【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于金属材料,具体涉及一种低超弹滞后ti-ni-v合金及其制备方法。
技术介绍
1、形状记忆合金集驱动、传感等功能特性于一身,是装备智能化、小型化和高灵敏化的核心材料,被广泛应用于航空航天、智能控制、生物医学等领域。形状记忆合金产生超弹性的物理根源是应力诱发的可逆马氏体相变。然而,这类一级相变使得形状记忆合金能够产生较大的回复应变的同时也带来了明显的应力滞后和能量耗散,导致合金元件控制精度差、能量效率低。此外,合金在高外载下易发生位错滑移,产生塑性变形,进一步增大滞后、耗散能量,降低服役寿命。因此,亟需通过成分、工艺手段调控形状记忆合金的马氏体相变行为,改善合金力学性能,进而提升合金的超弹表现,尤其是不显著损失超弹应变的前提下降低其应力滞后。这一性能的优化有望为形状记忆合金带来更高的工程应用价值。
技术实现思路
1、为解决现有形状记忆合金中存在的上述超弹性能缺陷,本专利技术的目的在于提供一种低超弹滞后ti-ni-v合金及其制备方法,本专利技术能够有效调控马氏体相变行为,改善形状记
...【技术保护点】
1.一种低超弹滞后Ti-Ni-V合金,其特征在于,其化学通式为Ti50-x-yNi50+xVy,其中,0≤x<1,2≤y≤5。
2.根据权利要求1所述的一种低超弹滞后Ti-Ni-V合金,其特征在于,所低超弹滞后Ti-Ni-V合金在拉伸条件下的超弹应力滞后不大于200MPa。
3.根据权利要求1所述的一种低超弹滞后Ti-Ni-V合金,其特征在于,所低超弹滞后Ti-Ni-V合金的微观结构为含马氏体纳米畴的纳米晶组织状态。
4.权利要求1-3任意一项所述的一种低超弹滞后Ti-Ni-V合金的制备方法,其特征在于,包括如下过程:
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【技术特征摘要】
1.一种低超弹滞后ti-ni-v合金,其特征在于,其化学通式为ti50-x-yni50+xvy,其中,0≤x<1,2≤y≤5。
2.根据权利要求1所述的一种低超弹滞后ti-ni-v合金,其特征在于,所低超弹滞后ti-ni-v合金在拉伸条件下的超弹应力滞后不大于200mpa。
3.根据权利要求1所述的一种低超弹滞后ti-ni-v合金,其特征在于,所低超弹滞后ti-ni-v合金的微观结构为含马氏体纳米畴的纳米晶组织状态。
4.权利要求1-3任意一项所述的一种低超弹滞后ti-ni-v合金的制备方法,其特征在于,包括如下过程:
5.权利要求4所述的一种低超弹滞后ti-ni-v合金的制备方法,其特征在于,第一次热处理时,固溶均质化处理的温度为950-1050℃、保温时间为1-4h。
6.权利要求4所述的一种低超弹滞后ti-ni-v合金的制备方法,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:周玉美,党鹏飞,薛德祯,丁向东,孙军,
申请(专利权)人:西安交通大学,
类型:发明
国别省市:
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