【技术实现步骤摘要】
本申请实施例涉及生物分子检测，具体而言，涉及一种检测基板及检测方法、微流控芯片及其制备方法。
技术介绍
1、微流控芯片是一种可在微米尺度对流体进行操控或检测的装置。微流控芯片具有将生物、化学等实验室的基本功能微缩到一个几平方厘米的芯片上的能力，因此又被称芯片实验室。通常，微流控芯片包括微通道，并可使微通道构成一个网络，从而可通过控制流体在微通道构成的网络中流动，以实现常规化学或生物等实验室的各种功能。因此，微流控芯片具有尺寸小、便携、功能可灵活组合、和集成度高等优势。
2、然而，现有的微流控芯片针对于不同的靶标，只能构建针对性的单一微阵列结构，当待检测物质中同时包含多种靶标时，只能通过不同的微流控芯片进行多批次的检测，且不同靶标的检测之间会发生串扰导致检测结果精度下降。因此，如何通过微流控芯片实现对不同靶标进行高精度的同批次检测，成为本领域亟待解决的问题。
技术实现思路
1、本申请实施例在于提供一种检测基板及检测方法、微流控芯片及其制备方法，旨在解决如何通过微流控芯片实现对不同靶标进行高精度的同批次检测的问题。
2、本申请实施例第一方面提供一种检测基板，所述检测基板包括：
3、基底；
4、检测层，所述检测层设置在所述基底一侧，所述检测层包括阵列排布的多个检测结构以及修饰层，所述修饰层设置在每个所述检测结构的至少部分表面上，所述修饰层用于结合靶标；
5、其中，所述检测层包括至少一个检测功能区，不同的检测功能区分别在所述基底上
6、在一种可选地实施方式中，所述检测结构为沿第一方向贯穿所述检测层的检测孔，或，所述检测结构为沿所述第一方向延伸的检测柱，所述检测柱向背离所述基底的一侧凸出，所述第一方向为所述基底指向所述检测层的方向。
7、在一种可选地实施方式中，所述检测结构在所述基底上的正投影形状为取向相同的图形，多个所述检测结构沿行方向和列方向阵列排布。
8、在一种可选地实施方式中，所述检测层包括多个第一检测单元和第二检测单元，所述第一检测单元与所述第二检测单元沿行方向交替排布，所述多个检测结构包括位于所述第一检测单元的多个第一检测结构，以及位于所述第二检测单元的多个第二检测结构；
9、其中，所述第一检测结构与所述第二检测结构在所述基底上的正投影形状为奇数边的正多边形，所述第一检测结构与所述第二检测结构在所述基底上的正投影形状的取向相反，且相邻的所述第一检测结构与所述第二检测结构在所述基底上的正投影的相对的侧边互相平行。
10、在一种可选地实施方式中，所述检测层包括多个第一检测单元和第二检测单元，所述第一检测单元与所述第二检测单元沿行方向交替排布，所述多个检测结构包括位于所述第一检测单元的多个第一检测结构，以及位于所述第二检测单元的多个第二检测结构；
11、其中，所述第一检测结构与所述第二检测结构在所述基底上的正投影形状为偶数边的正多边形，所述第一检测结构与所述第二检测结构在所述基底上的正投影形状的取向相同，且相邻的所述第一检测结构与所述第二检测结构在所述基底上的正投影的相对的侧边互相平行。
12、在一种可选地实施方式中，所述多个检测结构在所述基底上的正投影的周期宽度与间隙宽度之比大于或等于2:1，所述周期宽度为相邻两个检测结构在所述基底上的正投影中心之间的距离。
13、在一种可选地实施方式中，所述检测功能区包括：
14、第一类检测功能区，所述第一类检测功能区内的所述修饰层用于结合所述分子类靶标；
15、第二类检测功能区，所述第二类检测功能区内的所述修饰层用于结合所述细胞类靶标，所述细胞类靶标在所述基底上的正投影面积大于所述分子类靶标。
16、在一种可选地实施方式中，所述第一类检测功能区内相邻两个检测结构在所述基底上的正投影中心之间的距离大于或等于800nm，且小于或等于1mm；所述第一类检测功能区内相邻两个检测结构在所述基底上的正投影的间隙宽度大于或等于800nm，且小于或等于1mm。
17、在一种可选地实施方式中，所述第二类检测功能区内的每个所述检测结构的在所述基底上的正投影面积与所述细胞类靶标的在所述基底上的正投影面积之比大于或等于1:50。
18、在一种可选地实施方式中，所述修饰层包括以下至少一种：(c13h20no9-cooh)n、si-oh、si-o-sih3、sio-nh2、sio-choch2以及高分子网络，所述高分子网络的结构式为：-[-ch2-chr1-]m-[-ch2-chr2-]n-[-ch2-chr3-]p-。
