【技术实现步骤摘要】
本申请涉及用透射射线(例如x射线)的检测领域，特别涉及一种检测设备的控制方法、一种检测设备的控制装置、以及一种检测设备。
技术介绍
1、在诸如安检或物流等检测领域中，检测设备具有射线源，该射线源包括位于绝缘环境中的射线管，并且，检测设备可以利用射线管产生的透射射线检测行李或包裹等目标物体的内部构造，以判定目标物体的内部是否容纳有危险物品。
2、通常情况下，射线源还包括用于为射线管提供绝缘环境的绝缘介质腔，绝缘介质腔内填充有诸如绝缘油等液态绝缘介质，射线管在绝缘介质腔内浸泡于液态绝缘介质，并且，射线管的管内真空度与液态绝缘介质产生的管外压力关联。
3、由于液态绝缘介质对射线管产生的管外压力受诸多因素影响，因此，液态绝缘介质对射线管产生的管外压力存在波动。若液态绝缘介质对射线管产生的管外压力波动为较低的值，则，射线管的管内真空度可能会降低，并且，管内真空度的降低容易在射线管产生透射射线的出束过程中引发打火，甚至在严重时导致射线管损坏。其中，打火是指为射线管供电的高压电源放电产生电弧(arc)，并且，高压电源放电产生的电弧可能会导致检测设备的运行异常。
4、为了抑制射线管的管内真空度下降，现有技术试图采用物理手段来调节液态绝缘介质对射线管产生的管外压力，即：在绝缘介质腔的内部部署内部膨胀器，在绝缘介质腔的外部部署外部膨胀器，内部膨胀器和外部膨胀器相互连通，并且，内部膨胀器和外部膨胀器相互连通形成的密闭气体通道内的气压大于一个标准大气压，从而，通过内部膨胀器在绝缘介质腔中的膨胀和收缩，可以补偿液态绝缘
5、然而，通过物理手段调节管外压力的方式，会导致以下的问题：
6、1、由于增设内部膨胀器和外部膨胀器，导致射线源体积增大，进而导致检测设备的整机体积增大；
7、2、对射线源的维护过程中，会增加内部膨胀器和外部膨胀器的膨胀器拆装工序、以及对内部膨胀器和外部膨胀器的气体注入工序，从而降低射线源的维护效率；
8、3、若内部膨胀器和外部膨胀器中的至少之一破损，则，对管外压力的调节失效，从而导致射线管的管内真空度的下降无法被抑制。
9、由此可见，通过物理手段调节管外压力的方式存在射线源体积增大、射线源维护效率低、以及可靠性不高的缺陷，因此，如何抑制射线管的管内真空度下降，并同时兼顾避免射线源体积增大、并提升射线源维护效率和可靠性，成为现有技术中有待解决的技术问题。
技术实现思路
1、本申请的实施例提供一种检测设备的控制方法、一种检测设备的控制装置、以及一种检测设备，有助于抑制射线管的管内真空度下降，并同时兼顾避免射线源体积增大、并提升射线源维护效率和可靠性。
2、在本申请的一个实施例中，提供了一种检测设备的控制方法，所述检测设备包括射线源，所述射线源包括位于绝缘环境中的射线管、以及用于驱动所述射线管的射线源控制模组，并且，所述控制方法包括：
3、响应于所述检测设备的设备启动，检测所述射线源是否处于目标状态，其中，所述目标状态用于表征所述射线管的管内真空度存在异常风险；
4、响应于对所述目标状态的成功检测，生成与所述目标状态相匹配的训管参数，其中，所述训管参数包括分别对应多个训管阶段的多个训管电压值和多个训管电流值、以及每个所述训管阶段的单档预热时长，并且，多个所述训管电压值和多个所述训管电流值按照多个所述训管阶段的阶段排列顺序单调变化；
5、将所述训管参数发送至所述射线源控制模组，以促使所述射线源控制模组驱动所述射线管执行训管出束；
6、其中，所述训管出束包括：按照所述阶段排列顺序，依次以每个所述训管阶段对应的所述训管电压值和所述训管电流值为所述管电压和所述管电流，连续执行多次持续所述单阶段预热时长的单阶段出束；并且，所述训管出束用于对所述绝缘环境产生促使所述管内真空度提升的环境预热。
7、在一些示例中，可选地，所述生成与所述目标状态相匹配的训管参数，包括：基于成功检测到的所述目标状态的状态类别，生成所述训管参数。
8、在一些示例中，可选地，所述基于成功检测到的所述目标状态的状态类别，生成所述训管参数，包括：基于成功检测到的所述目标状态的状态类别，确定所述训管阶段的目标阶段数量、多个所述训管电压值和多个所述训管电流值的目标选值范围和单调变化趋势、以及所述训管出束的训管持续时长；基于所述目标阶段数量、所述目标选值范围和所述单调变化趋势、以及所述训管持续时长，生成所述训管参数。
9、在一些示例中，可选地，所述基于成功检测到的所述目标状态的状态类别，确定所述训管阶段的目标阶段数量、多个所述训管电压值和多个所述训管电流值的目标选值范围和单调变化趋势、以及所述训管出束的训管持续时长，包括：在预先设定的至少两个训管模式中，确定与所述目标状态的状态类别对应的选定训管模式，其中，若成功检测到状态类别分别对应不同的所述训管模式的至少两个所述目标状态，则，与优先级最高的一个状态类别对应的所述训管模式被确定为所述选定训管模式；基于所述选定训管模式，确定所述目标阶段数量、所述目标选值范围、所述单调变化趋势以及所述训管持续时长。
