具有穹顶结构的结构色材料及其制备方法和应用技术

技术编号:41137233 阅读:24 留言:0更新日期:2024-04-30 18:08
本发明专利技术涉及结构色材料领域,公开了一种具有穹顶结构的结构色材料及其制备方法和应用。本发明专利技术的具有穹顶结构的结构色材料的制备方法包括:1)制备具有凹坑结构的模板的步骤;2)在步骤1)得到模板的具有凹坑结构的一面上填充填充材料后并使其固化的步骤;3)将所述模板与固化后的结构色材料进行分离的步骤。根据本发明专利技术的方法,其能够制备大面积结构色,并且简单易行、具有普适性且实用性强。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及结构色材料制备领域,具体涉及一种具有穹顶结构的结构色材料及其制备方法和应用


技术介绍

1、颜色在我们的生活中随处可见。它不仅起到装饰的作用,还是我们观察和认识事物的第一感受。根据颜色产生机理的不同,可以将颜色分为化学色和结构色。化学色是由于化学分子选择性吸收某些波段的光而产生的。其本质与材料中电子跃迁有关,因此很容易受到空气中某些物质的影响而导致褪色。而结构色是由于光与微纳结构发生干涉、衍射或散射等相互作用而产生的颜色。与化学色相比,结构色具有高饱和度、高亮度、不易褪色、环境友好等优点,因此在许多前沿领域,如智能显示、软体机器人、健康监测、电子皮肤等方面具有重要的研究价值与应用前景。

2、结构色的制备主要包括自上而下的方法和自下而上的方法,如竖直沉积法、旋涂法、纳米压印、喷墨打印等。利用上述方法得到了各种各样的结构色材料。但目前实现连续大面积高质量结构色的制备依旧是有挑战性的,限制了结构色材料在实际生产生活中的发展与应用。近年来,为了解决这一问题研究人员进行了一系列的研究。

3、论文(nat.commun.2016,本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种具有穹顶结构的结构色材料的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤,

2.根据权利要求1所述的方法,其中,通过刻蚀法、呼吸图案法、光刻法、纳米压印法、电子束刻蚀法、聚焦离子束刻蚀法、双光子聚合法和微球组装法中一种或多种得到所述具有凹坑结构的模板;

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述凹坑结构的直径为500nm-100μm,优选为5-30μm;

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其中,制备所述模板的材料为无机材料、有机材料和复合材料中的一种或多种;

5.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其中,步骤2)中,所述填...

【技术特征摘要】

1.一种具有穹顶结构的结构色材料的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤,

2.根据权利要求1所述的方法,其中,通过刻蚀法、呼吸图案法、光刻法、纳米压印法、电子束刻蚀法、聚焦离子束刻蚀法、双光子聚合法和微球组装法中一种或多种得到所述具有凹坑结构的模板;

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述凹坑结构的直径为500nm-100μm,优选为5-30μm;

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其中,制备所述模板的材料为无机材料、有机材料和复合材料中的一种或多种;

5.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其中,步骤2)中,所述填充材料为功能性透明材料;

6.根据权利要求1-3中任意一项...

【专利技术属性】
技术研发人员:李明珠侯晓宇宋延林
申请(专利权)人:中国科学院化学研究所
类型:发明
国别省市:

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