【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种适用于日用陶瓷上釉的机器。
技术介绍
1、现有的日用陶瓷上釉的机器，采用点头加旋转式上釉，该方式上釉不均匀，对釉水要求严格，不能上色釉，且机器庞大，能耗高。
2、现有的日用陶瓷上釉的机器，采用针压式飘釉，该方式容易造成陶瓷坯体有划痕，甚至开裂，严重影响产品质量。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种一次性完成上釉、上釉效果好的适用于日用陶瓷上釉的机器。
2、本技术的目的是这样实现的：
3、一种适用于日用陶瓷上釉的机器，包括上釉装置、驱动装置和釉水增减装置，所述上釉装置包括釉罐、挡板和用于放置陶瓷坯体的托盘，所述托盘设置在釉罐的敞开口处，托盘和釉罐连通，所述挡板设置在托盘和釉罐的敞开口之间，挡板开有连通釉罐和托盘的通孔；
4、所述釉罐侧壁开有开口，所述釉水增减装置和开口连通，釉水增减装置通过开口添加釉水到釉罐内或者釉水增减装置通过开口抽走釉罐内多余釉水或者釉水增减装置通过开口添加清水到釉罐内清洗釉罐；
5、所述驱动装置和上釉装置连接，驱动装置带动上釉装置升降、旋转。
6、所述驱动装置带动上釉装置旋转，令上釉装置完成位于釉水池正上方、进入、离开和朝釉水池翻转的程序，当上釉装置完成位于釉水池正上方动作时，恰好釉罐位于托盘上方，釉罐的釉水在重力作用下沿通孔流入托盘内，完成陶瓷坯体的底部上釉，当上釉装置完成进入、离开釉水池的程序，即完成陶瓷坯体的外露面上釉（上内外釉）并倾倒多余釉水，当上釉装置朝釉水池
7、陶瓷坯体底部上釉后，釉罐内的釉水减少，釉水增减装置通过开口添加釉水到釉罐内，若釉罐内的釉水太多，控制系统发出指令至釉水增减装置，釉水增减装置通过开口抽走釉罐内多余釉水，保证釉罐内的釉水处于合理范围，从而保证上釉效果。
8、所述釉罐的敞开口处设置有挡板，挡板防止在外露面上釉（上内外釉）时，釉罐里的釉水流出，保证陶瓷坯体底部的釉面质量。
9、本技术的目的还可以采用以下技术措施解决：
10、进一步，所述挡板中心开有所述通孔。
11、进一步，还包括控制系统，所述驱动装置和釉水增减装置分别连接控制系统，所述控制系统通过驱动装置控制上釉装置的升降位置、上釉装置的升降时间、上釉装置的旋转角度以及上釉装置的旋转时间，所述控制系统通过釉水增减装置调整釉罐的釉水量以及清洗釉罐。所述控制系统控制上釉装置浸入釉水池的速度、控制釉罐内的釉水量，控制上釉装置翻转避免出现釉流挂，从而一次性完成陶瓷坯体的上釉、上釉效果好。
12、本技术的有益效果如下：
13、本技术，所述驱动装置带动上釉装置旋转，令上釉装置完成位于釉水池正上方、进入、离开和朝釉水池翻转的程序，当上釉装置完成位于釉水池正上方动作时，恰好釉罐位于托盘上方，釉罐的釉水在重力作用下沿通孔流入托盘内，完成陶瓷坯体的底部上釉，当上釉装置完成进入、离开釉水池的程序，即完成陶瓷坯体的外露面上釉（上内外釉）并倾倒多余釉水，当上釉装置朝釉水池翻转时，多余的釉水重新流入釉水池内，避免出现釉流挂，从而实现陶瓷坯体一次性上釉，上釉效果好。
14、本技术，陶瓷坯体底部上釉后，釉罐内的釉水减少，釉水增减装置通过开口添加釉水到釉罐内，若釉罐内的釉水太多，控制系统发出指令至釉水增减装置，釉水增减装置通过开口抽走釉罐内多余釉水，保证釉罐内的釉水处于合理范围，从而保证上釉效果。
15、本技术，所述釉罐的敞开口处设置有挡板，挡板防止在外露面上釉（上内外釉）时，釉罐里的釉水流出，保证陶瓷坯体底部的釉面质量。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种适用于日用陶瓷上釉的机器，其特征在于：包括上釉装置、驱动装置和釉水增减装置，所述上釉装置包括釉罐、挡板和用于放置陶瓷坯体的托盘，所述托盘设置在釉罐的敞开口处，托盘和釉罐连通，所述挡板设置在托盘和釉罐的敞开口之间，挡板开有连通釉罐和托盘的通孔；
2.根据权利要求1所述适用于日用陶瓷上釉的机器，其特征在于：所述挡板中心开有所述通孔。
3.根据权利要求1所述适用于日用陶瓷上釉的机器，其特征在于：还包括控制系统，所述驱动装置和釉水增减装置分别连接控制系统，所述控制系统通过驱动装置控制上釉装置的升降位置、上釉装置的升降时间、上釉装置的旋转角度以及上釉装置的旋转时间，所述控制系统通过釉水增减装置调整釉罐的釉水量以及清洗釉罐。
【技术特征摘要】
1.一种适用于日用陶瓷上釉的机器，其特征在于：包括上釉装置、驱动装置和釉水增减装置，所述上釉装置包括釉罐、挡板和用于放置陶瓷坯体的托盘，所述托盘设置在釉罐的敞开口处，托盘和釉罐连通，所述挡板设置在托盘和釉罐的敞开口之间，挡板开有连通釉罐和托盘的通孔；
2.根据权利要求1所述适用于日用陶瓷上釉的机器，其特征在于：所...
【专利技术属性】
技术研发人员：谭志勇，
申请(专利权)人：佛山市瑞耐博陶瓷机械有限公司，
类型：新型
国别省市：
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