【技术实现步骤摘要】
本技术涉及灌溉设备，具体涉及一种温室大棚育苗用浇灌设备。
技术介绍
1、传统的大棚喷淋装置通常是固定喷头或喷洒管道，通过水泵提供压力进行喷洒,固定喷头或喷洒管道的布置位置通常是提前确定的，无法根据作物生长需求进行实时调整。这会导致部分区域喷洒过多，而其他区域喷洒不足，造成喷洒不均匀的问题。
2、为此，我们提出一种温室大棚育苗用浇灌设备。
技术实现思路
1、(一)解决的技术问题
2、针对现有技术的不足，本技术提供了一种温室大棚育苗用浇灌设备，克服了现有技术的不足，设计合理，结构紧凑，解决了
技术介绍
中提出的问题。
3、(二)技术方案
4、为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：
5、一种温室大棚育苗用浇灌设备，包括架体，架体的顶部上设置有框体，框体上还装有沿架体较长边的方向设置的滑槽、直线电机，滑槽上滑动设置有滑块，滑块上安装有多个喷头，框体上转动式安装有位于滑槽和直线电机之间的转板，转板上靠近直线电机的一端设置有滑轮，直线电机的端侧上安装有沿其方向设置的弧形的挡块，挡块与滑轮转动配合使转板转动以驱动滑块沿滑槽的方向滑动配合。
6、优选的，滑块的底部上安装有底板，底板向转板的方向延伸并在其上设置有齿条。
7、优选的，齿条沿滑块的方向设置。
8、优选的，框体的两侧上安装与竖直向下的转轴，转板通过轴承穿设于转轴。
9、优选的，转板上靠近滑槽的弧形端面上安装有与齿条啮合的主动齿
10、优选的，转板和滑轮之间还设置有立柱。
11、优选的，喷头沿滑块的方向等距排列。
12、(三)有益效果
13、本技术实施例提供了一种温室大棚育苗用浇灌设备。具备以下有益效果：
14、1、均匀喷淋：通过抖动喷洒，滑块在滑槽上来回滑移，可以实现更均匀的喷淋，喷淋液体或水雾可以更加均匀地覆盖在植物或种植区域上，提高作物的生长效果。
15、2、覆盖范围扩大：传统固定式喷头往往只能覆盖到一定范围，而通过改装的抖动喷淋可以扩大覆盖范围。滑块水平滑动使得喷洒区域可达到更广阔的范围。
16、3、节省资源：由于喷淋更均匀，通过抖动喷洒可以减少水、肥料和农药的使用量，减少资源浪费。
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1.一种温室大棚育苗用浇灌设备，包括架体(1)，架体(1)的顶部上设置有框体(11)；
2.如权利要求1所述的一种温室大棚育苗用浇灌设备，其特征在于：所述滑块(21)的底部上安装有底板(22)，底板(22)向转板(31)的方向延伸并在其上设置有齿条(24)。
3.如权利要求2所述的一种温室大棚育苗用浇灌设备，其特征在于：所述齿条(24)沿滑块(21)的方向设置。
4.如权利要求2所述的一种温室大棚育苗用浇灌设备，其特征在于：所述框体(11)的两侧上安装与竖直向下的转轴(3)，转板(31)通过轴承穿设于转轴(3)。
5.如权利要求4所述的一种温室大棚育苗用浇灌设备，其特征在于：所述转板(31)上靠近滑槽(2)的弧形端面上安装有与齿条(24)啮合的主动齿。
6.如权利要求1所述的一种温室大棚育苗用浇灌设备，其特征在于：所述转板(31)和滑轮(33)之间还设置有立柱(32)。
7.如权利要求1所述的一种温室大棚育苗用浇灌设备，其特征在于：所述喷头(23)沿滑块(21)的方向等距排列。
【技术特征摘要】
1.一种温室大棚育苗用浇灌设备，包括架体(1)，架体(1)的顶部上设置有框体(11)；
2.如权利要求1所述的一种温室大棚育苗用浇灌设备，其特征在于：所述滑块(21)的底部上安装有底板(22)，底板(22)向转板(31)的方向延伸并在其上设置有齿条(24)。
3.如权利要求2所述的一种温室大棚育苗用浇灌设备，其特征在于：所述齿条(24)沿滑块(21)的方向设置。
4.如权利要求2所述的一种温室大棚育苗用浇灌设备，其特征在于：所述框体(11)的...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱振华，季维维，
申请(专利权)人：上海苏银农业科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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