System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种大花葱遮光栽培方法技术_技高网

一种大花葱遮光栽培方法技术

技术编号:41181312 阅读:3 留言:0更新日期:2024-05-07 22:15
本发明专利技术属于大花葱栽培技术领域,具体涉及一种大花葱遮光栽培方法。该栽培方法包括如下步骤:种植:大花葱种球用杀菌剂杀菌;采用穴植方式栽植,将大花葱种球尖端朝上放置,覆土匀实,与地面齐平;培育:于大花葱种球全部出芽后,用单层遮荫网进行遮光处理。管护:大花葱种球栽植完成后,浇水,保持土壤60%~70%的含水量;入冬前浇一次防冻水;于生长期中耕除草,施肥。本发明专利技术提供的栽培方法可以克服大花葱花期枯叶现象,保证大花葱良好的观赏效果,为园林栽培提供技术指导,促进大花葱产业发展。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于大葱栽培,具体涉及一种大花葱遮光栽培方法


技术介绍

1、大花葱(allium giganteum regel)是百合科葱属的多年生球根花卉,又名硕葱、高葱、巨葱、吉安花;鳞茎呈球形或半球形,肉质,具葱味;基生叶宽带形,灰绿色;伞形花序,头状,花、果实及种子密集的着生于花托顶端,花总柄自叶丛中抽出,高可达120cm,小花具长柄,花瓣6枚,花序由几百至上千朵星状开展的小花组成,硕大如头,直径可达25cm;花期在4~5月份,有紫红色、白色、紫色等,盛花期长,可持续30多天。喜凉爽环境,喜光(各种文献都是这样写的),较耐寒,生长适宜温度15℃~28℃,忌积水,适宜疏松肥沃排水良好的沙壤土。大花葱是同属植物中观赏价值最高的一种。大花葱可丛植于花境、岩石旁或草坪中作点缀,也可作为花展成片栽植,还可作为花型特异的切花材料,应用到花艺作品当中。原产亚洲中部,荷兰为主要鳞茎出口国,世界各国园林中多有种植。在我国,南至昆明、杭州,北至北京、辽宁等都有种植。

2、大花葱从国外引种过来,目前所有报道中均报道:大花葱是喜光的。对于大花葱的栽培,均是在全光下种植的。但是在大花葱于全光下种植的过程中,普遍存在开花期枯叶现象,严重影响了大花葱的观赏效果。因此,需要一种新的适宜于大花葱在花期生长的栽培方法。


技术实现思路

1、为解决现有技术中大花葱于全光下种植的过程中,普遍存在开花期枯叶现象,严重影响大花葱的观赏效果的问题,为实现上述目的,本专利技术采用如下技术方案:

2、本专利技术提供了一种大花葱遮光栽培方法,包括如下步骤:

3、种植:大花葱种球用杀菌剂杀菌;采用穴植方式栽植,将大花葱种球尖端朝上放置,覆土匀实,与地面齐平;将大花葱种球栽植的时间为每年的11月~12月之间,优选的栽植时间为每年的11月中旬;

4、培育:于大花葱种球全部出芽后,用单层遮荫网进行遮光处理;

5、管护:大花葱种球栽植完成后,浇水,保持土壤60%~70%的含水量;入冬前浇一次防冻水;于生长期中耕除草,施肥。

6、优选地,所述大花葱种球为饱满、充实、健康的种球。

7、优选地,所述杀虫剂为多菌灵溶液。

8、优选地,所述多菌灵溶液是将多菌灵可湿性粉剂用溶液稀释500倍得到。

9、优选地,大花葱种球栽植时的株行距为20cm~30cm,栽植深度为种球高度的2~3倍。

10、优选地,所述遮光处理时的遮光率为55%~85%。

11、优选地,所述遮阴网为聚乙烯黑色遮阴网。

12、优选地,于生长期追施1~2次氮磷钾复合肥。

13、优选地,大花葱种球栽植完成后,浇一次透水;所述浇一次透水为:浇水的土壤深度要达到10cm以下,保持土壤60%~70%的含水量。

14、优选地,在整个生长过程中,保持土壤60%~70%的含水量

15、与现有技术相比,本专利技术具有如下有益效果:

