【技术实现步骤摘要】
本申请涉及物料输送的，特别涉及一种输送控制方法、输送装置及加工系统。
技术介绍
1、pvd(physical vapor deposition，物理气相沉积)设备通常包括有第一腔、第二腔以及输送带。在连续化生产中，多个物料需要依次输送至第一腔进行预热，在预热过程中，物料需要在第一腔内停留指定的时间。在预热完成后，由输送带将多个物料依次输送至第二腔。第二腔对多个物料进行pvd镀膜。
2、但是，第二腔中的多个物料在镀膜过程中需要保持向前移动，而位于第一腔内的物料需则要停留一段时间进行预热，则会存在上一个物料继续向前移动、下一个物料暂停移动的情况，导致进入第二腔的上一个物料与下一个物料之间的间距较大，提高了第二腔中靶材的无效耗费量，增加生产成本。
技术实现思路
1、鉴于以上内容，有必要提供一种输送控制方法、输送装置及加工系统，以解决上述缺陷。
2、第一方面，本申请的实施例提供一种输送控制方法，应用于输送装置；输送装置包括：n个输送带，沿输送方向间隔排布，用于沿输送方向依次输送多个物料，n≥2；在输送方向上，相邻两个输送带之间的间距小于物料的长度；其中，第一输送带位于第一腔的出口处，第n输送带位于第二腔；第一腔与第二腔沿输送方向依次设置；输送控制方法包括：响应于第m输送带与第m+1输送带同时输送同一物料，控制第m输送带处于与第m+1输送带相同的工作模式，1≤m＜n；其中，工作模式包括第一模式和第二模式，第二模式的平均输送速度大于第一模式的平均输送速度，第n输送带处于
3、在一些实施例中，第一模式包括：以第一速度输送物料；第二模式包括：以第二速度输送物料并计算加速时间，当加速时间达到预设的时间阈值后，以第一速度输送物料，其中，第二速度大于第一速度。
4、在一些实施例中，输送装置包括位置检测模组，位置检测模组用于监测输送装置上所有物料的位置。
5、在一些实施例中，输送带包括长距输送带，长距输送带接近于第一腔；在输送方向上，长距输送带的长度大于物料的长度。
6、在一些实施例中，输送带包括短距输送带，短距输送带接近于第二腔；在输送方向上，短距输送带的长度小于物料的长度。
7、在一些实施例中，输送装置还包括设置于第一腔的预热传输带；输送控制方法还包括：响应于满足预热条件，控制预热传输带将物料输送至第一输送带；预热条件包括：上一个物料抵达预设的目标位置，其中，物料从预热传输带输送至目标位置的输送时间与预热物料所需要的时间相对应。
8、在一些实施例中，目标位置位于第一输送带远离第一腔的一端；在输送方向上，第一输送带的长度大于物料的长度。
9、在一些实施例中，预热条件还包括：第一输送带上不存在物料。
10、第二方面，本申请的实施例提供一种输送装置，输送装置包括：n个输送带，沿输送方向间隔排布，用于沿输送方向依次输送多个物料，n≥2；在输送方向上，相邻两个输送带之间的间距小于物料的长度；其中，第一输送带用于接收来自第一腔的物料，第n输送带位于第二腔；第一腔与第二腔沿输送方向依次设置；控制器，与输送带通信连接，控制器用于执行如第一方面提供的输送控制方法。
11、第三方面，本申请的实施例提供一种加工系统，加工系统包括第一腔、第二腔，及如第二方面提供的输送装置，输送装置用于输送物料。
12、本申请实施例提供在一些实施例中、输送装置及加工系统，通过n个输送带沿输送方向依次输送多个物料，在第m输送带与第m+1输送带同时输送同一物料的情况下，第m输送带需要控制与第m+1输送带相同的工作模式，使第m输送带、第m+1输送带以相同的输送速度工作，防止物料发生打滑。在第m输送带与第m+1输送带未同时输送同一物料的情况下，若第m输送带与第m+1输送带互不干涉，此时第m输送带相对于第m+1输送带能够以较快的输送速度工作，以使第m输送带承载的下一个物料能够追赶第m+1输送带承载的上一个物料。在多个物料沿输送方向依次经过多个输送带时，使得多个物料之间实现间歇性地加速追赶，能够在不影响第二腔内物料匀速移动的情况下，缩短进入第二腔的多个物料之间的物料间距，有效减少靶材穿过物料间距镀在腔壁上的数量，从而减少靶材的无效耗费量，降低生产成本，同时减少了对第二腔腔壁的污染，减少了设备维护时间，从而提高镀膜效率和设备产能。
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1.一种输送控制方法，其特征在于，应用于输送装置；所述输送装置包括：
2.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述第一模式包括：以第一速度输送所述物料；
3.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送装置包括位置检测模组，所述位置检测模组用于监测所述输送装置上所有所述物料的位置。
4.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送带包括长距输送带，所述长距输送带接近于所述第一腔；在所述输送方向上，所述长距输送带的长度大于所述物料的长度。
5.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送带包括短距输送带，所述短距输送带接近于所述第二腔；在所述输送方向上，所述短距输送带的长度小于所述物料的长度。
6.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送装置还包括设置于所述第一腔的预热传输带；所述输送控制方法还包括：
7.如权利要求6所述的输送控制方法，其特征在于，所述目标位置位于所述第一输送带远离所述第一腔的一端；在所述输送方向上，所述第一输送带的长度大于所述物料的长度。
<...【技术特征摘要】
1.一种输送控制方法，其特征在于，应用于输送装置；所述输送装置包括：
2.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述第一模式包括：以第一速度输送所述物料；
3.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送装置包括位置检测模组，所述位置检测模组用于监测所述输送装置上所有所述物料的位置。
4.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送带包括长距输送带，所述长距输送带接近于所述第一腔；在所述输送方向上，所述长距输送带的长度大于所述物料的长度。
5.如权利要求1所述的输送控制方法，其特征在于，所述输送带包括短距输送带，所述短距输送带接近于所述第二腔；在所述输送方向上，所述短距输...
【专利技术属性】
技术研发人员：祁文杰，卢秋霞，林佳继，
申请(专利权)人：拉普拉斯西安科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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