一种用于低聚反应的装置和低聚方法及应用制造方法及图纸

技术编号:41257420 阅读:18 留言:0更新日期:2024-05-11 09:16
本发明专利技术公开了一种用于低聚反应的装置和低聚方法及应用。该反应器包括釜体、在釜体内部的从上之下设置的液体进料腔、气液混合喷射部件、反应腔以及垂直的搅拌轴;釜体的表面且于液体进料腔位置设置第一溶剂进料口;釜体的表面且于气液混合喷射部件位置设置烯烃进料口;釜体的表面且于反应腔位置设置主催化剂进料口、第二溶剂进料口和助催化剂进料口;第一溶剂进料口通入液体进料腔的第一溶剂进入气液混合喷射部件,并与烯烃进料口通入的烯烃在气液混合喷射部件进行混合,然后喷射至反应腔并与主催化剂、第二溶剂和助催化剂进行反应。本发明专利技术反应器和方法可以有效防止烯烃入口处积垢,反应器能长时间稳定地运转。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及低聚反应领域,具体涉及一种用于低聚反应的装置和低聚方法及应用


技术介绍

1、低聚反应是将一种或多种反应物转化为一种或多种产物。反应通常在低聚反应器中进行,在所述反应器中加入反应物。反应物通常在与反应器接触时可以与其他组分(例如,其他反应物和/或催化剂)反应,形成不合需要的副产物(如聚合物),且在一些情况下,副产物可作为积垢在反应器物料入口处累积,影响反应连续进行。例如,在乙烯四聚反应中,在乙烯入口处会出现乙烯局部高浓度的情况,在某些条件下,高浓度乙烯与催化剂系统的接触会产生高聚产物,所述高聚产物积聚在乙烯入口端部,会影响反应过程,甚至堵塞乙烯入口。

2、为解决结垢问题,绝大部分工艺采用添加抑制剂的方法,例如,美国专利us10870098b2,将含有熔点为30-130℃的石油基蜡或聚烯烃蜡的结垢抑制剂注入反应器中,中国专利申请cn114206814a,公开了一种减少提质反应器中的结垢的方法,其包括在粒径d50小于100微米的结垢抑制剂的存在下在提质反应器内提质c2至c4烃并在提质过程中形成线性α烯烃和聚合物,其中结垢抑制剂改变聚合本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于低聚反应的反应器,该反应器包括釜体(1)、在釜体(1)内部的从上之下设置的液体进料腔(2)、气液混合喷射部件(3)、反应腔(4)以及垂直的搅拌轴(5);所述釜体(1)的表面且于液体进料腔(2)位置设置第一溶剂进料口(11);所述釜体(1)的表面且于气液混合喷射部件(3)位置设置烯烃进料口(12);所述釜体(1)的表面且于反应腔(4)位置设置主催化剂进料口(13)、第二溶剂进料口(14)和助催化剂进料口(15)。

2.根据权利要求1所述的反应器,其特征在于,第一溶剂进料口(11)通入液体进料腔(2)的第一溶剂进入气液混合喷射部件(3),并与烯烃进料口(12)通入的烯...

【技术特征摘要】

1.一种用于低聚反应的反应器,该反应器包括釜体(1)、在釜体(1)内部的从上之下设置的液体进料腔(2)、气液混合喷射部件(3)、反应腔(4)以及垂直的搅拌轴(5);所述釜体(1)的表面且于液体进料腔(2)位置设置第一溶剂进料口(11);所述釜体(1)的表面且于气液混合喷射部件(3)位置设置烯烃进料口(12);所述釜体(1)的表面且于反应腔(4)位置设置主催化剂进料口(13)、第二溶剂进料口(14)和助催化剂进料口(15)。

2.根据权利要求1所述的反应器,其特征在于,第一溶剂进料口(11)通入液体进料腔(2)的第一溶剂进入气液混合喷射部件(3),并与烯烃进料口(12)通入的烯烃在气液混合喷射部件(3)进行混合,然后喷射至反应腔(4)并与主催化剂进料口(13)通入的主催化剂、第二溶剂进料口(14)通入的第二溶剂和助催化剂进料口(15)通入的助催化剂形成的混合液接触进行反应。

3.根据权利要求1或2所述的反应器,其特征在于,所述气液混合喷射部件(3)包括从上至下设置的液体分布板(31)、至少一组喷射器(32)和气体分布板(33),其中,每组所述喷射器(32)包括混合室(321),混合室(321)的同轴中心设置液体支管(322)和喷嘴(323)、混合室(321)的侧壁设置气体入口(324)、混合室(321)的内部设置静态混合器,混合室(321)的下端依次设置喉管(325)和扩散室(326);

4.根据权利要求3所述的反应器,其特征在于,混合室(321)、液体支管(322)、喷嘴(323)、喉管(325)和扩散室(326)的中心轴线位于同一直线。

5.根据权利要求3所述的反应器,其特征在于,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡嵩霜吴春红吴红飞王霄青潘峰郑明芳冯贺英
申请(专利权)人:中国石油化工股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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