【技术实现步骤摘要】
本公开涉及一种显示装置和一种制造显示装置的方法。
技术介绍
1、随着信息社会发展，对用于显示图像的显示装置的需求已经多样化。例如，显示装置已经应用于诸如智能电话、数码相机、笔记本计算机、导航系统和智能电视机的各种电子装置。显示装置的示例包括诸如液晶显示(“lcd”)装置、场发射显示(“fed”)装置或有机发光二极管(“oled”)显示装置的平板显示装置。具体地，oled显示装置包括发光元件，该发光元件可以使显示面板的像素发射光，并且因此可以在不借助向显示面板提供光的背光单元的情况下显示图像。
技术实现思路
1、本公开的各方面提供了一种显示装置和一种制造显示装置的方法，所述显示装置和所述制造显示装置的方法能够通过在不执行掩模工艺的情况下，于在单独的发射区域中形成发光元件的工艺中防止公共电极短路来防止发光元件中的缺陷并改善可靠性。
2、然而，本公开的各方面不限于本文中阐述的那些。通过参照以下给出的本公开的详细描述，本公开的上述和其他方面对于本公开所属领域的普通技术人员将变得更加明显。
3、根据实施例，一种显示装置包括：第一像素电极，在基底上设置在第一发射区域中；绝缘层，覆盖所述第一像素电极的边缘；第一发光层，设置在所述第一像素电极和所述绝缘层上；第一公共电极，设置在所述第一发光层上；多个堤，设置在所述绝缘层上并且围绕所述第一发射区域；以及第一有机图案，围绕所述第一发射区域，设置在所述多个堤上，并且与所述第一发光层包括相同的材料。所述多个堤中的每一个的侧表面与所述
4、所述多个堤可以包括：第一堤，设置在所述绝缘层上并且包括金属材料；第二堤，设置在所述第一堤上；以及第三堤，设置在所述第一堤和所述绝缘层之间。
5、所述第一堤的侧表面可以从所述第二堤的侧表面和所述第三堤的侧表面向内凹陷。
6、所述第二堤可以包括从所述第一堤的侧表面朝向所述第一发射区域突出的尖端。
7、所述第一公共电极可以延伸到所述第一堤和所述第三堤中的每一者的侧表面，并且可以与所述第一堤的所述侧表面和所述第三堤的顶表面接触。
8、所述显示装置还可以包括：第二像素电极，在所述基底上设置在第二发射区域中；第二发光层，设置在所述第二像素电极上；以及第二公共电极，设置在所述第二发光层上。
9、所述第一公共电极和所述第二公共电极可以经由所述第一堤和所述第三堤电连接。
10、所述多个堤可以包括：第一堤，设置在所述绝缘层上并且包括金属材料；和第二堤，设置在所述第一堤上。
11、所述第一堤的侧表面可以从所述第二堤的侧表面向内凹陷。
12、所述显示装置还可以包括：第二像素电极，在所述基底上设置在第二发射区域中；第二发光层，设置在所述第二像素电极上；以及第二公共电极，设置在所述第二发光层上。所述第一公共电极和所述第二公共电极可以经由所述第一堤电连接。
13、根据实施例，一种制造显示装置的方法包括：在基底上形成第一像素电极和第二像素电极；在所述第一像素电极和所述第二像素电极上依次沉积牺牲层、绝缘层、第三堤、第一堤和第二堤；在所述第二堤上形成第一光致抗蚀剂，所述第一光致抗蚀剂在平面图中不与所述第一像素电极重叠；使用所述第一光致抗蚀剂作为掩模蚀刻所述第二堤、所述第一堤和所述第三堤；形成第二光致抗蚀剂，所述第二光致抗蚀剂覆盖所述第一堤、所述第二堤和所述第三堤中的每一者的侧表面；以及使用所述第二光致抗蚀剂作为掩模蚀刻所述绝缘层。
14、所述方法在所述绝缘层的所述蚀刻之后，还可以包括：使用所述第二光致抗蚀剂作为掩模蚀刻所述牺牲层，以暴露所述第一像素电极。
15、所述方法在所述第一像素电极的所述暴露之后，还可以包括：在所述第一像素电极上形成第一发光层，并且在所述第二堤上形成第一有机图案；在所述第一发光层上形成第一公共电极，并且在所述第一有机图案上形成第一电极图案；在所述第一公共电极上形成盖层，并且在所述第一电极图案上形成第一盖图案；以及形成覆盖所述盖层、所述第一盖图案、以及所述第一堤的所述侧表面的第一无机层。
16、所述第二堤、所述第一堤和所述第三堤的所述蚀刻可以包括使所述第一堤的所述侧表面从所述第二堤和所述第三堤中的每一者的所述侧表面向内凹陷。
17、所述方法在所述绝缘层的所述蚀刻之后，还可以包括：去除所述第二光致抗蚀剂，并且蚀刻所述牺牲层、以及所述第一堤的所述侧表面。
18、根据实施例，一种制造显示装置的方法包括：在基底上形成第一像素电极和第二像素电极；在所述第一像素电极和所述第二像素电极上依次沉积牺牲层、绝缘层、第一堤和第二堤；在所述第二堤上形成第一光致抗蚀剂，所述第一光致抗蚀剂在平面图中不与所述第一像素电极重叠；使用所述第一光致抗蚀剂作为掩模蚀刻所述第二堤和所述第一堤；形成第二光致抗蚀剂，所述第二光致抗蚀剂覆盖所述第一堤和所述第二堤中的每一者的侧表面；以及使用所述第二光致抗蚀剂作为掩模蚀刻所述绝缘层。
19、所述方法在所述绝缘层的所述蚀刻之后，还可以包括：使用所述第二光致抗蚀剂作为掩模蚀刻所述牺牲层，以暴露所述第一像素电极。
20、所述方法在所述第一像素电极的所述暴露之后，还可以包括：在所述第一像素电极上形成第一发光层，并且在所述第二堤上形成第一有机图案；在所述第一发光层上形成第一公共电极，并且在所述第一有机图案上形成第一电极图案；在所述第一公共电极上形成盖层，并且在所述第一电极图案上形成第一盖图案；以及形成覆盖所述盖层、所述第一盖图案、以及所述第一堤的所述侧表面的第一无机层。
21、所述第二堤和所述第一堤的所述蚀刻可以包括使所述第一堤的所述侧表面从所述第二堤的所述侧表面向内凹陷。
22、所述方法在所述绝缘层的所述蚀刻之后，还可以包括：去除所述第二光致抗蚀剂，并且蚀刻所述牺牲层、以及所述第一堤的所述侧表面。
