缺陷检测方法、装置、设备、系统及存储介质制造方法及图纸

本申请提供一种缺陷检测方法、装置、设备、系统及存储介质，涉及图像处理领域。该方法包括：计算设备在对待检测器件进行缺陷检测时，将参考图像的图像风格迁移至待检测器件的图像，使图像风格迁移获得的风格迁移图像与参考图像具有统一的图像风格，再基于风格迁移图像识别待检测器件的缺陷，完成待检测器件的缺陷检测。从而基于图像风格迁移避免待检测器件由于工艺变化引起图像风格发生变化后，缺陷检测算法将图像风格发生变化后的粗糙程度、线宽等正常数据识别为缺陷数据，降低了缺陷检测的误检概率，从而提高了缺陷检测的准确性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及图像处理领域，尤其涉及一种缺陷检测方法、装置、设备、系统及存储介质。

技术介绍

1、在半导体领域中，采用高级光学检查(advanced optical inspection，aoi)技术对封装后的半导体器件进行缺陷检测。由于加工工艺的变化会导致生产的半导体器件表面粗糙程度、氧化程度、线宽等参数发生变化，从而引起半导体器件的表面图像的噪声发生变化。通常，高级光学检查设备针对基于不同加工工艺封装的半导体器件的成像结果进行缺陷检测。但是，由不同加工工艺的封装的半导体器件的成像结果的噪声分布不同，会将不同加工工艺导致的不同噪声分布误检为缺陷，存在缺陷检测的准确性较差的问题。

技术实现思路

1、本申请实施例提供一种缺陷检测方法、装置、设备、系统及存储介质，能够解决由于图像风格变化引起的缺陷检测的准确性较差的问题。

2、第一方面，提供一种缺陷检测方法。该缺陷检测方法包括：在对待检测器件进行缺陷检测时，对待检测器件的待检测图像进行风格迁移得到风格迁移图像，使风格迁移图像与参考图像具有统一的图像风格，再本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种缺陷检测方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据参考图像的图像风格对待检测器件图像进行风格迁移，得到风格迁移图像，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述参考图像的噪声包括所述待检测器件的表面的粗糙程度、氧化程度和线宽中至少一种形成的噪声。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于，所述根据所述风格迁移图像识别所述待检测器件的缺陷，包括：

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述风格迁移图像识别所述待检测器件的缺陷，包括：

6.根据权利要求5所述...

【技术特征摘要】

1.一种缺陷检测方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据参考图像的图像风格对待检测器件图像进行风格迁移，得到风格迁移图像，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述参考图像的噪声包括所述待检测器件的表面的粗糙程度、氧化程度和线宽中至少一种形成的噪声。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法，其特征在于，所述根据所述风格迁移图像识别所述待检测器件的缺陷，包括：

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述根据所述风格迁移图像识别所述待检测器件的缺陷，包括：

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据参考图像的图像风格对待检测器件图像进行风格迁移，得到风格迁移图像，包括：

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述风格迁移模型和所述缺陷检测模型是联合训练得到的，所述联合训练用于优化模型参数以使联合损失函数最小化，所述联合损失函数包含所述风格迁移模型的损失函数和所述缺陷检测模型的损失函数。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的方法，其特征在于，在所述根据参考图像的图像风格对待检测器件图像进行风格迁移，得到风格迁移图像之前，所述方法还包括：

9.根据权利要求1-8中任一项所述的方法，其特征在于，在所述根据参考图像的图像风格对待检测器件图像进行风格迁移，得到风格迁移图像之前，所述方法还包括：

10.一种缺陷检测装置，其特征在于，所述装置包括：

11.根据权利要求10所述的装置，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩磊，林天鹏，谢鸿洋，郑凯，李琳，
申请(专利权)人：华为技术有限公司，
类型：发明
国别省市：