【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于mems加速度计的，更具体地说，是涉及一种用于mems加速度计的带宽调节装置。
技术介绍
1、mems加速度计是一种测量物体运动加速度的芯片，具有体积小、重量轻、功耗低、可靠性高、成本低廉等优点。这种技术在武器装备、导航测控等军事领域及工业、互联网等民用领域正发挥越来越大的作用。
2、mems加速度计的工作原理是利用芯片内部有效质量的运动来检测外界的加速度，mems加速度计可以等效为简单的带阻尼的二阶系统，阻尼和频率是影响二阶系统动态特性的关键因素。当加速度计频率固定后，通过调节阻尼可以实现加速度计的带宽调节。
3、目前，在国外的一些mems技术发展先进的国家，在进行mems结构设计时，对于结构阻尼的调节仅出现在加速度计结构层增加阻尼梳齿，以此方法来改变加速度计的阻尼。该方法会导致mems敏感结构有效质量减小，有效电容减小，从而影响加速度计性能。要想不影响性能，只能增加芯片的面积，从而提高成本。无论是从性能方面还是从成本方面，该方法都有弊端。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种用于mems加速度计的带宽调节装置，以解决现有技术中存在的调节阻尼方法存在弊端的技术问题。
2、为实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是：提供一种用于mems加速度计的带宽调节装置，mems加速度计包括依次连接设置的盖板层、结构层、布线层和衬底层，结构层与布线层之间具有空隙；带宽调节装置包括位于结构层和布线层之间的若干调节块，调节块均固定在布线层
3、结合上述技术方案，在一种可能的实现方式中，所有调节块的端面高度一致。
4、结合上述技术方案，在一种可能的实现方式中，结构层与布线层之间的空隙为1.5-1.7μm。
5、结合上述技术方案，在一种可能的实现方式中，调节块的高度为0.1-0.2μm。
6、结合上述技术方案，在一种可能的实现方式中，调节块的高度为0.15μm。
7、结合上述技术方案，在一种可能的实现方式中，布线层上开设有c形槽和位于c形槽内中部位置的布线槽，c形槽的两个侧口和布线槽的侧口位于布线层的同一侧；c形槽内设有上极板布线和下极板布线，上极板布线一端位于c形槽内，另一端从c形槽侧口伸出；下极板布线一端位于c形槽内，另一端从c形槽的另一侧口伸出；布线槽内设有质量布线；布线层上位于c形槽内的区域为内部区域，位于c形槽外的区域为外部区域，调节块均设置在内部区域和外部区域上，并呈布线槽对称分布。
8、结合上述技术方案，在一种可能的实现方式中，调节块为柱状体。
9、结合上述技术方案，在一种可能的实现方式中，调节块端面的平面形状为对称图形。
10、结合上述技术方案，在一种可能的实现方式中，调节块端面的平面形状为多边形、圆形或类圆形。
11、本专利技术提供的一种用于mems加速度计的带宽调节装置的有益效果在于：与现有技术相比，本专利技术通过在结构层与布线层之间增加一层调节块，使结构层可动结构与布线层发生平行的位移时，气体会产生剪切变形，从而形成滑膜阻尼，通过改变结构层与布线层之间的间隙或改变调节块的分布密度，可以对阻尼的大小进行调节，从而实现加速度计带宽特性的调节，在不影响加速度计性能的前提下，节约了芯片面积，从而减低了成本。
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1.一种用于MEMS加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述MEMS加速度计包括依次连接设置的盖板层(1)、结构层(2)、布线层(3)和衬底层(4)，所述结构层(2)与所述布线层(3)之间具有空隙；所述带宽调节装置包括位于所述结构层(2)和所述布线层(3)之间的若干调节块(5)，所述调节块(5)均固定在所述布线层(3)上未布线的位置，若干所述调节块(5)在所述布线层(3)上均匀分布。
2.如权利要求1所述的一种用于MEMS加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所有所述调节块(5)的端面高度一致。
3.如权利要求1所述的一种用于MEMS加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述结构层(2)与布线层(3)之间的空隙为1.5-1.8μm。
4.如权利要求1-3任一项所述的一种用于MEMS加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述调节块(5)的高度为0.1-0.2μm。
5.如权利要求4所述的一种用于MEMS加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述调节块(5)的高度为0.15μm。
6.如权利要求1所述的一种用于MEMS加速度计的带宽
7.如权利要求1所述的一种用于MEMS加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述调节块(5)为柱状体。
8.如权利要求1所述的一种用于MEMS加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述调节块(5)端面的平面形状为对称图形。
9.如权利要求8所述的一种用于MEMS加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述调节块(5)端面的平面形状为多边形、圆形或类圆形。
...【技术特征摘要】
1.一种用于mems加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述mems加速度计包括依次连接设置的盖板层(1)、结构层(2)、布线层(3)和衬底层(4)，所述结构层(2)与所述布线层(3)之间具有空隙；所述带宽调节装置包括位于所述结构层(2)和所述布线层(3)之间的若干调节块(5)，所述调节块(5)均固定在所述布线层(3)上未布线的位置，若干所述调节块(5)在所述布线层(3)上均匀分布。
2.如权利要求1所述的一种用于mems加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所有所述调节块(5)的端面高度一致。
3.如权利要求1所述的一种用于mems加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述结构层(2)与布线层(3)之间的空隙为1.5-1.8μm。
4.如权利要求1-3任一项所述的一种用于mems加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述调节块(5)的高度为0.1-0.2μm。
5.如权利要求4所述的一种用于mems加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述调节块(5)的高度为0.15μm。
6.如权利要求1所述的一种用于mems加速度计的带宽调节装置，其特征在于，所述布线层(3)上开设有...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈鹏旭，杨拥军，任臣，卢倩，
申请(专利权)人：河北美泰电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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