【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及磁性粒子成像系统和磁性粒子成像方法。
技术介绍
1、磁性粒子成像(mpi)作为一种新型的无损断层扫描图像诊断技术正在开发之中。因为在磁性粒子被注入受检体中的情况下从受检体的外部施加激励磁场，所以磁性粒子成像检测作为粒子信号的由激励受检体内的磁性粒子所引起的磁场变化。通常情况下，检测信号主要由基波的激励信号所占据，并且因此使用高次(order)谐波作为粒子信号。
2、为了明确指出磁性粒子在受检体中的位置，产生与激励磁场不同的磁场的磁场发生机构产生选择性磁场，所述选择性磁场产生具有低磁场强度的区域和具有高磁场强度的区域。特别地，低场区域中的具有零磁场的区域被称为无场区域。无场区域的示例包括无场点(ffp)和无场线(ffl)。为了实现高灵敏度测量，使用无场线(ffl)，所述无场线的信号强度预计比无场点(ffp)的信号强度大一个数量级。
3、日本专利no.5767225(专利文献1)公开了一种产生无场线(ffl)的磁性粒子成像系统。根据专利文献1，垂直于无场线(ffl)的延伸方向施加激励磁场，以便因激励磁场不仅用于激励磁性粒子还用于扫描无场线(ffl)而缩短测量时间。这里所说的垂直是指完全垂直地施加激励磁场的情况以及将激励磁场施加到与选择性磁场同向的分量的情况。
4、[引文列表]
5、[专利文献]
6、[专利文献1]
7、日本专利no.5767225
技术实现思路
1、[技术问题]
2、在专利文献
3、鉴于上述问题提出本公开，并且本公开的目的是提供磁性粒子成像系统和磁性粒子成像方法，所述磁性粒子成像系统和磁性粒子成像方法能够从至少一阶的高次谐波分量重建粒子分布。
4、[问题的解决方案]
5、本公开的磁性粒子成像系统是使用针对磁性粒子的激励磁场对无场区域中的磁性粒子进行成像的磁性粒子成像系统。该磁性粒子成像系统包括无场区域发生器和激励磁场发生器。无场区域发生器产生以无场区域的线性延伸方向作为延伸方向的无场线。激励磁场发生器在由无场区域发生器所产生的无场线中产生激励磁场。激励磁场发生器包括第一激励磁场发生单元和第二激励磁场发生单元。第一激励磁场发生单元和第二激励磁场发生单元在无场线的延伸方向上相互间隔开。
6、[专利技术的有利效果]
7、在根据本公开的磁性粒子成像系统中，第一激励磁场发生单元和第二激励磁场发生单元在无场线的延伸方向上相互间隔开。这使得能够从至少一阶的高次谐波分量重建粒子分布。
8、当结合附图时，从下面对本公开的详细描述中，本公开的前述和其他目的、特征、方面和优点将变得更加明显。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种磁性粒子成像系统，所述磁性粒子成像系统使用针对磁性粒子的激励磁场对无场区域中的所述磁性粒子进行成像，所述磁性粒子成像系统包括：
2.根据权利要求1所述的磁性粒子成像系统，所述磁性粒子成像系统还包括：
3.根据权利要求2所述的磁性粒子成像系统，所述磁性粒子成像系统还包括旋转机构，以便以所述无场线的所述延伸方向上的旋转轴线为中心使所述激励磁场发生器旋转。
4.根据权利要求3所述的磁性粒子成像系统，其中，所述磁传感器包括第一磁传感器单元和第二磁传感器单元，并且
5.一种使用针对磁性粒子的激励磁场对无场区域中的所述磁性粒子进行成像的磁性粒子成像方法，所述方法包括：
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种磁性粒子成像系统，所述磁性粒子成像系统使用针对磁性粒子的激励磁场对无场区域中的所述磁性粒子进行成像，所述磁性粒子成像系统包括：
2.根据权利要求1所述的磁性粒子成像系统，所述磁性粒子成像系统还包括：
3.根据权利要求2所述的磁性粒子成像系统，所述磁性粒子成像系统还包括旋转机构，...
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