一种用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构制造技术

本技术涉及薄膜传感器技术领域，特别涉及一种用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，包括外圈压紧结构、内圈压紧结构、支撑结构和紧固件，所述外圈压紧结构为一内圈设有凸台的圆环结构且放置在金属掩模版上方，所述凸台压紧所述金属掩模版外圈部，所述内圈压紧结构放置在所述金属掩模版上方，所述支撑结构设置在所述金属掩模版的下方，所述紧固件依次穿过内圈压紧结构、金属掩模版和支撑结构。本技术整体采用机械压紧的方式实现对金属掩模版的固定，确保制备应变敏感栅薄膜时各位置的敏感栅结构能够精准转移到待镀膜区域，获得性能优良的薄膜应变式传感器。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及薄膜传感器，特别涉及一种用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构。

技术介绍

1、薄膜式应变传感器由于其厚度在微米甚至纳米级别，对变形的测量灵敏度、准确程度相对于粘接应变片有大幅提升，并且不会对基底的变形产生影响，能够实现对应变变化迅速、准确的测量，同时由于薄膜式应变传感器与弹性体之间仅有一层微米级绝缘膜，容易通过弹性体散热，因此允许通过比其他种类应变片更高的电流，获得更大的输出信号，常用于航空航天、机器人等领域。

2、目前在制备薄膜式传感器的应变敏感栅图形过程中，由于金属掩模版未能与待镀膜区域完全贴合，导致制备的应变敏感栅结构、尺寸与金属掩模版待转移的尺寸不一致，且局部位置存在衍射现象，极大影响了薄膜传感器的输出性能。

技术实现思路

1、本技术解决了相关技术中的问题，提出一种用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，通过外圈压紧结构压紧金属掩模版的外侧，通过内圈压紧结构将金属掩模版的内侧与待镀膜区域压紧，通过支撑结构保证金属掩模版在受内圈压紧结构压紧时不产生向内的凹陷，确保制备应变敏感栅薄膜时各位置的敏感栅结构能够精准转移到待镀膜区域，获得性能优良的薄膜应变式传感器。

2、为了解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：一种用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，包括外圈压紧结构、内圈压紧结构、支撑结构和紧固件，所述外圈压紧结构为一内圈设有凸台的圆环结构且放置在金属掩模版上方，所述凸台压紧所述金属掩模版外圈部，所述内圈压紧结构放置在所述金属掩模版上方，所述支撑结构设置在所述金属掩模版的下方，所述紧固件依次穿过内圈压紧结构、金属掩模版和支撑结构。

3、作为优选方案，所述内圈压紧结构为一带有中心通孔的圆盘结构。

4、作为优选方案，所述支撑结构为一带有中心通孔的圆柱结构。

5、作为优选方案，所述金属掩模版为一带中心通孔的圆形结构且外圈设有镂空结构；所述金属掩模版放置在柔轮的法兰凹槽上。

6、作为优选方案，所述外圈压紧结构与柔轮通过螺栓固定连接。

7、作为优选方案，所述紧固件为平头螺钉，所述平头螺钉依次穿过内圈压紧结构、金属掩模版和支撑结构并固定在用于真空磁控溅射镀膜的托盘表面且与托盘中心位置的螺纹锁紧。

8、与现有技术相比，本技术的有益效果是：本技术整体采用机械压紧的方式实现对金属掩模版的固定，通过外圈压紧结构压紧金属掩模版的外侧，通过内圈压紧结构将金属掩模版的内侧与待镀膜区域压紧，通过支撑结构保证金属掩模版在受内圈压紧结构压紧时不产生向内的凹陷，确保制备应变敏感栅薄膜时各位置的敏感栅结构能够精准转移到待镀膜区域，获得性能优良的薄膜应变式传感器。

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【技术保护点】

1.一种用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，其特征在于：包括外圈压紧结构(2)、内圈压紧结构(3)、支撑结构(7)和紧固件(4)，所述外圈压紧结构(2)为一内圈设有凸台的圆环结构且放置在金属掩模版(5)上方，所述凸台压紧所述金属掩模版(5)外圈部，所述内圈压紧结构(3)放置在所述金属掩模版(5)上方，所述支撑结构(7)设置在所述金属掩模版(5)的下方，所述紧固件(4)依次穿过内圈压紧结构(3)、金属掩模版(5)和支撑结构(7)。

2.根据权利要求1所述的用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，其特征在于：所述内圈压紧结构(3)为一带有中心通孔的圆盘结构。

3.根据权利要求1所述的用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，其特征在于：所述支撑结构(7)为一带有中心通孔的圆柱结构。

4.根据权利要求1所述的用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，其特征在于：所述金属掩模版(5)为一带中心通孔的圆形结构且外圈设有镂空结构；所述金属掩模版(5)放置在柔轮(1)的法兰凹槽(1-1)上。

5.根据权利要求1所述的用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，其特征在于：所述外圈压紧结构(2)与柔轮(1)通过螺栓(6)固定连接。

6.根据权利要求1所述的用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，其特征在于：所述紧固件(4)为平头螺钉，所述平头螺钉依次穿过内圈压紧结构(3)、金属掩模版(5)和支撑结构(7)并固定在用于真空磁控溅射镀膜的托盘表面且与托盘中心位置的螺纹锁紧。

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【技术特征摘要】

1.一种用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，其特征在于：包括外圈压紧结构(2)、内圈压紧结构(3)、支撑结构(7)和紧固件(4)，所述外圈压紧结构(2)为一内圈设有凸台的圆环结构且放置在金属掩模版(5)上方，所述凸台压紧所述金属掩模版(5)外圈部，所述内圈压紧结构(3)放置在所述金属掩模版(5)上方，所述支撑结构(7)设置在所述金属掩模版(5)的下方，所述紧固件(4)依次穿过内圈压紧结构(3)、金属掩模版(5)和支撑结构(7)。

2.根据权利要求1所述的用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，其特征在于：所述内圈压紧结构(3)为一带有中心通孔的圆盘结构。

3.根据权利要求1所述的用于制备应变敏感栅薄膜的金属掩模版压紧结构，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏洪兴，崔元洋，沈文强，王晓东，娄志峰，靳宇，牟联树，张海豹，
申请(专利权)人：遨博北京智能科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：