【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
技术实现思路
【技术保护点】
1.一种具有构件主体(2)的构件(1)，在所述构件主体中形成有至少一个空腔(3)，其中，所述构件主体(2)的界定所述空腔(3)的壁面(4)至少部分涂有涂层(10)，其中，所述构件(1)的设计基于
2.根据权利要求1所述的构件(1)，其特征是，
3.根据权利要求2所述的构件(1)，其特征是，所述预涂层(11)的所述母材(M2)的所述微观结构(K2)具有0.1μm至100μm、优选0.2μm至60μm、更优选0.5μm至30μm、还更优选0.8μm至8μm且尤其最好是1μm至6μm的初级粒度。
4.根据前述权利要求2或3所述的构件(1)，其特征是，所述预制体(5)的所述母材(M1)的所述微观结构(K1)具有0.1μm至500μm、优选0.2μm至400μm、更优选0.5μm至300μm、还更优选1μm至250μm且尤其最好是2μm至200μm的初级粒度。
5.根据前述权利要求中任一项所述的构件(1)，其特征是，所述预涂层(11)具有比所述预制体(5)小的相对于浸渍物(M3)的浸渍趋势。
6.根据前述权利要求中任一项所述的构件
7.根据前述权利要求中任一项所述的构件(1)，其特征是，所述预制体(5)相比于所述预涂层(11)具有更高含量的用于所述浸渍物(M3)的反应参与物，并且尤其在所述预制体(5)内的所述母材(M1)内与所述反应参与物反应的所述浸渍物(M3)占自由浸渍物(M3)的含量大于在所述预涂层(11)的所述母材(M2)内。
8.根据前述权利要求中任一项所述的构件(1)，其特征是，所述空腔(3)形成通道或通道结构。
9.根据前述权利要求中任一项所述的构件(1)，其特征是，所述预制体(5)的所述无机母材(M1)至少基本上或完全由如下材料组构成：碳化硅、碳化硼、金刚石、硅化钼、氮化硅、碳化钛、碳化锆、氮化铝、碳化钨或这些材料的组合。
10.根据前述权利要求中任一项所述的构件(1)，其特征是，所述浸渍物(M3)是硅或硅尤其与铝和/或硼和/或铜的合金。
11.根据前述权利要求中任一项所述的构件(1)，其特征是，所述预涂层(11)
12.根据前述权利要求中任一项所述的构件(1)，其特征是，所述预涂层(11)由至少基本上涂覆材料构成，所述涂覆材料对应于所述预制体(5)的材料。
13.一种装置(20)，所述装置具有根据前述权利要求中任一项所述的构件(1)和通过流体管路与所述构件(1)的所述空腔(3)连通的流体输送装置(21)。
14.一种用于制造具有构件主体(2)的构件(1)的方法，在所述构件主体内形成至少一个空腔(3)，所述方法包括以下步骤：
15.根据权利要求14所述的方法，其特征是，
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种具有构件主体(2)的构件(1)，在所述构件主体中形成有至少一个空腔(3)，其中，所述构件主体(2)的界定所述空腔(3)的壁面(4)至少部分涂有涂层(10)，其中，所述构件(1)的设计基于
2.根据权利要求1所述的构件(1)，其特征是，
3.根据权利要求2所述的构件(1)，其特征是，所述预涂层(11)的所述母材(m2)的所述微观结构(k2)具有0.1μm至100μm、优选0.2μm至60μm、更优选0.5μm至30μm、还更优选0.8μm至8μm且尤其最好是1μm至6μm的初级粒度。
4.根据前述权利要求2或3所述的构件(1)，其特征是，所述预制体(5)的所述母材(m1)的所述微观结构(k1)具有0.1μm至500μm、优选0.2μm至400μm、更优选0.5μm至300μm、还更优选1μm至250μm且尤其最好是2μm至200μm的初级粒度。
5.根据前述权利要求中任一项所述的构件(1)，其特征是，所述预涂层(11)具有比所述预制体(5)小的相对于浸渍物(m3)的浸渍趋势。
6.根据前述权利要求中任一项所述的构件(1)，其特征是，所述浸渍物(m3)具有熔融异常，使得其在凝固时膨胀。
7.根据前述权利要求中任一项所述的构件(1)，其特征是，所述预制体(5)相比于所述预涂层(11)具有更高含量的用于所述浸渍物(m3)的反应参与物，并...
【专利技术属性】
技术研发人员：L·施奈特，P·金特，C·米纳斯·帕亚米尔，D·科斯伯格，
申请(专利权)人：崇克工程陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：
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