System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 有机器件及用于制造有机器件的方法技术_技高网

有机器件及用于制造有机器件的方法技术

技术编号:41184564 阅读:5 留言:0更新日期:2024-05-07 22:17
公开了有机器件及用于制造有机器件的方法。一种有机器件包括:像素区域,被部署在基板的第一主表面上方并且在该像素区域中部署有多个像素;周边区域,在第一主表面上方被部署在像素区域的外侧;外部连接电极,在第一主表面上方被部署在周边区域中;第一密封膜,被部署在外部连接电极的上方;以及第二密封膜,被部署在外部连接电极的上方并且该第二密封膜的材料与第一密封膜的材料不同,其中,第二密封膜被部署在第一密封膜的上方,并且在周边区域中,有机器件在第一密封膜中设置有开口并且在开口与像素区域之间设置有第一凹槽,该开口使外部连接电极露出,第二密封膜被部署在第一凹槽中。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及有机器件及用于制造有机器件的方法


技术介绍

1、有机电致发光元件(下文中,也称为“有机el元件”、“有机发光元件”或“有机器件”)是当包括阳极、阴极和部署在阳极和阴极之间的发光层的有机化合物层被通电时发光的元件。

2、现今,有机器件显著进步,并且要求有机器件有较高的性能(清晰度、亮度和颜色纯度的增加)和高可靠性。

3、在日本专利公开no.2018-73760中描述了一种有机器件,在该有机器件中第一密封层和第二密封层被层压在上电极上。

4、对于日本专利公开no.2018-73760中描述的有机器件,在已沉积第一密封层之后执行第一刻蚀。此后,沉积第二密封层,并且执行第二刻蚀。此时,执行刻蚀使得第二刻蚀的位置与已经受第一刻蚀的位置彼此重叠。结果,日本专利公开no.2018-73760中描述的有机器件的外部连接电极的表面有可能因刻蚀而被损坏。因此,在某些情况下,外部连接电极可能腐蚀。


技术实现思路

1、本公开是鉴于以上内容做出的,并且提供了减少外部连接电极的腐蚀的有机器件。

2、根据本公开的一种有机器件包括:像素区域,所述像素区域被部署在基板的第一主表面上方并且在所述像素区域中部署有多个像素;周边区域,所述周边区域在第一主表面上方被部署在像素区域的外侧;外部连接电极,所述外部连接电极在第一主表面上方被部署在周边区域中;第一密封膜,所述第一密封膜被部署在外部连接电极的上方;以及第二密封膜,所述第二密封膜被部署在外部连接电极的上方并且所述第二密封膜的材料与第一密封膜的材料不同。第二密封膜被部署在第一密封膜的上方。在周边区域中,有机器件在第一密封膜中设置有开口并且在开口与像素区域之间设置有第一凹槽,所述开口使外部连接电极露出,所述第二密封膜被部署在第一凹槽中。

3、根据下面参考附图的示例性实施例的描述,本公开的其他特征将变得清楚。

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【技术保护点】

1.一种有机器件,包括:

2.根据权利要求1所述的有机器件,

3.根据权利要求1所述的有机器件,

4.根据权利要求1所述的有机器件,

5.根据权利要求1所述的有机器件,

6.根据权利要求1所述的有机器件,

7.根据权利要求1所述的有机器件,

8.根据权利要求1所述的有机器件,

9.根据权利要求1所述的有机器件,

10.根据权利要求9所述的有机器件,

11.根据权利要求9所述的有机器件,

12.根据权利要求9所述的有机器件,

13.一种光电转换装置,包括:

14.一种显示装置,包括:

15.一种电子设备,包括:

16.一种照明装置,包括:

17.一种移动体,包括:

18.一种可穿戴设备,包括:

19.一种用于制造有机器件的方法,所述方法包括以下步骤:

【技术特征摘要】

1.一种有机器件,包括:

2.根据权利要求1所述的有机器件,

3.根据权利要求1所述的有机器件,

4.根据权利要求1所述的有机器件,

5.根据权利要求1所述的有机器件,

6.根据权利要求1所述的有机器件,

7.根据权利要求1所述的有机器件,

8.根据权利要求1所述的有机器件,

9.根据权利要求1所述的有机器件,

10.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:桑原英司铃木健太郎
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:

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