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一种用于图案化薄膜制备的组合物、图案化基底及其制备方法技术

技术编号:41229121 阅读:18 留言:0更新日期:2024-05-09 23:45
本发明专利技术属于聚合物材料技术领域,具体涉及一种用于图案化薄膜制备的组合物、图案化基底及其制备方法。本发明专利技术的组合物包括如下重量份的组分:光聚合物单体1‑4份、交联剂1‑4份、光引发剂0.05‑0.1份、塑化剂2‑8份、助剂0.1‑1份。将上述组合物在基底材料上通过数字光进行光固化,即可制成表面具有图案化薄膜的基底。本发明专利技术制备方法简单,精度高,且制成的图案化基底可根据不同的材料选择和改性方式,实现对表面功能化的准确控制,从而满足不同的应用场景的需求。总之,本发明专利技术提供了一种用于高效制造多功能微芯片的工具箱,在功能化微图案制备中具有很好的应用前景。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于聚合物材料,具体涉及一种用于图案化薄膜制备的组合物、图案化基底及其制备方法


技术介绍

1、自然界中,从纳米到微米尺度的表面图案能够赋予生物某些特殊的技能,例如可控的黏附和释放、自清洁、折射反射光线或者从雾气中捕获水分等能力,通过模仿自然策略,可以解决工程挑战。例如,模仿生态和体内微环境,或生产超疏水表面、粘合剂和结构颜色。聚合物的多种特性(例如附着力、润湿性或生物相容性)都依赖于材料表面,因此,在形貌(表面图案化)或者化学性质方面进行表面改性是使用聚合物材料不可少的步骤。将聚合物图案化为微结构并开发出新的功能化表面对于光学、生物学、传感器以及微流体等领域有着至关重要的作用。

2、现有的研究已经探索了各种微图案方法,目前应用最广泛的图案化技术仍然依赖于常规光刻(硬光刻),包括光刻、电子束光刻、蘸笔式纳米光刻、聚焦离子束光刻、evu光刻等。然而,上述光刻方法仍然存在对环境的洁净度要求高、需考虑光刻胶与衬底之间的适配性、工艺复杂且难度高、对设备要求高等问题。为了突破传统光刻的桎梏,已经开发了许多的非常规光刻技术,例如微接触打印、纳米压本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于图案化薄膜制备的组合物,其特征在于,包括如下重量份的组分:

2.按照权利要求1所述的组合物,其特征在于:所述光聚合物单体选自甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟乙酯中的至少一种;

3.按照权利要求1所述的组合物,其特征在于:所述助剂选自光吸收剂苏丹1;

4.按照权利要求1所述的组合物,其特征在于,包括如下重量份的组分:

5.一种图案化基底,其特征在于,它是将权利要求1-4任一项所述的组合物在基底材料上通过数字光进行光固化后得到的。

6.按照权利要求5所述的图案化基底,其特征在于:所述光固化过程中,所述组合物在基底材料表面形成6...

【技术特征摘要】

1.一种用于图案化薄膜制备的组合物,其特征在于,包括如下重量份的组分:

2.按照权利要求1所述的组合物,其特征在于:所述光聚合物单体选自甲基丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟乙酯中的至少一种;

3.按照权利要求1所述的组合物,其特征在于:所述助剂选自光吸收剂苏丹1;

4.按照权利要求1所述的组合物,其特征在于,包括如下重量份的组分:

5.一种图案化基底,其特征在于,它是将权利要求1-4任一项所述的组合物在基底材料上通过数字光进行光固化后得到的。

6.按照权利要求5所述的图案化基底,其特征在于:所述光固化过程中,所述组合物在基底材料表面形成6-50 μm厚的液膜,然后通过数字光进行光固化;

7.按照权...

【专利技术属性】
技术研发人员:冯文骞孙营雪谢昕剑赵元轶
申请(专利权)人:四川大学
类型:发明
国别省市:

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