一种过滤装置制造方法及图纸

本技术提供一种过滤装置，所述过滤装置包括：第一滤网结构以及第二滤网结构；所述第一滤网结构具有第一延伸高度且内部中空；所述第二滤网结构围绕所述第一滤网结构设置，所述第二滤网结构的底部与所述第一滤网结构的底部连接，以使得所述第二滤网结构与所述第一滤网结构之间形成一过滤腔，所述第二滤网结构具有与所述第一滤网结构的延伸方向相同的第二延伸高度，所述第二延伸高度小于所述第一延伸高度。当因研磨液结晶沉积而导致所述过滤腔的底部堵塞时，液体还可以通过位于中间的所述第一滤网结构排出，另外，当结晶沉积较多时，由于所述第一滤网结构的高度大于所述第二滤网的高度，还可保证装置顶部可以排液，从而可以降低积液溢出的风险。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体，特别涉及一种用于在将研磨液从研磨机台排出时对所述研磨液进行过滤的过滤装置。

技术介绍

1、化学机械研磨(cmp)机台研磨使用的研磨液大多具有容易结晶化的特性，尤其在机台长时间生产过程中，会生成大量的研磨液结晶，结晶呈糊状不透水，直径偏大的结晶会覆盖在排水口滤网上，造成机台的排水口堵塞，排水不断积累，触发传感器警报，严重影响机台正常运行时间，甚至会因为积液溢出导致机台发生安全事故。

技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种过滤装置，以解决现有用于对研磨液过滤的滤网随着时间积累，容易因滤网表面沉积导致排水口堵塞而使得积液溢出的问题。

2、为解决上述技术问题，本技术提供一种过滤装置，用于在将研磨液从研磨机台排出时对所述研磨液进行过滤，所述过滤装置包括：

3、第一滤网结构，所述第一滤网结构具有第一延伸高度且内部中空；以及，

4、第二滤网结构，所述第二滤网结构围绕所述第一滤网结构设置，所述第二滤网结构的底部与所述第一滤网结构的底部连接，以使得所述第二滤网结构与所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种过滤装置，用于在将研磨液从研磨机台排出时对所述研磨液进行过滤，其特征在于，所述过滤装置包括：

2.如权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述第二滤网结构具有底壁和侧壁，所述底壁和所述侧壁均分布有过滤孔，所述侧壁围绕所述第一滤网结构设置，具有所述第二延伸高度，且通过所述底壁与所述第一滤网结构的底部连接，所述底壁的延伸方向垂直于所述第一滤网结构及所述第二滤网结构的高度方向。

3.如权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述过滤装置用于与内径为R1的排液管道配套使用，所述第二滤网结构的顶部具有向外凸出设置的限位件，所述第二滤网结构的外径R2小于R1，所述限位件...

【技术特征摘要】

1.一种过滤装置，用于在将研磨液从研磨机台排出时对所述研磨液进行过滤，其特征在于，所述过滤装置包括：

2.如权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述第二滤网结构具有底壁和侧壁，所述底壁和所述侧壁均分布有过滤孔，所述侧壁围绕所述第一滤网结构设置，具有所述第二延伸高度，且通过所述底壁与所述第一滤网结构的底部连接，所述底壁的延伸方向垂直于所述第一滤网结构及所述第二滤网结构的高度方向。

3.如权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，所述过滤装置用于与内径为r1的排液管道配套使用，所述第二滤网结构的顶部具有向外凸出设置的限位件，所述第二滤网结构的外径r2小于r1，所述限位件的外侧与所述第二滤网结构的轴线之间的距离l大于1/2r1。

4.如权利要求3所述的过滤装置，其特征在于，r2比r1小1mm～2mm，l比1/2r1大1mm以上。

5.如权利要求3所述的过滤装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：张达智，郑时裕，翁嘉鸿，
申请(专利权)人：芯恩青岛集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：