【技术实现步骤摘要】
技术介绍
1、一种扫描系统可以使用二维扫描来根据扫描图案扫描视场(fov)内的一个或多个光束。扫描系统可以使用两个扫描轴，包括被配置为以第一扫描频率在第一方向上操纵(steer)一个或多个光束的第一扫描轴和被配置为以第二扫描频率在第二方向上操纵一个或多个光束的第二扫描轴。第二扫描轴通常垂直于第一扫描轴。微机电系统(mems)扫描系统使用精准(precise)且精确(accuracy)的反馈感测，以便即使在诸如外部振动或温度变化等恶劣条件下也驱动光束的传输(transmission)定时(timing)并且使其与mems扫描仪的移动正确同步。附加地，使第一扫描频率和第二扫描频率同步对于在扫描操作期间维持特定的扫描图案是重要的。
技术实现思路
1、在一些实施方式中，一种扫描系统包括：振荡器结构，被配置为根据第一振荡关于(about)内轴振荡并且根据第二振荡关于外轴振荡；内框架，通过第一支撑结构和第二支撑结构机械耦合至振荡器结构，其中第一支撑结构和第二支撑结构沿着内轴在内框架和振荡器结构之间延伸，并且其中第一支撑结构被布置为相对于振荡器结构与第二支撑结构相对；外框架，通过第三支撑结构和第四支撑结构机械耦合至内框架，其中第三支撑结构和第四支撑结构沿着外轴在内框架和外框架之间延伸，并且其中第三支撑结构被布置为相对于振荡器结构与第四支撑结构相对；以及内轴传感器，被定位在内框架和外框架之间，其中内轴传感器被配置为：感测内框架相对于外框架的第一相对移动，并且生成与第一相对移动相对应的第一传感器信
2、在一些实施方式中，一种系统包括：旋转结构，被配置为根据第一旋转关于内轴旋转并且根据第二旋转关于外轴旋转；内框架，通过第一支撑结构和第二支撑结构机械耦合至旋转结构，其中第一支撑结构和第二支撑结构沿着内轴在内框架和旋转结构之间延伸，并且其中第一支撑结构被布置为相对于旋转结构与第二支撑结构相对；外框架，通过第三支撑结构和第四支撑结构机械耦合至内框架，其中第三支撑结构和第四支撑结构沿着外轴在内框架和外框架之间延伸，并且其中第三支撑结构被布置为相对于旋转结构与第四支撑结构相对；以及内轴传感器，被定位在内框架和外框架之间，其中内轴传感器被配置为：感测内框架相对于外框架的第一相对移动，并且生成与第一相对移动相对应的第一传感器信号，其中第一传感器信号表示旋转结构关于内轴的第一角位置。
3、在一些实施方式中，一种方法包括：根据第一振荡关于内轴驱动振荡器结构；根据第二振荡关于外轴驱动振荡器结构；以及感测内框架相对于外框架的第一相对移动，以生成与第一相对移动相对应的第一传感器信号，其中第一传感器信号表示振荡器结构关于内轴的第一角位置，其中内框架通过沿着内轴延伸的第一支撑结构而机械耦合至振荡器结构，并且其中外框架通过沿着外轴延伸的第二支撑结构而机械耦合至内框架。
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1.一种扫描系统，包括：
2.根据权利要求1所述的扫描系统，其中所述内框架和所述外框架被构造为使得所述第一振荡使所述内框架在所述内轴传感器的区域中相对于所述外框架振荡。
3.根据权利要求1所述的扫描系统，其中所述内轴传感器被布置为靠近所述外轴，使得所述内轴传感器被布置为与所述内轴相比更接近所述外轴。
4.根据权利要求1所述的扫描系统，其中所述内轴传感器是所具有的电容被配置为基于所述第一相对移动而变化的电容式传感器，其中所述第一传感器信号是所述电容的度量。
5.根据权利要求4所述的扫描系统，其中所述电容式传感器包括固定静电梳和与所述固定静电梳交错的可移动静电梳，其中所述可移动静电梳被配置为：基于所述第一相对移动，相对于所述固定静电梳移动，以使所述电容改变。
6.根据权利要求1所述的扫描系统，还包括：
7.根据权利要求6所述的扫描系统，其中所述外轴传感器被布置为关于所述内轴对称。
8.根据权利要求6所述的扫描系统，其中所述外轴传感器是所具有的电容被配置为基于所述第二相对移动而变化的电容式传感器，其中所
9.根据权利要求8所述的扫描系统，其中所述电容式传感器包括固定静电梳和与所述固定静电梳交错的可移动静电梳，其中所述可移动静电梳被配置为：基于所述第二相对移动，相对于所述固定静电梳移动，以使所述电容改变。
10.根据权利要求1所述的扫描系统，还包括：
11.根据权利要求1所述的扫描系统，还包括：
12.根据权利要求1所述的扫描系统，其中：
13.根据权利要求1所述的扫描系统，其中所述内框架包围所述振荡器结构，并且所述外框架包围所述内框架和所述振荡器结构。
14.根据权利要求1所述的扫描系统，其中所述内框架是万向节框架，并且所述外框架是半导体芯片的芯片框架。
15.根据权利要求1所述的扫描系统，其中所述振荡器结构、所述内框架和所述外框架形成一体式整体构件。
16.根据权利要求1所述的扫描系统，其中所述内轴传感器耦合至所述内框架和所述外框架。
17.一种系统，包括：
18.根据权利要求17所述的系统，其中所述内框架和所述外框架被构造为使得所述第一旋转使所述内框架在所述内轴传感器的区域中相对于所述外框架移动。
19.根据权利要求17所述的系统，其中所述内轴传感器被布置为与所述第三支撑结构或所述第四支撑结构中的至少一个相邻。
20.根据权利要求17所述的系统，其中所述内轴传感器是所具有的电容被配置为基于所述第一相对移动而变化的电容式传感器，其中所述第一传感器信号是所述电容的度量。
21.一种方法，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种扫描系统，包括：
2.根据权利要求1所述的扫描系统，其中所述内框架和所述外框架被构造为使得所述第一振荡使所述内框架在所述内轴传感器的区域中相对于所述外框架振荡。
3.根据权利要求1所述的扫描系统，其中所述内轴传感器被布置为靠近所述外轴，使得所述内轴传感器被布置为与所述内轴相比更接近所述外轴。
4.根据权利要求1所述的扫描系统，其中所述内轴传感器是所具有的电容被配置为基于所述第一相对移动而变化的电容式传感器，其中所述第一传感器信号是所述电容的度量。
5.根据权利要求4所述的扫描系统，其中所述电容式传感器包括固定静电梳和与所述固定静电梳交错的可移动静电梳，其中所述可移动静电梳被配置为：基于所述第一相对移动，相对于所述固定静电梳移动，以使所述电容改变。
6.根据权利要求1所述的扫描系统，还包括：
7.根据权利要求6所述的扫描系统，其中所述外轴传感器被布置为关于所述内轴对称。
8.根据权利要求6所述的扫描系统，其中所述外轴传感器是所具有的电容被配置为基于所述第二相对移动而变化的电容式传感器，其中所述第二传感器信号是所述电容的度量。
9.根据权利要求8所述的扫描系统，其中所述电容式传感器包括固定静电梳和与所述固定静电梳交错的可移动静电梳，其中所述可移动静电梳被配置为：基于所述第二相对移动，...
【专利技术属性】
技术研发人员：D·布伦纳，S·G·阿尔伯特，
申请(专利权)人：英飞凌科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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