16、本专利技术提供了一种大花葱遮光栽培方法,该方法采用遮阴网做了适宜于大花葱在花期生长的大花葱遮光栽培方法。该栽培方法可以克服大花葱花期枯叶现象,保证大花葱良好的观赏效果,为园林栽培提供技术指导,促进大花葱产业发展。

17、光合有效辐射(par)是影响植物生长和发育的主要生态因子,不同光环境会影响植物叶片形态和生理生态特性,尤其是光合作用。在遮阴条件下,植物叶片的比叶重、叶绿素含量、叶绿素荧光和光合特性等均会发生变化。有研究表明,遮阴会导致植物叶绿素含量和表观量子效率(aqy)升高,光补偿点(lcp)、饱和光强(lsp)和光下暗呼吸速率(rd)降低,以提高叶片对光能的利用效率并减小呼吸作用的能量消耗,有利于植物在弱光下维持碳平衡。由于不同植物有不同的需光特性,随光环境的改变,不同植物叶片光合特性的响应也不尽相同。植物为了适应弱光照条件会产生一系列生理生长反应,进而保持植株自身生理系统的平衡,进行正常的生命活动。植物在荫蔽环境中会有两方面的应对策略,分别是耐荫和避荫。其中耐荫主要是通过增加叶面积和降低叶绿素a/b值来实现;避荫则主要是通过叶片的重新定位来实现。而且遮光处理后,因为外界环境中红光和远红光比例的变化,植物光敏色素受到影响,一般认为会导致植株株高增加、分枝数减少、开花加速、节间伸长等趋光避荫反应。不同植物反应不同。本专利技术就是基于此,提供了一种采用遮阴网做了适宜于大花葱在花期生长的大花葱遮光栽培方法。

18、本专利技术通过对大花葱在不同遮光率下,光照对其叶貌、株高、冠幅、花色、花径、花期、种球等生长指标影响的综合探讨研究,得出一种适宜于大花葱于遮光条件下生长的栽培方法。该栽培方法中适宜的遮光条件为:遮光率55%~85%的环境下。本专利技术提供的栽培方法避免了大花葱花期枯叶现象,提高了大花葱的观赏价值,延长了花期,同时也提高了土地利用率,增加了花农单位面积上的经济效益。该栽培方法可以应用于大花葱实际的生产实践中。

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【技术保护点】

1.一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,所述大花葱种球为饱满、充实、健康的种球。

3.根据权利要求1所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,所述杀虫剂为多菌灵溶液。

4.根据权利要求3所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,所述多菌灵溶液是将多菌灵可湿性粉剂用溶液稀释500倍得到。

5.根据权利要求1所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,大花葱种球栽植时的株行距为20cm~30cm,栽植深度为种球高度的2~3倍。

6.根据权利要求1所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,所述遮光处理时的遮光率为55%~85%。

7.根据权利要求1所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,所述遮阴网为聚乙烯黑色遮阴网。

8.根据权利要求1所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,于生长期追施1~2次氮磷钾复合肥。

9.根据权利要求1所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,大花葱种球栽植完成后,浇一次透水;所述浇一次透水为:浇水的土壤深度要达到10cm以下,保持土壤60%~70%的含水量。

10.根据权利要求1所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,在整个生长过程中,保持土壤60%~70%的含水量。

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【技术特征摘要】

1.一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,所述大花葱种球为饱满、充实、健康的种球。

3.根据权利要求1所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,所述杀虫剂为多菌灵溶液。

4.根据权利要求3所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,所述多菌灵溶液是将多菌灵可湿性粉剂用溶液稀释500倍得到。

5.根据权利要求1所述的一种大花葱遮光栽培方法,其特征在于,大花葱种球栽植时的株行距为20cm~30cm,栽植深度为种球高度的2~3倍。

6.根据权利要求1所述的一种大花葱...

【专利技术属性】
技术研发人员:张永芝魏媛媛王珠娜袁玮宋帆徐彦彦王宏建郭东峰王鹏代东华李艳周圆陈璐
申请(专利权)人:郑州市森林资源事务中心郑州绿博园
类型:发明
国别省市:

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