【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于涂层技术，具体地说，涉及用于电力金具表面防护的镀层方法及装置。
技术介绍
1、当涉及到电力金具的表面防护时，传统的技术和方法已经面临一系列挑战。这些挑战包括提高表面保护性能、增强耐磨性、提高抗腐蚀性、提高工艺效率以及保证质量等方面的需求。
2、传统的电力金具防护方法通常无法提供足够的表面保护，导致电力金具容易受到外部环境因素的损害，如腐蚀、磨损和化学侵蚀。这可能导致金具的性能下降和寿命减短。在一些特殊工作环境下，电力金具需要具备卓越的耐磨性，以抵御摩擦和磨损的影响。传统的表面处理方法往往无法提供足够的耐磨性，导致金具过早失效。在含有化学腐蚀物质的环境中，电力金具表面的抗腐蚀性至关重要。传统方法可能无法提供足够的抗腐蚀性，从而导致电力金具的腐蚀和损坏。传统的涂层和处理方法可能效率低下，需要较长的处理时间和更多的 人力资源。这会增加生产成本并降低工作效率。由于电力金具可能需要频繁的维护和更换，维护成本可能会占用大量资源和资金。
3、针对以上问题的影响，现代的复合镀层技术、磁控溅射技术的综合应用，以及多靶同时沉积和闭合磁场的创新设计，旨在解决这些问题，提供卓越的表面保护、耐磨性、抗腐蚀性和高效工艺，以应对不同工作环境下电力金具的需求。这些技术的进步将有助于提高电力金具的性能、可靠性和经济性，减少维护成本，延长使用寿命。
4、有鉴于此特提出本专利技术。
技术实现思路
1、为解决上述技术问题，本专利技术采用技术方案的基本构思是：
3、s1、对电力金具表面清洁处理；
4、s2、将清洁后的电力金具放入镀膜室中，设置电力金具、电弧离子镀源和磁控溅射镀源的位置，并设置磁控溅射镀源的电极布局，创建闭合磁场；
5、s3、控制铬靶镀膜并配合灯丝辅助发射电子，在电力金具表面形成一层厚度均匀的铬层；
6、s4、电弧离子源控制铬硅靶或铬钨靶，磁控溅射源控制锆靶或铬靶，配合氮气通入，经由电弧离子源和磁控溅射源发射依次交替沉积形成crsin/zrn的混合交替层并最后通过电弧离子源沉积的crsin作为面层， 或由电弧离子源和磁控溅射源发射依次交替沉积形成crw/crn的混合交替层并最后通过电弧离子源沉积的crw作为面层。
7、作为进一步的方案，所述电力金具表面清洁处理包括以下步骤：
8、s1.1、通过刷洗去除电力金具表面的大颗粒污垢和杂质；
9、s1.2、选取ph值在1-3之间的酸性清洗溶剂，包括硫酸、盐酸和硝酸浸泡15-60min去除电力金具表面的氧化物；
10、s1.3、将去除氧化物的电力金具通过纯净水冲洗至完全去除酸性清洗溶剂；
11、s1.4、冲洗后的电力金具浸泡在去离子水中5-30min去除残留粒子和微小颗粒物质；
12、s1.5、将电力金具在真空烘箱中于50-100℃直至完全干燥。
13、作为进一步的方案，所述电力金具表面的铬层厚度在8-20μm。
14、作为进一步的方案，所述闭合磁场的电极布局包括：在平面形的非平衡的磁控溅射靶内安装强磁体材料n(s)，与强磁材料相连的磁极靴是弱磁体材料s(n)；
15、相邻的非平衡磁控溅射靶强磁体材料n、s的磁极性相反排列，相邻的磁场之间的磁力线相互交联，形成闭合磁场形式且电力金具位置在闭合磁场的中心。
16、作为进一步的方案，所述磁控溅射采用多靶同时沉积。
17、作为进一步的方案，一种用于电力金具表面防护的镀层装置，使用如上所述的一种用于电力金具表面防护的镀层方法，包括：
18、主架；
19、两个侧架；
20、所述侧架位于主架的一侧密封贴合；
21、所述主架与两侧贴合设置的侧架形成镀膜室；
22、若干个平面双靶溅射磁控和若干个平面双靶离子镀控；
