一种电感耦合等离子体质谱仪接口处双锥清洁设备制造技术

技术编号:41095870 阅读:18 留言:0更新日期:2024-04-25 13:54
本发明专利技术公开了一种电感耦合等离子体质谱仪接口处双锥清洁设备,上述清洁设备包括数控工作台,数控工作台上设置有移动式打磨装置、研磨膏涂抹装置和固定锥体旋转装置,研磨膏涂抹装置内盛放有研磨膏,数控工作台还包括废弃物回收装置和三维数控控制器。本设备通过提供一种研磨膏的新配方,并将新配方的研磨膏通过研磨膏涂抹装置涂抹在双锥上,利用移动式打磨装置和固定锥体旋转装置对已涂抹研磨膏的双锥锥体进行机械和化学反应打磨清洁,具有机器操作省时省力、避免出现人身伤害、数控控制精确度高、有效清除双锥表面的积盐、提高双锥使用寿命、提高分析结果的准确性和分析仪器的灵敏度和稳定性的技术效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于分析仪器,具体涉及一种电感耦合等离子体质谱仪接口处双锥清洁设备


技术介绍

1、电感耦合等离子体质谱仪(icp-ms)在测定样品的过程中,由于质谱部分测试工作为了保证离子传输效率处于高真空条件下,而icp部分是工作在常规大气压下的高温离子源,因此需要在质谱部分和icp部分的接口处实现温度隔离和真空过渡,通常情况下在接口处采用双锥即采样锥和截取锥的设计,采样锥锥口温度较高,而截取锥锥口温度则较低,样品离子流在通过两个锥孔时,样品固体盐分沉积在锥口附近,造成锥口阻塞和锥体表面固体盐分沉积,影响离子流的通过,使得icp-ms的灵敏度降低,稳定性下降,从而影响测定结果的精密度和准确度,影响样品的分析质量。

2、因此采样锥和截取锥需要定期进行人工清洗或者更换,以消除锥体上的固体盐分,人工清洗的方式为工作人员用棉棒沾稀硝酸反复擦洗,但由于双锥上积盐的样品分子结构不同,酸的反应条件和人工操作力度均不相同,仅仅依靠人工使用酸的擦洗方式,很难消除积盐,且人工擦洗过程中一方面由于擦洗力度不同容易造成双锥锥口的变形从而影响双锥的使用寿命和分析仪器的灵敏本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电感耦合等离子体质谱仪接口处双锥清洁设备,其特征在于:所述清洁设备包括数控工作台,所述数控工作台上设置有移动式打磨装置、研磨膏涂抹装置和固定锥体旋转装置,固定锥体旋转装置用于固定并旋转椎体,所述研磨膏涂抹装置内盛放有研磨膏,所述数控工作台还包括废弃物回收装置和三维数控控制器;

2.根据权利要求1所述的一种电感耦合等离子体质谱仪接口处双锥清洁设备,其特征在于:所述研磨膏的成分为氧化铝粉、硝酸、去离子水和金属螯合剂。

3.根据权利要求2所述的一种电感耦合等离子体质谱仪接口处双锥清洁设备,其特征在于:所述氧化铝粉的规格为小于200目,所述金属螯合剂包括氨基三乙酸...

【技术特征摘要】

1.一种电感耦合等离子体质谱仪接口处双锥清洁设备,其特征在于:所述清洁设备包括数控工作台,所述数控工作台上设置有移动式打磨装置、研磨膏涂抹装置和固定锥体旋转装置,固定锥体旋转装置用于固定并旋转椎体,所述研磨膏涂抹装置内盛放有研磨膏,所述数控工作台还包括废弃物回收装置和三维数控控制器;

2.根据权利要求1所述的一种电感耦合等离子体质谱仪接口处双锥清洁设备,其特征在于:所述研磨膏的成分为氧化铝粉、硝酸、去离子水和金属螯合剂。

3.根据权利要求2所述的一种电感耦合等离子体质谱仪接口处双锥清洁设备,其特征在于:所述氧化铝粉的规格为小于200目,所述金属螯合剂包括氨基三乙酸和葡萄糖酸钠。

4.根据权利要求3所述的一种电感耦合等离子体质谱仪接口处双锥清洁设备,其特征在于:所述氧化铝粉、硝酸、去离子水和金属螯合剂的质量比为:1000~2000:10~20:500~1000:20~30;所述氨基三乙酸和葡萄糖酸钠的质量比为:1:1。

5.根据权利要求1所述的一种电感耦合等离子体质谱仪接口处双锥清洁设备,其特征在于:所述数控工作台上表面设置有清洁槽,所述清洁槽内放置移动式打磨装置,所述移动式打磨装置包括固定安装在清洁槽底部的滑轨,所述滑轨的侧边均匀设置有多个通孔,所述滑轨内滑动设置有滑块,所述滑块上安装有平行于双锥侧面的电控制伸缩杆,所述电控制伸缩杆远离滑块的一端通过转动件连接有带有研磨球的打磨杆,所述研磨球外包裹有脱脂棉,所述移动式打磨装置还包括挡板。

6.根据权利要求5所述的一种电感耦合...

【专利技术属性】
技术研发人员:王书勤宋志敏颜蕙园张会田彩芳白露赵娜娜王小强何沙白梁倩
申请(专利权)人:河南省地质研究院
类型:发明
国别省市:

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