【技术实现步骤摘要】
本技术属于覆铜陶瓷基板生产,涉及一种瓷片排胶量产辅助治具。
技术介绍
1、覆铜陶瓷基板根据不同工艺可以分为dbc覆铜陶瓷基板、dpc覆铜陶瓷基板、amb覆铜陶瓷基板,其中amb覆铜陶瓷基板的结合力最好,热循环好、导热性强;dbc覆铜陶瓷基板的结合力比较好,价格较为便宜;dpc覆铜陶瓷基板的铜层较薄,比较适合做精细化电路。覆铜陶瓷基板和陶瓷基板一样,具备非常良好的绝缘性能和导热性能,同时具备高频性能。
2、覆铜陶瓷基板在生产过程中,需要大量的瓷片印刷片进行排胶,单一的一架或两架无法满足量产的需求,单一的插架治具放入至排胶炉中,无法有效的使用炉体空间,因此浪费了炉体空间。瓷片由丝印机进行丝印,丝印后会以片的形式插入到排胶架中,排胶架为单体的插架,将满架的排胶架放入排胶炉中,只能放入1~2架,无法满足量产的需求。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的上述问题,本申请提供了一种瓷片排胶量产辅助治具。
2、本技术的技术方案如下:
3、一种瓷片排胶量产辅助治具,包括支撑支架,支撑支架的顶部位置设置有上层方管,支撑支架的中间位置设置有中间层方管,支撑支架的底部位置设置有下层方管,下层方管放置有排胶治具一、排胶治具二、排胶治具三和排胶治具四,排胶治具三和排胶治具四推入至支撑支架的最里面,排胶治具二摆放于排胶治具三的外侧,排胶治具一摆放于排胶治具四的外侧。
4、作为本技术的一种优选实施方式:支撑支架、上层方管、中间层方管和下层方管采用不锈钢方管制作。<
...【技术保护点】
1.一种瓷片排胶量产辅助治具,其特征在于:包括支撑支架(1),所述支撑支架(1)的顶部位置设置有上层方管(2),所述支撑支架(1)的中间位置设置有中间层方管(3),所述支撑支架(1)的底部位置设置有下层方管,所述下层方管放置有排胶治具一(5)、排胶治具二(6)、排胶治具三(7)和排胶治具四(8),所述排胶治具三(7)和排胶治具四(8)推入至支撑支架(1)的最里面,所述排胶治具二(6)摆放于排胶治具三(7)的外侧,所述排胶治具一(5)摆放于排胶治具四(8)的外侧。
2.根据权利要求1所述的瓷片排胶量产辅助治具,其特征在于:所述支撑支架(1)、上层方管(2)、中间层方管(3)和下层方管采用不锈钢方管制作。
3.根据权利要求2所述的瓷片排胶量产辅助治具,其特征在于:所述不锈钢方管的壁厚为1.5cm。
4.根据权利要求1所述的瓷片排胶量产辅助治具,其特征在于:所述中间层方管(3)的底部设有加强筋(4)。
5.根据权利要求1所述的瓷片排胶量产辅助治具,其特征在于:所述排胶治具二(6)包括墙板一(61)和墙板二(64),所述墙板一(61)和墙板
6.根据权利要求5所述的瓷片排胶量产辅助治具,其特征在于:所述定位筒一(63)和定位筒二(65)的底部设置有支撑框(62)。
...【技术特征摘要】
1.一种瓷片排胶量产辅助治具,其特征在于:包括支撑支架(1),所述支撑支架(1)的顶部位置设置有上层方管(2),所述支撑支架(1)的中间位置设置有中间层方管(3),所述支撑支架(1)的底部位置设置有下层方管,所述下层方管放置有排胶治具一(5)、排胶治具二(6)、排胶治具三(7)和排胶治具四(8),所述排胶治具三(7)和排胶治具四(8)推入至支撑支架(1)的最里面,所述排胶治具二(6)摆放于排胶治具三(7)的外侧,所述排胶治具一(5)摆放于排胶治具四(8)的外侧。
2.根据权利要求1所述的瓷片排胶量产辅助治具,其特征在于:所述支撑支架(1)、上层方管(2)、中间层方管(3)和下...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘晓辉,谢继华,
申请(专利权)人:南通威斯派尔半导体技术有限公司,
类型:新型
国别省市:
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