System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 一种爆珠质量检测方法、装置、电子设备及存储介质制造方法及图纸_技高网

一种爆珠质量检测方法、装置、电子设备及存储介质制造方法及图纸

技术编号:40967309 阅读:3 留言:0更新日期:2024-04-18 20:48
本申请提供了一种爆珠质量检测方法、装置、电子设备及存储介质,包括:获取爆珠产品图像,接收质量启动检测指令,对爆珠产品图像中的爆珠进行外观检测,将轮廓形状符合预设形状标准的爆珠确定为外观合格爆珠,在爆珠产品图像上,为外观合格爆珠添加对应的外观合格标注,生成第一目标图像,对第一目标图像进行杂质识别,确定杂质点并为杂质点添加杂质点标注,形成第二目标图像,根据第一目标图像和第二目标图像,从多个外观合格爆珠中识别出无杂质污染的目标合格爆珠。本申请通过图像处理技术进行自动化的爆珠质量检测,提高检测效率,降低检测成本的同时提高检测精度。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及图像数据处理,尤其涉及一种爆珠质量检测方法、装置、电子设备及存储介质


技术介绍

1、爆珠是一种被放置于香烟滤嘴中的透明小珠,最早常见于国外的进口烟中,通过按压、挤破的行为使得其中的香精爆出,令吸烟者获得更丰富的体验。爆珠的制备过程并不复杂,但是在推入过滤嘴之前,其质量检测可能会完全通过人工的方式,由操作工判断产品是否品相完整,符合要求质量合格品则可以应用;或是通过个别厂家专利技术专利的机械,通过对产品滚动、平移等动作进行拍摄,从而判断其是否合格。

2、上述两种方式,存在以下缺点:

3、第一种方式完全通过人工对爆珠指令进行检测或筛选,极大增加了人工成本,且降低了质量检测效率,第二种方式,需要购置专用器械组成工序完成操作,不仅增加了成本,同时引入精度不明朗的新型器材进行检测,可能会进一步降低检测精度。


技术实现思路

1、有鉴于此,本申请的目的在于至少提供一种爆珠质量检测方法、装置、电子设备及存储介质,通过图像处理技术进行自动化的爆珠质量检测,提高检测效率,降低检测成本的同时提高检测精度。

2、本申请主要包括以下几个方面:

3、第一方面,本申请实施例提供一种爆珠质量检测方法,方法包括:获取爆珠产品图像,爆珠产品图像包括至少一个平铺的爆珠;接收质量启动检测指令,质量启动检测指令携带预设检测标准,预设检测标准根据爆珠对应生产工艺标准进行设置;基于opencv和所述预设检测标准对爆珠产品图像中的爆珠进行外观检测,将轮廓形状符合预设标准形状的爆珠确定为外观合格爆珠;在爆珠产品图像上,为外观合格爆珠添加对应的外观合格标注,生成第一目标图像;基于opencv和所述预设检测标准对第一目标图像进行杂质识别,确定杂质点并为杂质点添加杂质点标注,形成第二目标图像;根据第一目标图像和第二目标图像,从多个外观合格爆珠中识别出无杂质污染的目标合格爆珠。

4、在一种可能的实施方式中,预设检测标准包括形状检测参数,形状检测参数包括霍夫圆变换参数,霍夫圆变换参数至少包括相邻爆珠圆心之间的最小距离、爆珠轮廓最小尺寸和爆珠轮廓最大尺寸,其中,通过以下方式确定爆珠产品图像中的外观合格爆珠:使用opencv提供的cvtcolor函数对爆珠产品图像进行灰度化处理,将爆珠产品图像中的每个像素点对应的颜色变化范围设置在预设灰度区间,以得到第一处理图像;对第一处理图像进行固定阈值二值化处理,得到第二处理图像;利用霍夫圆变换函数和霍夫圆变换参数,从第二处理图像中识别出轮廓形状符合预设标准形状的外观合格爆珠。

5、在一种可能的实施方式中,形状检测参数还包括预设灰度阈值,其中,通过以下方式得到第二处理图像:对第一处理图像中的每个像素点,将该像素点对应的灰度值与预设灰度阈值进行比较,若灰度值大于或者等于预设灰度阈值,则将该像素点对应的灰度值设置为灰度极大值,若灰度值小于预设灰度阈值,则将该像素点对应的灰度值设置为灰度极小值,灰度极大值为预设灰度区间的上限值,灰度极小值为预设灰度区间的下限值。

6、在一种可能的实施方式中,预设检测标准还包括杂质检测参数,杂质检测参数包括中值滤波参数,杂质点包括不影响爆珠质量的第一杂质点和影响爆珠质量的第二杂质点,其中,对第一目标图像进行杂质识别,确定杂质点并为杂质点添加杂质点标注,形成第二目标图像的步骤包括:使用中值滤波函数和中值滤波参数,对第一目标图像进行处理,以去除第一目标图像中的第一杂质点,得到第三处理图像,其中,中值滤波参数指示需要抹去的第一杂质点尺寸范围;对第三处理图像进行第二杂质点的识别,确定第二杂质点并为第二杂质点添加杂质点批注,形成第二目标图像。