23、根据本公开的前述和其他实施例，当使用第一光致抗蚀剂作为掩模蚀刻堤并且使用第二光致抗蚀剂作为掩模蚀刻覆盖多个堤中的每一个的侧表面的绝缘层时，绝缘层可以具有倾斜的侧表面，并且可以提供相对薄的残留图案。此外，由于可以防止公共电极短路，因此可以防止发光元件的缺陷，并且可以有效地改善可靠性。
24、应当注意的是，本公开的效果不限于上面描述的那些，并且根据以下的描述，本公开的其他效果将是明显的。
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1.一种显示装置，其中，所述显示装置包括：
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个堤包括:
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第一堤的侧表面从所述第二堤的侧表面和所述第三堤的侧表面向内凹陷。
4.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第二堤包括从所述第一堤的侧表面朝向所述第一发射区域突出的尖端。
5.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第一公共电极延伸到所述第一堤和所述第三堤中的每一者的侧表面，并且与所述第一堤的所述侧表面和所述第三堤的顶表面接触。
6.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：
7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，所述第一公共电极和所述第二公共电极经由所述第一堤和所述第三堤电连接。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个堤包括:
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述第一堤的侧表面从所述第二堤的侧表面向内凹陷。
10.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：
11.一种
12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述方法在所述绝缘层的所述蚀刻之后，还包括：
13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述方法在所述第一像素电极的所述暴露之后，还包括：
14.根据权利要求11所述的方法，其中，所述第二堤、所述第一堤和所述第三堤的所述蚀刻包括使所述第一堤的所述侧表面从所述第二堤和所述第三堤中的每一者的所述侧表面向内凹陷。
15.根据权利要求11所述的方法，其中，所述方法在所述绝缘层的所述蚀刻之后，还包括：
16.一种制造显示装置的方法，其中，所述方法包括：
17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述方法在所述绝缘层的所述蚀刻之后，还包括：
18.根据权利要求17所述的方法，其中，所述方法在所述第一像素电极的所述暴露之后，还包括：
19.根据权利要求16所述的方法，其中，所述第二堤和所述第一堤的所述蚀刻包括使所述第一堤的所述侧表面从所述第二堤的所述侧表面向内凹陷。
20.根据权利要求16所述的方法，其中，所述方法在所述绝缘层的所述蚀刻之后，还包括：
...【技术特征摘要】
1.一种显示装置，其中，所述显示装置包括：
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个堤包括:
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第一堤的侧表面从所述第二堤的侧表面和所述第三堤的侧表面向内凹陷。
4.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第二堤包括从所述第一堤的侧表面朝向所述第一发射区域突出的尖端。
5.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第一公共电极延伸到所述第一堤和所述第三堤中的每一者的侧表面，并且与所述第一堤的所述侧表面和所述第三堤的顶表面接触。
6.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：
7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，所述第一公共电极和所述第二公共电极经由所述第一堤和所述第三堤电连接。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个堤包括:
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述第一堤的侧表面从所述第二堤的侧表面向内凹陷。
10.根据权利要求8所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：
11.一种制造显示装置的方法，...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑多云，裵水斌，姜泰旭，金湘甲，吕伦钟，丁有光，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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