【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及陶瓷材料制备，尤其涉及一种高光泽釉面瓷砖制备方法。
技术介绍
1、瓷砖作为一种广泛使用的建筑装饰材料，其美观性、耐久性和实用性对于现代建筑设计至关重要，特别是在高端装饰领域，瓷砖的光泽度成为衡量其品质的重要标准之一，传统的瓷砖制备技术虽然能够生产出多样化的瓷砖产品，但在高光泽釉面瓷砖的制备上，仍存在一些局限性，光泽度不足的问题常常困扰着制造商，尤其是在需要高端装饰效果的场合。
2、现有的瓷砖制备技术面临的主要挑战之一是如何有效提升瓷砖的光泽度，同时保持其物理和化学性能，以适应不同的使用环境和装饰需求，此外，现有方法在瓷砖坯体制备、釉料配制和烧结工艺等方面，往往难以兼顾效率和产品质量。例如，在釉料的制备和施加过程中，传统方法可能无法均匀施加或完全熔融釉料，导致成品瓷砖的光泽度不均匀，同时，在烧结过程中的温度控制和坯体的致密化也是影响最终光泽度的关键因素。
3、因此，亟需一种改进的瓷砖制备方法，能够有效解决上述问题，提高瓷砖的光泽度，同时保证其耐用性和适用性，以满足市场对高品质瓷砖的需求。
技术实现思路
1、基于上述目的，本专利技术提供了一种高光泽釉面瓷砖制备方法。
2、一种高光泽釉面瓷砖制备方法，包括以下步骤：
3、s1：按照预设重量比混合硅酸钠、氧化锌、碳酸钙、高岭土、长石粉，形成混合原料；
4、s2：将s1的混合原料在球磨机中进行球磨处理，形成浆料；
5、s3：在球磨后的料浆中添加有机结合剂并进
6、s4：将添加了有机结合剂的料浆进行喷雾干燥处理，以形成干燥的粉体；
7、s5：在预定的压力下将s4步骤得到的干粉进行压制成型，形成瓷砖坯体；
8、s6：在瓷砖坯体上均匀施加一层高光泽釉料；
9、s7：将施釉后的瓷砖进行高温烧结处理，冷却后得到最终高光泽釉面的瓷砖成品。
10、进一步的，所述s1中预设重量比具体为硅酸钠占17-35％、氧化锌占5-8％、碳酸钙占20-25％、高岭土占25-30％、长石粉占15-20％。
11、进一步的，所述s6中的高光泽釉料各组分包括硅酸锆18％、氧化铝12％、硼酸7％、硅酸钠13％、钛白粉7％、氧化钛3％、氧化锶5％、长石13％、碳酸钡3％以及添加剂19％，所述添加剂为氧化锂、氧化钾或氧化钠。
12、进一步的，所述s2具体包括：
13、s21：先将s1中的混合原料放入球磨机中，接着向球磨机中添加水形成初始浆料，控制混合原料与水的重量比为1:0.6至1:1.2；
14、s22：在球磨机中对初始浆料进行球磨处理，球磨时间为4-8小时内，球磨机的转速控制为60-120转/分钟；
15、s23：球磨完成后，使用0.5微米孔径的过滤网对浆料进行过滤，筛选出粒径小于0.5微米的浆料备用。
16、进一步的，所述s3具体包括：
17、s31：选择的有机结合剂为聚乙烯醇、甲基纤维素或羧甲基纤维素；
18、s32：将选定的有机结合剂按照料浆重量的0.5-2％的比例精确称量；
19、s33：将称量后的有机结合剂加入至球磨后的料浆中，在转速为60-80转/分钟下搅拌进行混合，搅拌时间为15-30分钟；
20、s34：在整个混合过程中，维持料浆的温度为20-35℃；
21、s35：混合完成后，检查料浆的粘度，控制在600-1200mpa·s。
22、进一步的，所述s4具体包括：
23、s41：将含有有机结合剂的料浆转移到喷雾干燥装置中；
24、s42：在喷雾干燥过程中，控制喷头的压力为2-5巴，并设置喷雾干燥室的入口温度为150-200℃，出口温度为70-100℃；
25、s43：干燥完成后，控制收集的干燥粉体含水率低于0.5％。
26、进一步的，所述s5具体包括：
27、s51：将s4中得到的干燥粉体均匀地填充到压制模具中；
28、s52：在压制过程中，设置压力机的压力为2000-5000吨，控制压制的时间为30-60秒；
29、s53：压制完成后，缓慢卸载压力，并在室温下将瓷砖坯体从模具中取出，得到瓷砖坯体。
30、进一步的，所述s6中高光泽釉料的制备步骤为：
31、s61：按照预设比例混合硅酸锆、氧化铝、硼酸、硅酸钠、钛白粉、氧化钛、氧化锶、长石、碳酸钡以及添加剂，以制备釉料粉体；
32、s62：将制备好的釉料粉体与水按照1:0.5至1:1的重量比混合，形成釉浆；
33、s63：使用孔径为0.3至0.5微米的过滤网，将釉浆过滤以去除大颗粒或杂质；
34、s64：使用喷枪或浸釉机，将釉浆均匀施加在瓷砖坯体表面，控制施釉厚度为0.2-0.5毫米；
