【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于三元前驱体生产设备，具体涉及一种用于三元前驱体制备温度控制系统。
技术介绍
1、在三元前驱体制备过程中，温度控制是重要的环节，稳定精确的温度控制能使合成过程高度稳定，保证产品的均匀性、一致性以及其他物理指标。相关技术中制备三元前驱体时，将氨水、液碱、混合金属溶液等分别通过计量泵输送至反应釜中混合，利用搅拌装置进行搅拌，物料在水相介质中发生络合共沉淀反应，但是，将物料放入到反应釜内达到一定温度后才开始反应，制备效率较低。
技术实现思路
1、本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术的实施例提出一种用于三元前驱体制备温度控制系统，能够提高产品的制备效率。
2、本专利技术实施例的用于三元前驱体制备的温度控制系统，包括：反应釜；第一进水管，所述第一进水管的出口和所述反应釜相连，所述第一进水管的入口适于与外部的第一纯水供应组件相连，所述第一供水组件用于向所述第一进水管用供应第一预设温度t1的纯水，所述第一预设温度t1大于向所述反应釜内加入的...
【技术保护点】
1.一种用于三元前驱体制备的温度控制系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于三元前驱体制备的温度控制系统，其特征在于，还包括液位传感器，所述液位传感器被配置为监测所述反应釜内的液位高度。
3.根据权利要求1所述的用于三元前驱体制备的温度控制系统，其特征在于，还包括第二进水管，所述第二进水管的出口与所述反应釜相连，所述第二进水管的入口适于与外部的第二纯水供应组件相连，所述第二纯水供应组件适于向所述第二进水管供应第二预设温度T2的纯水，所述第二预设温度T2小于所述反应釜内的物料温度；
4.根据权利要求1～3中任一项所述的用...
【技术特征摘要】
1.一种用于三元前驱体制备的温度控制系统，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于三元前驱体制备的温度控制系统，其特征在于，还包括液位传感器，所述液位传感器被配置为监测所述反应釜内的液位高度。
3.根据权利要求1所述的用于三元前驱体制备的温度控制系统，其特征在于，还包括第二进水管，所述第二进水管的出口与所述反应釜相连，所述第二进水管的入口适于与外部的第二纯水供应组件相连，所述第二纯水供应组件适于向所述第二进水管供应第二预设温度t2的纯水，所述第二预设温度t2小于所述反应釜内的物料温度；
4.根据权利要求1～3中任一项所述的用于三元前驱体制备的温度控制系统，其特征在于，还包括温度调节组件，所述温度调节组件包括：
5.根据权利要求4所述的用于三元前驱体制备的温度控制系统，其特征在于，所述温度调节组件还包括第一温度传感器，所述第一温度传感器设置于所述反应釜内，所述第一温度传感器用于监测所述反应...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨扬，薛昊洋，丁淑荣，才超，张阳，陈龙，王宏岩，
申请(专利权)人：中国恩菲工程技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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