19、在一种可选地实施方式中，每个所述检测结构的表面上设置的所述修饰层包括至少一种修饰基团，所述修饰基团与所述检测结构形成共价连接，不同的所述检测功能区内的所述修饰层包含的所述修饰基团不同。
20、在一种可选地实施方式中，每个所述检测功能区包括至少一个子检测功能区，不同的子检测功能区内的所述修饰层用于结合同类靶标的不同物质，所述子检测功能区内的所述修饰层包含的所述修饰基团相同。
21、在一种可选地实施方式中，所述修饰基团为羧基、羟基、氨基、硅烷化基团、环氧基团、疏水基团或两亲分子基团。
22、本申请实施例第二方面提供一种微流控芯片，所述微流控芯片包括对盒设置的第一基板与第二基板，所述第一基板与所述第二基板中的一者为如第一方面中任意一项所述的检测基板。
23、本申请实施例第三方面提供一种微流控芯片的制备方法，所述方法包括：
24、提供第一基板、第二基板以及第一键合溶液，所述第一基板以及所述第二基板具有图案化表面；
25、将所述第一键合溶液均匀分散在所述第一基板以及所述第二基板的图案化表面上；
26、将所述第一基板以及所述第二基板进行对位和封装，以在所述第一基板和所述第二基板的图案化表面形成修饰层的同时，使所述第一基板与所述第二基板完成固定键合；
27、待所述第一基板和所述第二基板上的溶剂挥发得到所述微流控芯片。
28、在一种可选地实施方式中，在所述第一基板和所述第二基板的图案化表面形成修饰层之后，所述方法还包括：
29、在所述修饰层表面接枝氨基并偶联碳碳双键，形成第一修饰层；
30、提供第二键合溶液，并将所述第二键合溶液均匀分散在所述第一修饰层的表面，形成第二修饰层，所述第二修饰层的修饰基团为包含两亲高分子网状薄膜结构的基团。
31、本申请实施例第四方面提供一种检测方法，应用于第一方面中任意一项所述的检测基板，所述方法包括：
32、确定多个待测功能区，所述待测功能区为所述检测基板上多个检测功能区中与待检测靶标对应的检测功能区；
33、在所述多个待测功能区内设置对应于每个待测功能区的检本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种检测基板，其特征在于，所述检测基板包括：
2.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述检测结构为沿第一方向贯穿所述检测层的检测孔，或，所述检测结构为沿所述第一方向延伸的检测柱，所述检测柱向背离所述基底的一侧凸出，所述第一方向为所述基底指向所述检测层的方向。
3.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述检测结构在所述基底上的正投影形状为取向相同的图形，多个所述检测结构沿行方向和列方向阵列排布。
4.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述检测层包括多个第一检测单元和第二检测单元，所述第一检测单元与所述第二检测单元沿行方向交替排布，所述多个检测结构包括位于所述第一检测单元的多个第一检测结构，以及位于所述第二检测单元的多个第二检测结构；
5.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述检测层包括多个第一检测单元和第二检测单元，所述第一检测单元与所述第二检测单元沿行方向交替排布，所述多个检测结构包括位于所述第一检测单元的多个第一检测结构，以及位于所述第二检测单元的多个第二检测结构；
6.根据权利要求1
7.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述检测功能区包括：
8.根据权利要求7所述的检测基板，其特征在于，所述第一类检测功能区内相邻两个检测结构在所述基底上的正投影中心之间的距离大于或等于800nm，且小于或等于1mm；所述第一类检测功能区内相邻两个检测结构在所述基底上的正投影的间隙宽度大于或等于800nm，且小于或等于1mm。
9.根据权利要求7所述的检测基板，其特征在于，所述第二类检测功能区内的每个所述检测结构的在所述基底上的正投影面积与所述细胞类靶标的在所述基底上的正投影面积之比大于或等于1:50。