23、所述平面双靶溅射磁控均匀分布于镀膜室的内壁，用于形成均匀的闭合磁场；
24、若干个灯丝；
25、所述灯丝位于对应两个平面双靶溅射磁控之间，用于发射电子辅助镀膜；
26、开口；
27、所述开口位于主架的一侧开设，用于镀膜室的连通。
28、作为进一步的方案，所述平面双靶离子镀控与开口沿镀膜室内壁环周均匀分布。
29、作为进一步的方案，所述平面双靶溅射磁控的两侧均设置有用于均匀扩大磁场范围磁场延伸板。
30、作为进一步的方案，所述主架的内壁转动设置有用于电力金具放置的转架。
31、有益效果：
32、采用电弧离子镀和磁控溅射的结合，包括crsin/zrn或crw/crn材料的交替沉积，缓解膜层应力，提高了电力金具的抗腐蚀性能，有助于在恶劣环境中长期稳定运行，多靶同时沉积和闭合磁场设计提高了镀层效率，闭合磁场可以向工件前方延伸，又可以向周边延伸。提高镀膜空间的等离子体密度，膜层粒子的整体能量高，有利于镀制优异的薄膜材料，同时增加灯丝辅助，发射电子，有效提高了磁控溅射离化率，使得整个过程更加高效。
33、下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步详细的描述。
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1.一种用于电力金具表面防护的镀层方法，其特征在于，包括以下方法：
2.根据权利要求1所述的一种用于电力金具表面防护的镀层方法，其特征在于，所述电力金具表面清洁处理包括以下步骤：
3.根据权利要求1所述的一种用于电力金具表面防护的镀层方法，其特征在于，所述电力金具表面的铬层厚度在8-20μm。
4.根据权利要求1所述的一种用于电力金具表面防护的镀层方法，其特征在于，所述闭合磁场的电极布局包括：在平面形的非平衡的磁控溅射靶内安装强磁体材料N(S)，与强磁材料相连的磁极靴是弱磁体材料S(N)；
5.根据权利要求1所述的一种用于电力金具表面防护的镀层方法，其特征在于，所述磁控溅射采用多靶同时沉积。
6.一种用于电力金具表面防护的镀层装置，使用根据权利要求1-5任一项所述的一种用于电力金具表面防护的镀层方法，其特征在于，包括：
7.根据权利要求6所述的一种用于电力金具表面防护的镀层装置，其特征在于，所述平面双靶离子镀控（8）与开口（6）沿镀膜室内壁环周均匀分布。
8.根据权利要求6所述的一种用于电力金具表
9.根据权利要求6所述的一种用于电力金具表面防护的镀层装置，其特征在于，所述主架（1）的内壁转动设置有用于电力金具放置的转架（4）。
...【技术特征摘要】
1.一种用于电力金具表面防护的镀层方法，其特征在于，包括以下方法：
2.根据权利要求1所述的一种用于电力金具表面防护的镀层方法，其特征在于，所述电力金具表面清洁处理包括以下步骤：
3.根据权利要求1所述的一种用于电力金具表面防护的镀层方法，其特征在于，所述电力金具表面的铬层厚度在8-20μm。
4.根据权利要求1所述的一种用于电力金具表面防护的镀层方法，其特征在于，所述闭合磁场的电极布局包括：在平面形的非平衡的磁控溅射靶内安装强磁体材料n(s)，与强磁材料相连的磁极靴是弱磁体材料s(n)；
5.根据权利要求1所述的一种用于电力金具表面防护的镀层方法，其特征在于，所述磁控...
【专利技术属性】
技术研发人员：任永琼，郑革，陈敏，方伟，
申请(专利权)人：永固集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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