10、在一些示例中，可选地，每个所述训管模式均具有参考阶段数量、参考选值范围、参考单调趋势以及参考训管时长；所述基于所述选定训管模式，确定所述目标阶段数量、所述目标选值范围、所述单调变化趋势以及所述训管持续时长，包括：基于所述选定训管模式的所述参考阶段数量、所述参考选值范围、所述参考单调趋势以及所述参考训管时长，分别确定所述目标阶段数量、所述目标选值范围、所述单调变化趋势以及所述训管持续时长。
11、在一些示例中，可选地，至少一个所述训管模式的所述参考训管时长包括多个训管时长，并且，其余的所述训管模式的所述参考训管时长为单值；所述基于所述选定训管模式的所述参考阶段数量、所述参考选值范围、所述参考单调趋势以及所述参考训管时长，分别确定所述目标阶段数量、所述目标选值范围、所述单调变化趋势以及所述训管持续时长，包括：若所述选定训管模式的所述参考训管时长为单值，则，将所述选定训管模式的所述参考阶段数量、所述参考选值范围、所述参考单调趋势以及所述参考训管时长，分别确定为所述目标阶段数量、所述目标选值范围、所述单调变化趋势以及所述参考训管时长；和/或，若所述选定训管模式的所述参考训管时长包括多个训管时长，则，将所述选定训管模式的所述参考阶段数量、所述参考选值范围以及所述参考单调趋势，分别确定为所述目标阶段数量、所述目标选值范围以及所述单调变化趋势，并且，基于确定所述选定训管模式时使用的状态类别，在所述参考训管时长的多个训管时长中选择一个作为所述训管持续时长。
12、在一些示例中，可选地，所述目标状态的状态类别包括低温状态、长待机状态、换源状态以及额定跃升状态中的至少一种，所述低温状态用于表征所述绝缘环境的环境温度低于预设温度阈值，所述长待机状态用于表本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种检测设备的控制方法，其特征在于，所述检测设备包括射线源，所述射线源包括位于绝缘环境中的射线管、以及用于驱动所述射线管的射线源控制模组，并且，所述控制方法包括：
2.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的控制方法，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的控制方法，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的控制方法，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的控制方法，其特征在于，
7.根据权利要求4所述的控制方法，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的控制方法，其特征在于，
9.根据权利要求7所述的控制方法，其特征在于，
10.根据权利要求7所述的控制方法，其特征在于，
11.根据权利要求10所述的控制方法，其特征在于，
12.根据权利要求3所述的控制方法，其特征在于，
13.根据权利要求12所述的控制方法，其特征在于，
14.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，
15.根据权利要求1
16.一种检测设备的控制装置，其特征在于，所述检测设备包括射线源，所述射线源包括位于绝缘环境中的射线管、以及用于驱动所述射线管的射线源控制模组，并且，所述控制装置包括：
17.一种检测设备，其特征在于，所述检测设备包括：
18.一种非瞬时计算机可读存储介质，其特征在于，所述非瞬时计算机可读存储介质存储指令，所述指令在由处理器执行时使得所述处理器执行如权利要求1至15中任一项所述的控制方法。
...【技术特征摘要】
1.一种检测设备的控制方法，其特征在于，所述检测设备包括射线源，所述射线源包括位于绝缘环境中的射线管、以及用于驱动所述射线管的射线源控制模组，并且，所述控制方法包括：
2.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的控制方法，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的控制方法，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的控制方法，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的控制方法，其特征在于，
7.根据权利要求4所述的控制方法，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的控制方法，其特征在于，
9.根据权利要求7所述的控制方法，其特征在于，
10.根据权利要求7所述的控制方法，其特征在于，
11....
【专利技术属性】
技术研发人员：周志豪，
申请(专利权)人：杭州睿影科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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