【技术实现步骤摘要】
本申请涉及物料输送的，特别涉及一种输送控制方法、输送装置及加工系统。
技术介绍
1、pvd(physical vapor deposition，物理气相沉积)设备通常包括有第一腔、第二腔以及输送带。在连续化生产中，多个物料需要依次输送至第一腔进行预热，在预热过程中，物料需要在第一腔内停留指定的时间。在预热完成后，由输送带将多个物料依次输送至第二腔。第二腔对多个物料进行pvd镀膜。
2、但是，第二腔中的多个物料在镀膜过程中需要保持向前移动，而位于第一腔内的物料需则要停留一段时间进行预热，则会存在上一个物料继续向前移动、下一个物料暂停移动的情况，导致进入第二腔的上一个物料与下一个物料之间的间距较大，提高了第二腔中靶材的无效耗费量，增加生产成本。
技术实现思路
1、鉴于以上内容，有必要提供一种输送控制方法、输送装置及加工系统，以解决上述缺陷。
2、第一方面，本申请的实施例提供一种输送控制方法，应用于输送装置；输送装置包括：n个输送带，沿输送方向间隔排布，用于沿输送方向依次...
【技术保护点】
1.一种输送控制方法，其特征在于，应用于输送装置；所述输送装置包括：
2.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述第一模式包括：以第一速度输送所述物料；
3.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送装置包括位置检测模组，所述位置检测模组用于监测所述输送装置上所有所述物料的位置。
4.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送带包括长距输送带，所述长距输送带接近于所述第一腔；在所述输送方向上，所述长距输送带的长度大于所述物料的长度。
5.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送带包...
【技术特征摘要】
1.一种输送控制方法，其特征在于，应用于输送装置；所述输送装置包括：
2.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述第一模式包括：以第一速度输送所述物料；
3.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送装置包括位置检测模组，所述位置检测模组用于监测所述输送装置上所有所述物料的位置。
4.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送带包括长距输送带，所述长距输送带接近于所述第一腔；在所述输送方向上，所述长距输送带的长度大于所述物料的长度。
5.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送带包括短距输送带，所述短距输送带接近于所述第二腔；在所述输送方向上，所述短距输...
【专利技术属性】
技术研发人员：祁文杰，卢秋霞，林佳继，
申请(专利权)人：拉普拉斯西安科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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