一种产品制造配方的管理方法、管理装置、设备及介质制造方法及图纸

技术编号:40955233 阅读:22 留言:0更新日期:2024-04-18 20:31
本申请提供了一种产品制造配方的管理方法、管理装置、设备及介质,所述管理方法包括:响应于用户在生产信息化管理系统中对于多个配方类型中任意一个配方类型的选择操作,确定出制造目标生产批号对应的目标产品所需的配方对应的目标配方类型;根据所述目标配方类型,确定出所述配方中的配方规则;响应于所述用户在所述生产信息化管理系统中对于所述配方规则中的参数的确定操作,获取目标参数,并基于所述配方规则以及所述目标参数生成所述配方。通过所述管理方法和管理装置,提高了生成的配方的准确性,保证了配方的正确使用,进而提高产品质量。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及半导体制造,具体而言,涉及一种产品制造配方的管理方法、管理装置、设备及介质


技术介绍

1、在半导体制造中,工程师往往会根据产品在每个半导体加工设备上设置不同的生产配方(eqp recipe),生产配方提供了晶圆进入半导体加工设备加工时所用到的工艺步骤以及每个工艺步骤所用到的全部参数。

2、目前,在进行晶圆加工时,配方往往都是通用的。但是由于晶圆的种类不同,使用相同的配方进行加工,会导致所制造出来的晶圆质量参差不齐。


技术实现思路

1、有鉴于此,本申请的目的在于提供一种产品制造配方的管理方法、管理装置、设备及介质,根据用户在多个配方类型中所选的目标配方类型确定出配方中所需要的配方规则,并基于配方规则以及用户所选择的目标参数生成目标配方类型下的配方,提高了生成的配方的准确性,保证了配方的正确使用,进而提高产品质量。

2、第一方面,本申请实施例提供了一种产品制造配方的管理方法,所述管理方法包括:

3、响应于用户在生产信息化管理系统中对于多个配方类型中任意一个配方类型的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种产品制造配方的管理方法,其特征在于,所述管理方法包括:

2.根据权利要求1所述的管理方法,其特征在于,所述多个配方类型包括正常配方类型、首要配方类型、平行配方类型、矩阵配方类型以及清洁配方类型;所述根据所述目标配方类型,确定出所述配方中的配方规则,包括:

3.根据权利要求1所述的管理方法,其特征在于,当所述目标产品对应的配方需要进行变更时,所述管理方法还包括:

4.根据权利要求1所述的管理方法,其特征在于,当所述目标生产批号为预设类型批号时,所述管理方法还包括:

5.根据权利要求4所述的管理方法,其特征在于,当所述目标生产批号在对应...

【技术特征摘要】

1.一种产品制造配方的管理方法,其特征在于,所述管理方法包括:

2.根据权利要求1所述的管理方法,其特征在于,所述多个配方类型包括正常配方类型、首要配方类型、平行配方类型、矩阵配方类型以及清洁配方类型;所述根据所述目标配方类型,确定出所述配方中的配方规则,包括:

3.根据权利要求1所述的管理方法,其特征在于,当所述目标产品对应的配方需要进行变更时,所述管理方法还包括:

4.根据权利要求1所述的管理方法,其特征在于,当所述目标生产批号为预设类型批号时,所述管理方法还包括:

5.根据权利要求4所述的管理方法,其特征在于,当所述目标生产批号在对应的加工设备上进行预约时,所述管理方法还包括:

6.根据权利要求5所述的管理方法,其特征在于,当所述目标生产批号在对应...

【专利技术属性】
技术研发人员:盛旺吕文飞
申请(专利权)人:上海赛美特软件科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1