一种基于动态回旋加速器中心区结构的束流调试方法技术

本发明专利技术公开了一种基于动态回旋加速器中心区结构的束流调试方法，包括：通过理论计算得到4个狭缝流强最大时束流夹缝的理论位置；使用内靶测量，安装第一中心区结构，确保束流已注入到加速器中；安装第二中心区结构，初步确定离子源注入系统参数的大致范围；安装第三中心区结构，初步确定第一高频腔体的参数范围，并更精确地确定离子源注入系统的参数，安装第四中心区结构，精确地确定第一高频腔体的参数、以及精确地确定离子源注入系统的参数；安装第五中心区结构，确定第二高频腔体的参数。本发明专利技术采用动态中心区结构进行束流调试，解决了由于中心区空间结构紧凑，导致一直以来本领域技术人员无法进行中心区束流调试的难题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于回旋加速器，尤其涉及一种基于动态回旋加速器中心区结构的束流调试方法。

技术介绍

1、在回旋加速器中，中心区是指粒子从静止(内部离子源情况)或低能(外部离子源情况)到一定高能量的加速过程的过渡区域、覆盖了束流在加速器中运动的前几圈。

2、因为中心区结构复杂且束流运动不稳定，使得中心区的束流损失率较高。在回旋加速器的调试过程中，受到加工、安装误差等非理想因素影响，中心区的束流损失率经常高于设计值，部分回旋加速器在最初的束流调试中甚至会出现束流全部损失在中心区的情况。

3、现有技术调试中心区束流的方法是：把中心区作为一个整体看待去调试束流，当把中心区作为一个整体看待去调试束流时，测量束流的装置或测试位置一般放在中心区的出口，例如，常规方法在中心区以外的中心区出口处安装内靶，用内靶测量束流。

4、把中心区作为一个整体看待去调试束流的难点在于：中心区影响束流强度的参数太多，有几十个，包括来自束流注入线的参数有十多个、来自第一高频腔体的参数有多个、来自第二高频腔体的参数有多个，将它们加一起至少20多个参数。由于并不知道本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于动态回旋加速器中心区结构的束流调试方法，该动态中心区结构是在基础中心区结构的基础上，按照调试步骤动态安装各个中心区电极柱、以及动态安装各个束流狭缝；该基础中心区结构和动态安装的各个中心区电极柱、以及动态安装的各个束流狭缝，共同组成了中心区束流调试的第一中心区结构、第二中心区结构、第三中心区结构、第四中心区结构、第五中心区结构；所述第一中心区结构用于调整离子源注入系统参数、并确保束流已注入到回旋加速器中；所述第二中心区结构用于调整离子源注入系统参数、并确定离子源注入系统参数的大致范围；所述第三中心区结构用于初步确定高频腔体的参数范围、并更精确地确定离子源注入系统的参数；所述第四...

【技术特征摘要】

1.一种基于动态回旋加速器中心区结构的束流调试方法，该动态中心区结构是在基础中心区结构的基础上，按照调试步骤动态安装各个中心区电极柱、以及动态安装各个束流狭缝；该基础中心区结构和动态安装的各个中心区电极柱、以及动态安装的各个束流狭缝，共同组成了中心区束流调试的第一中心区结构、第二中心区结构、第三中心区结构、第四中心区结构、第五中心区结构；所述第一中心区结构用于调整离子源注入系统参数、并确保束流已注入到回旋加速器中；所述第二中心区结构用于调整离子源注入系统参数、并确定离子源注入系统参数的大致范围；所述第三中心区结构用于初步确定高频腔体的参数范围、并更精确地确定离子源注入系统的参数；所述第四中心区结构用于精确地确定第一高频腔体的参数、以及精确确定离子源注入系统的参数；所述第五中心区结构用于确定第二高频腔体的参数。

2.根据权利要求1所述一种基于动态回旋加速器中心区结构的束流调试方法，其特征在于：所述步骤二的...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀鲁豫，管锋平，安世忠，魏素敏，郑侠，温立鹏，
申请(专利权)人：中国原子能科学研究院，
类型：发明
国别省市：