一种二维材料器件及其制备方法和应用技术

本发明专利技术属于二维材料非线性光学器件领域，具体涉及一种二维材料器件及其制备方法和应用。该制备方法包括(1)获得均匀附着有聚酰胺酸的基底；(2)将Bi<subgt;2</subgt;O<subgt;2</subgt;Se转移至聚酰胺酸表面，加热，得到聚酰亚胺和Bi<subgt;2</subgt;O<subgt;2</subgt;Se的复合二维材料器件。本发明专利技术采用了一种提高聚合物黏附性的方法将Bi<subgt;2</subgt;O<subgt;2</subgt;Se纳米片牢固黏附在有机聚合物衬底上，有效避免了对该二维材料施加应变时可能出现相对滑移的问题，实现了应变的高效传递，使二维材料在应变调控下表现出高效的二次谐波性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于二维材料非线性光学器件领域，具体涉及一种二维材料器件及其制备方法和应用。

技术介绍

1、目前成熟的非线性材料为三维光学晶体，如linbo3等，然而这类材料难以满足下一代光学器件小型化、集成化的需求。光学二次谐波(shg)是一种二阶非线性光学现象，即出射光的频率为入射光的两倍。光学二次谐波不仅是科研领域研究材料结构对称性、电极化畴分布和磁性序等的重要手段，而且还有着广泛的应用前景，如激光光源、光信号处理、量子光源、光子调制、生物医药成像等。具有光学二次谐波效应的二维材料的研究为微纳光子器件的实现带来了一丝曙光。

2、目前常用的二维材料包括过渡金属硫族化合物和nboi2。过渡金属硫族化合物(tmdcs)作为最具代表性的二维二阶非线性光学材料，尤其引人关注。然而，这种材料仅在奇数层薄膜中展现出中心对称破缺特性，偶数层不具备这一特性。此外，由于层间耦合效应较强，其电子能带结构会随厚度的增加发生显著变化。因此，其光学二次谐波强度并未遵循传统的厚度平方关系，不会随厚度的增加而增强。nboi2是目前已知的具有最大二次谐波转化效率的二维材料，这一本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种二维材料器件的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述Bi2O2Se为纳米片；

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述聚酰亚胺的厚度为30μm-60μm；

4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)，所述加热满足(1)-(3)中的至少一项：

5.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，利用静电吸附技术将Bi2O2Se转移至聚酰胺酸表面。

6.根据权利要求1-5任一项所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)包括：配制含聚酰胺酸...

【技术特征摘要】

1.一种二维材料器件的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述bi2o2se为纳米片；

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述聚酰亚胺的厚度为30μm-60μm；

4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)，所述加热满足(1)-(3)中的至少一项：

5.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，利用静电吸附技术将bi2o2se转移至聚酰胺酸表面。

6.根据权利要求1-5任一项所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：娄哲丰，乐天，杨小慧，林效，展锐雅，胡旺华，
申请(专利权)人：西湖大学，
类型：发明
国别省市：