10.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述修饰层包括以下至少一种：(C13H20NO9-COOH)n、Si-OH、Si-O-SiH3、SiO-NH2、SiO-CHOCH2以及高分子网络，所述高分子网络的结构式为：-[-CH2-CHR1-]m-[-CH2-CHR2-]n-[-CH2-CHR3-]p-。
11.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，每个所述检测结构的表面上设置的所述修饰层包括至少一种修饰基团，所述修饰基团与所述检测结构形成共价连接，不同的所述检测功能区内的所述修饰层包含的所述修饰基团不同。
12.根据权利要求11所述的检测基板，其特征在于，每个所述检测功能区包括至少一个子检测功能区，不同的子检测功能区内的所述修饰层用于结合同类靶标的不同物质，所述子检测功能区内的所述修饰层包含的所述修饰基团相同。
13.根据权利要求11所述的检测基板，其特征在于，所述修饰基团为羧基、羟基、氨基、硅烷化基团、环氧基团、疏水基团或两亲分子基团。
14.一种微流控芯片，其特征在于，所述微流控芯片包括对盒设置的第一基板与第二基板，所述第一基板与所述第二基板中的一者为如权利要求1至13任意一项所述的检测基板。
15.一种微流控芯片的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
16.根据权利要求15所述的微流控芯片的制备方法，其特征在于，在所述第一基板和所述第二基板的图案化表面形成修饰层之后，所述方法还包括：
17.一种检测方法，其特征在于，应用于权利要求1至13任意一项所述的检测基板，所述方法包括：
...【技术特征摘要】
1.一种检测基板，其特征在于，所述检测基板包括：
2.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述检测结构为沿第一方向贯穿所述检测层的检测孔，或，所述检测结构为沿所述第一方向延伸的检测柱，所述检测柱向背离所述基底的一侧凸出，所述第一方向为所述基底指向所述检测层的方向。
3.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述检测结构在所述基底上的正投影形状为取向相同的图形，多个所述检测结构沿行方向和列方向阵列排布。
4.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述检测层包括多个第一检测单元和第二检测单元，所述第一检测单元与所述第二检测单元沿行方向交替排布，所述多个检测结构包括位于所述第一检测单元的多个第一检测结构，以及位于所述第二检测单元的多个第二检测结构；
5.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述检测层包括多个第一检测单元和第二检测单元，所述第一检测单元与所述第二检测单元沿行方向交替排布，所述多个检测结构包括位于所述第一检测单元的多个第一检测结构，以及位于所述第二检测单元的多个第二检测结构；
6.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述多个检测结构在所述基底上的正投影的周期宽度与间隙宽度之比大于或等于2:1，所述周期宽度为相邻两个检测结构在所述基底上的正投影中心之间的距离。
7.根据权利要求1所述的检测基板，其特征在于，所述检测功能区包括：
8.根据权利要求7所述的检测基板，其特征在于，所述第一类检测功能区内相邻两个检测结构在所述基底上的正投影中心之间的距离大于或等于800nm，且小于或等于1mm；所述第一类检测功能区内相邻两个检测结构在所述基底上的正投影的间隙宽度大于或等于800nm，且小于或等于1mm。
9.根据权利要求7所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵子健，罗欣莹，高厚乾，刘浩男，彭康，
申请(专利权)人：北京京东方技术开发有限公司，
类型：发明
国别省市：
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