【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光伏硅片加工领域，尤其涉及一种光伏硅片激光辅助烧结装置。
技术介绍
1、现有的光伏硅片在加工时需要进行高温烧结，烧结是把印刷到硅片表面的电极在高温下烧结，使电极和硅片本身形成欧姆接触，提高硅片的开路电压和填充因子，使电极的接触具有电阻特性以达到高转效率，烧结过程中也可利于pecvd工艺所引入－h向体内扩散，可以起到良好的体钝化作用。而光伏硅片在烧结后，电池片的表面会形成一层氧化硅，但该氧化硅层较厚，会影响电池的效率。
2、为了解决光伏硅片在烧结后影响电池效率，一般会通过二次烧结来提高产品的光电转换效率，提高电性能测试良率，但是现有的二次烧结装置一般是直接与一次烧结的流水线连接在一起的，这样就导致一旦二次激光烧结机构出现故障，整个流水线就要停止运行，影响整体加工效率，而且在烧结过程中，如果发现有不良产品后还需要停机人工将其取出，进一步影响加工效率。
技术实现思路
1、为了解决现有技术中在二次烧结装置出现故障时需要停运的问题，本技术提供了一种能够保证加工连续性的光伏硅片激光辅助烧结装置。
2、本技术提供了一种光伏硅片激光辅助烧结装置，包括支撑平台及设于所述支撑平台上端的上料传送带、硅片搬运机构、下料仓和二次烧结机构，所述下料仓设于所述上料传送带一侧，所述硅片搬运机构包括横跨所述上料传送带与所述下料仓上方的支撑横梁及设于所述支撑横梁下端且能够平移的机械手，所述二次烧结机构包括设于所述上料传送带终端的上料机构。
3、作为本技术的进一步改进，所述
4、作为本技术的进一步改进，所述二次烧结机构还包括下料机构、设于所述上料机构与所述下料机构之间的载料转盘及位于所述载料转盘上方的视觉检测机构和激光烧结机构，所述载料转盘外围设有多个分别与所述视觉检测机构、激光烧结机构、上料机构及下料机构位置对应的载料平台，所述载料平台设有产品固定机构。
5、作为本技术的进一步改进，所述上料机构包括上料平台及能够旋转且垂直设置的传送带下料摆臂和烧结上料摆臂，所述传送带下料摆臂自由端设有能够往返所述上料传送带终端及所述上料平台的输送带下料吸盘，所述烧结上料摆臂自由端设有能够往返所述上料平台及与所述上料机构位置对应的载料平台的烧结上料吸盘。
6、作为本技术的进一步改进，所述下料机构包括下料输送带及能够旋转的烧结下料摆臂，所述烧结下料摆臂自由端设有能够往返所述下料输送带始端及与所述下料机构位置对应的载料平台的烧结下料吸盘。
7、作为本技术的进一步改进，所述下料机构还包括不良料仓，所述不良料仓设于所述下料输送带一侧，所述烧结下料吸盘还能够往返所述不良料仓及与所述下料机构位置对应的载料平台。
8、作为本技术的进一步改进，所述硅片搬运机构为两组、且平行设置，所述下料仓及所述上料仓也分别设有两个，且与两组所述硅片搬运机构位置分别对应。
9、作为本技术的进一步改进，所述激光烧结机构包括第一激光烧结机构及第二激光烧结机构
10、作为本技术的进一步改进，所述二次烧结机构还包括用于驱动所述载料转盘旋转的转盘驱动机构。
11、作为本技术的进一步改进，所述上料平台设有产品夹持定位机构。
12、本技术的有益效果是：本技术能够在二次烧结机构出现故障时通过硅片搬运机构的机械手将上料传送带上的产品吸取然后将其平移到下料仓处对其产品进行下料，这样上一工序处的设备就可以不用停工，保证了产品加工的连续性，进而确保了产品的加工效率。
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1.一种光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：包括支撑平台及设于所述支撑平台上端的上料传送带、硅片搬运机构、下料仓和二次烧结机构，所述下料仓设于所述上料传送带一侧，所述硅片搬运机构包括横跨所述上料传送带与所述下料仓上方的支撑横梁及设于所述支撑横梁下端且能够平移的机械手，所述二次烧结机构包括设于所述上料传送带终端的上料机构。
2.根据权利要求1所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述支撑平台上位于所述上料传送带另一侧还设有上料仓，所述上料仓设于所述支撑横梁下方。
3.根据权利要求1所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述二次烧结机构还包括下料机构、设于所述上料机构与所述下料机构之间的载料转盘及位于所述载料转盘上方的视觉检测机构和激光烧结机构，所述载料转盘外围设有多个分别与所述视觉检测机构、激光烧结机构、上料机构及下料机构位置对应的载料平台，所述载料平台设有产品固定机构。
4.根据权利要求3所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述上料机构包括上料平台及能够旋转且垂直设置的传送带下料摆臂和烧结上料摆臂，所述传送带下料摆臂自由端
5.根据权利要求4所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述下料机构包括下料输送带及能够旋转的烧结下料摆臂，所述烧结下料摆臂自由端设有能够往返所述下料输送带始端及与所述下料机构位置对应的载料平台的烧结下料吸盘。
6.根据权利要求5所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述下料机构还包括不良料仓，所述不良料仓设于所述下料输送带一侧，所述烧结下料吸盘还能够往返所述不良料仓及与所述下料机构位置对应的载料平台。
7.根据权利要求2所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述硅片搬运机构为两组、且平行设置，所述下料仓及所述上料仓也分别设有两个，且与两组所述硅片搬运机构位置分别对应。
8.根据权利要求3所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述激光烧结机构包括第一激光烧结机构及第二激光烧结机构。
9.根据权利要求3所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述二次烧结机构还包括用于驱动所述载料转盘旋转的转盘驱动机构。
10.根据权利要求4所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述上料平台设有产品夹持定位机构。
...【技术特征摘要】
1.一种光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：包括支撑平台及设于所述支撑平台上端的上料传送带、硅片搬运机构、下料仓和二次烧结机构，所述下料仓设于所述上料传送带一侧，所述硅片搬运机构包括横跨所述上料传送带与所述下料仓上方的支撑横梁及设于所述支撑横梁下端且能够平移的机械手，所述二次烧结机构包括设于所述上料传送带终端的上料机构。
2.根据权利要求1所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述支撑平台上位于所述上料传送带另一侧还设有上料仓，所述上料仓设于所述支撑横梁下方。
3.根据权利要求1所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述二次烧结机构还包括下料机构、设于所述上料机构与所述下料机构之间的载料转盘及位于所述载料转盘上方的视觉检测机构和激光烧结机构，所述载料转盘外围设有多个分别与所述视觉检测机构、激光烧结机构、上料机构及下料机构位置对应的载料平台，所述载料平台设有产品固定机构。
4.根据权利要求3所述的光伏硅片激光辅助烧结装置，其特征在于：所述上料机构包括上料平台及能够旋转且垂直设置的传送带下料摆臂和烧结上料摆臂，所述传送带下料摆臂自由端设有能够往返所述上料传送带终端及所述上料平台的输送带下料吸盘，所述烧结上料摆臂自由端设有能...
【专利技术属性】
技术研发人员：邹武兵，傅家伟，黄照锋，张峰源，
申请(专利权)人：深圳市韵腾激光科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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