7、在一种可能的实施方式中,杂质检测参数还包括自适应二值化阈值,其中,确定第二杂质点并为第二杂质点添加杂质点批注,形成第二目标图像的步骤包括:对第三处理图像进行灰度化处理,得到第四处理图像;利用自适应二值化阈值对第四处理图像进行自适应二值化处理,从第四处理图像识别出第二杂质点;为第二杂质点添加预设颜色标注,以形成第二目标图像。

8、在一种可能的实施方式中,通过以下方式识别出目标合格爆珠:使用numpy方法中的fromfunction函数,将第二目标图像上标注出的第二杂质点叠加在第一目标图像上,形成第三目标图像,第三目标图像包括外观合格爆珠以及第二杂质点;将第三目标图像中无第二杂质点的外观合格爆珠,确定为目标合格爆珠。

9、第二方面,本申请实施例还提供一种爆珠质量检测装置,装置包括:获取模块,用于获取爆珠产品图像,爆珠产品图像包括至少一个平铺的爆珠;指令接收模块,用于接收质量启动检测指令,质量启动检测指令携带预设检测标准,预设检测标准根据爆珠对应生产工艺标准进行设置;外观质量检测模块,用于基于opencv和所述预设检测标准对爆珠产品图像中的爆珠进行外观检测,将轮廓形状符合预设标准形状的爆珠确定为外观合格爆珠;标注模块,用于在爆珠产品图像上,为外观合格爆珠添加对应的外观合格标注,生成第一目标图像;杂质检测模块,用于基于opencv和所述预设检测标准对第一目标图像进行杂质识别,确定杂质点并为杂质点添加杂质点标注,形成第二目标图像;识别模块,用于根据第一目标图像和第二目标图像,从多个外观合格爆珠中识别出无杂质污染的目标合格爆珠。

10、在一种可能的实施方式中,识别模块还用于:使用numpy方法中的fromfunction函数,将第二目标图像上标注出的第二杂质点叠加在第一目标图像上,形成第三目标图像,第三目标图像包括外观合格爆珠以及第二杂质点;将第三目标图像中无第二杂质点的外观合格爆珠,确定为目标合格爆珠。

11、第三方面,本申请实施例还提供一种电子设备,包括:处理器、存储器和总线,存储器存储有处理器可执行的机器可读指令,当电子设备运行时,处理器与存储器之间通过总线进行通信,机器可读指令被处理器运行时执行上述第一方面或第一方面中任一种可能的实施方式中的爆珠质量检测方法的步骤。

12、第四方面,本申请实施例还提供了一种计算机可读存储介质,计算机可读存储介质上存储有计算机程序,计算机程序被处理器运行时执行上述第一方面或第一方面中任一种可能的实施方式中的爆珠质量检测的步骤。

13、本申请实施例提供的一种爆珠质量检测方法、装置、电子设备及存储介质,包括:获取爆珠产品图像,接收质量启动检测指令,对爆珠产品图像中的爆珠进行外观检测,将轮廓形状符合预设标准形状的爆珠确定为外观合格爆珠,在爆珠产品图像上,为外观合格爆珠添加对应的外观合格标注,生成第一目标图像,对第一目标图像进行杂质识别,确定杂质点并为杂质点添加杂质点标注,形成第二目标图像,根据第一目标图像和第二目标图像,从多个外观合格爆珠中识别出无杂质污染的目标合格爆珠。本申请通过图像处理技术进行自动化的爆珠质量检测,提高检测效率,降低检测成本的同时提高检测精度。

14、本申请有益之处在于在于:

15、①成本低廉:相较于现存方案使用设备或人工方法对爆珠质量进本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种爆珠质量检测方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述预设检测标准包括形状检测参数,所述形状检测参数包括霍夫圆变换参数,所述霍夫圆变换参数至少包括相邻爆珠圆心之间的最小距离、爆珠轮廓最小尺寸和爆珠轮廓最大尺寸,

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述形状检测参数还包括预设灰度阈值,

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述预设检测标准还包括杂质检测参数,所述杂质检测参数包括中值滤波参数,所述杂质点包括不影响爆珠质量的第一杂质点和影响爆珠质量的第二杂质点,

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述杂质检测参数还包括自适应二值化阈值,

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,通过以下方式识别出目标合格爆珠:

7.一种爆珠质量检测装置,其特征在于,所述装置包括:

8.根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述识别模块还用于:

9.一种电子设备,其特征在于,包括:处理器、存储器和总线,所述存储器存储有所述处理器可执行的机器可读指令,当电子设备运行时,所述处理器与所述存储器之间通过所述总线进行通信,所述机器可读指令被所述处理器运行时执行如权利要求1至6任一所述的爆珠质量检测方法的步骤。

10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器运行时执行如权利要求1至6任一所述的爆珠质量检测方法的步骤。

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【技术特征摘要】

1.一种爆珠质量检测方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述预设检测标准包括形状检测参数,所述形状检测参数包括霍夫圆变换参数,所述霍夫圆变换参数至少包括相邻爆珠圆心之间的最小距离、爆珠轮廓最小尺寸和爆珠轮廓最大尺寸,

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述形状检测参数还包括预设灰度阈值,

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述预设检测标准还包括杂质检测参数,所述杂质检测参数包括中值滤波参数,所述杂质点包括不影响爆珠质量的第一杂质点和影响爆珠质量的第二杂质点,

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述杂质检测参数还包括自适应二值化阈值,

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【专利技术属性】
技术研发人员:李小龙李晓波黄银祥
申请(专利权)人:北京远舢智能科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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