35、s65：施釉后的瓷砖坯体在室温下自然晾干，直到釉层表面干燥无明显湿润痕迹。
36、进一步的，所述s7具体包括：
37、s71：将施釉后的瓷砖坯体置于烧结窑内，并设定烧结窑的初始温度为室温；
38、s72：逐渐提升烧结窑的温度，以每小时100℃的速率升温，直至达到烧结温度的1250-1350℃；
39、s73：在s72的烧结温度下保持1-2小时；
40、s74：完成烧结过程后，逐渐降低烧结窑温度，还是以每小时100℃的速率冷却；
41、s75：待瓷砖温度降至室温后，从烧结窑中取出瓷砖，得到最终高光泽釉面的瓷砖成品。
42、本专利技术的有益效果：
43、本专利技术，通过采用的高光泽釉料，结合有效的施釉技术，显著提升了瓷砖的表面光泽度，确保了釉层的均匀分布和充分熔融，从而赋予瓷砖更高的光泽度和更加吸引的视觉效果，这一改进对于提升瓷砖的美观性和市场竞争力具有重要意义。
44、本专利技术，通过对原料的精细处理和坯体的压制成型工艺，有效提高了瓷砖的致密性和均匀性，从而增强了其耐磨性和耐久性，此外，经过优化的高温烧结工艺进一步确保了瓷砖的化学稳定性和结构完整性，使其更适合长期使用。
45、本专利技术，通过对制备工艺的优化，如高效喷雾干燥处理和精确压制成型，不仅提高了生产的效率，还降低了原材料的浪费，这些改进使得本专利技术的瓷砖制备方法在保证产品质量的同时，也具有较高的成本效益，有利于在竞争激烈的市场中占据优势。
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1.一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其特征在于，所述S1中预设重量比具体为硅酸钠占17-35％、氧化锌占5-8％、碳酸钙占20-25％、高岭土占25-30％、长石粉占15-20％。
3.根据权利要求2所述的一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其特征在于，所述S6中的高光泽釉料各组分包括硅酸锆18％、氧化铝12％、硼酸7％、硅酸钠13％、钛白粉7％、氧化钛3％、氧化锶5％、长石13％、碳酸钡3％以及添加剂19％，所述添加剂为氧化锂、氧化钾或氧化钠。
4.根据权利要求3所述的一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其特征在于，所述S2具体包括：
5.根据权利要求4所述的一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其特征在于，所述S3具体包括：
6.根据权利要求5所述的一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其特征在于，所述S4具体包括：
7.根据权利要求6所述的一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其特征在于，所述S5具体包括：
8.根据权利要求6所述的一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其
9.根据权利要求8所述的一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其特征在于，所述S7具体包括：
...【技术特征摘要】
1.一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其特征在于，所述s1中预设重量比具体为硅酸钠占17-35％、氧化锌占5-8％、碳酸钙占20-25％、高岭土占25-30％、长石粉占15-20％。
3.根据权利要求2所述的一种高光泽釉面瓷砖制备方法，其特征在于，所述s6中的高光泽釉料各组分包括硅酸锆18％、氧化铝12％、硼酸7％、硅酸钠13％、钛白粉7％、氧化钛3％、氧化锶5％、长石13％、碳酸钡3％以及添加剂19％，所述添加剂为氧化锂、氧化钾或氧化钠。
4.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：叶治国，臧冲，门冬亮，臧明浩，
申请(专利权)人：淄博华岳建筑陶瓷有限公司，
类型：发明
国别省市：
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