【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种半导体酸蚀槽密封门装置。
技术介绍
1、现有的酸蚀槽密封门大多分为两类，一类为传统的气缸翻盖式、一类为滑动式。
2、该两种传统结构，对于设备放置的空间要求会较大，比较浪费空间。且酸雾导致的密封门内侧存在冷凝的酸液，开合密封门后，还需要单独对于产生的液滴做收集处理。不但会增大酸液使用的损耗，而且也会增加了酸液泄露的风险。
3、滑动式密封门，还会因为有导向滑动，导向与接触面摩擦会产生较大的噪音；
4、气缸翻盖式密封门，气缸单侧拉起密封门，密封门受力较易产生形变，长期使用后会导致密封门的密封性能变差，有毒的酸雾、酸液将会泄露到空气中，严重污染环境，危害工作人员健康。
技术实现思路
1、本技术所要解决的技术问题是提供一种能有效防止酸雾扩散，减少酸液的损耗的半导体酸蚀槽密封门装置。
2、本技术是通过以下技术方案来实现的：
3、一种半导体酸蚀槽密封门装置，包括设置于酸蚀槽顶部的槽框，槽框的尺寸大于酸蚀槽的开口尺寸，在槽框的侧面安...
【技术保护点】
1.一种半导体酸蚀槽密封门装置，其特征在于：包括设置于酸蚀槽顶部的槽框，槽框的尺寸大于酸蚀槽的开口尺寸，在槽框的侧面安装有定位板，在定位板的底部安装有伸缩机构，伸缩机构的伸缩端向上穿过所述定位板，所述伸缩机构的伸缩端处安装有顶升板，通过所述顶升板转动配合有槽盖，所述伸缩机构向上顶出时，所述顶升板向上移动，此时的槽盖转动后打开所述槽框，在所述伸缩机构回缩时，所述槽盖转动后封闭所述槽框。
2.根据权利要求1所述的半导体酸蚀槽密封门装置，其特征在于：在所述槽框的顶部前、后平行设置有两块导向轨道，所述导向轨道的上端加工形成导向面，所述槽盖的前后端设置有导向轮，所述...
【技术特征摘要】
1.一种半导体酸蚀槽密封门装置，其特征在于：包括设置于酸蚀槽顶部的槽框，槽框的尺寸大于酸蚀槽的开口尺寸，在槽框的侧面安装有定位板，在定位板的底部安装有伸缩机构，伸缩机构的伸缩端向上穿过所述定位板，所述伸缩机构的伸缩端处安装有顶升板，通过所述顶升板转动配合有槽盖，所述伸缩机构向上顶出时，所述顶升板向上移动，此时的槽盖转动后打开所述槽框，在所述伸缩机构回缩时，所述槽盖转动后封闭所述槽框。
2.根据权利要求1所述的半导体酸蚀槽密封门装置，其特征在于：在所述槽框的顶部前、后平行设置有两块导向轨道，所述导向轨道的上端加工形成导向面，所述槽盖的前后端设置有导向轮，所述导向轮作用于两侧的导向轨道上，并通过所述导向面引导移动，当所述伸缩机构回缩至极限位时，所述导向轮沿着所述导向面滑移至左端，此时的槽盖处于水平状态，且封闭所述槽框，当所述伸缩机构向上顶出至极限时，所述导向轮滑移至接近所述导向面的右端，此时的...
【专利技术属性】
技术研发人员：袁烽文，刘展波，丁玉清，闵元元，凌师海，
申请(专利权)人：深圳市鑫承诺环保产业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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