非对称定向耦合器,其中:绝热锥度结构在输入端为单模结构,而在另一端为多模结构。
2.根据权利要求1所述的基于碳化硅片上集成的偏振分束旋转器,其特征是,所述的片上集成偏振分束旋转器的上包层为二氧化硅,n=1.445。
3.根据权利要求1所述的基于碳化硅片上集成的偏振分束旋转器,其特征是,所述的衬底和硅波导的折射率为n1≈3.42,碳化硅材料的折射率n
...【技术特征摘要】
1.一种基于碳化硅片上集成的偏振分束旋转器,其特征在于,包括:衬底以及依次设置于其上的掩埋氧化硅层、碳化硅层和设置于碳化硅层上的能够同时传播te模和tm模的硅波导,该硅波导包括:一个绝热锥度结构和一个非对称定向耦合器,其中:绝热锥度结构在输入端为单模结构,而在另一端为多模结构。
2.根据权利要求1所述的基于碳化硅片上集成的偏振分束旋转器,其特征是,所述的片上集成偏振分束旋转器的上包层为二氧化硅,n=1.445。
3.根据权利要求1所述的基于碳化硅片上集成的偏振分束旋转器,其特征是,所述的衬底和硅波导的折射率为n1≈3.42,碳化硅材料的折射率n2≈2.57。
4.根据权利要求1所述的基于碳化硅片上集成的偏振分束...
【专利技术属性】
技术研发人员:张永,陈雨琦,徐子涵,沈健,苏翼凯,
申请(专利权)人:上海交通大学,
类型:发明
国别省市:
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