【技术实现步骤摘要】
本申请涉及自动控制领域，具体涉及一种恒压反应控制系统、方法、装置及电子设备。
技术介绍
1、在利用化学气相沉积(chemical vapor deposition，cvd)的方式生长薄膜材料的过程中，通常需要使反应环境处于高温恒压的状态，以将气体加热到很高的温度，使气体发生热分解反应，使得热分解出来的分子或原子在基材表面发生沉积反应进而生成保护基材的薄膜。
2、但在实际应用的过程中，化学气相沉积的方式依赖反应室内的气体压强，但流经反应室的气体种类众多，对应的气体流量等参数也随之增加，从而导致对反应室内气体压强的控制效果不是很理想。
3、因此，在利用化学气相沉积的方式生成薄膜材料的过程中，如何使反应处于恒压状态成为本领域技术人员亟需解决的技术问题。
技术实现思路
1、本申请实施例提供一种恒压反应控制系统、方法、装置及电子设备，以使在利用化学气相沉积的方式生成薄膜材料的过程中，使反应处于恒压状态。
2、根据本申请实施例的第一方面，提供了一种恒压反应控制系统，其特征在于，包括：恒压反应室、压力传感器、压力调节泵；所述恒压反应室与所述压力调节泵相通；
3、所述压力传感器，用于检测所述恒压反应室内的气体压强，并将所述气体压强发送至所述压力调节泵；
4、所述压力调节泵，用于在所述气体压强不满足所述恒压反应室对应的预设压强的情况下，根据所述气体压强和所述预设压强，调整所述压力调节泵的输出功率，使所述恒压反应室内的气体压强以预设的压力变化
5、在本申请的一种可选实施方式中，所述根据所述气体压强和预设压强，调整所述压力调节泵的输出功率，使所述恒压反应室内的气体压强以预设的压力变化值匀速变化，以调整所述恒压反应室内的气体压强，包括：
6、判断所述气体压强是否大于所述预设压强；
7、在所述气体压强大于所述预设压强的情况下，提高所述压力调节泵的输出功率，使功率提高后的压力调节泵抽取所述恒压反应室的气体；
8、在所述气体压强小于所述预设压强的情况下，降低所述压力调节泵的输出功率，使功率降低后的压力调节泵抽取所述恒压反应室内的气体。
9、在本申请的一种可选实施方式中，所述压力调节泵，包括：第一控制器、泵体；
10、所述第一控制器，用于设置所述压力调节泵输出功率的平均变化值；接收所述气体压强，并在所述气体压强不满足所述恒压反应室对应的预设压强的情况下，根据所述气体压强和所述预设压强，控制所述泵体按照所述输出功率的平均变化值调整输出功率，以使所述恒压反应室内的气体压强以预设的压力变化值匀速变化；
11、所述泵体，用于抽取所述恒压反应室内的气体。
12、在本申请的一种可选实施方式中，所述第一控制器为变频控制器。
13、在本申请的一种可选实施方式中，所述第一控制器通过总线通讯的方式控制所述泵体调整输出功率。
14、在本申请的一种可选实施方式中，还包括：第二控制器、蝶阀；所述蝶阀安装在连通所述压力调节泵和所述恒压反应室的通道中；
15、所述第二控制器，用于接收所述气体压强，在所述气体压强不满足所述恒压反应室对应的预设压强的情况下，根据所述气体压强和所述预设压强，调整所述蝶阀的开口大小。
16、在本申请的一种可选实施方式中，所述第二控制器与所述压力调节泵相连；
17、所述压力调节泵，还用于在所述压力调节泵的功率调整功能失效的情况下，向所述第二控制器发送蝶阀控制开启信号；
18、所述第二控制器，还用于接收所述蝶阀控制开启信号，并执行所述接收所述气体压强，在所述气体压强不满足所述恒压反应室对应的预设压强的情况下，根据所述气体压强和所述预设压强，调整所述蝶阀的开口大小的步骤。
19、根据本申请实施例的第二方面，提供了一种恒压反应控制方法，包括：
20、获得恒压反应室内的气体压强；
21、在所述气体压强不满足所述恒压反应室对应的预设压强的情况下，根据所述气体压强和所述预设压强，调整所述压力调节泵的输出功率，使所述恒压反应室内的气体压强以预设的压力变化值匀速变化，以调整所述恒压反应室内的气体压强；
22、根据本申请实施例的第三方面，提供了一种恒压反应控制装置，包括：
23、第一单元，用于获得恒压反应室内的气体压强；
24、第二单元，用于在所述气体压强不满足所述恒压反应室对应的预设压强的情况下，根据所述气体压强和所述预设压强，调整所述压力调节泵的输出功率，使所述恒压反应室内的气体压强以预设的压力变化值匀速变化，以调整所述恒压反应室内的气体压强；
25、其中，所述恒压反应室与所述压力调节泵相通。
26、根据本申请实施例的第四方面，提供了一种电子设备，包括：
27、处理器；
28、用于存储所述处理器可执行指令的存储器；
29、所述处理器，用于通过运行所述存储器中的指令，执行上述权利要求8所述的恒压反应控制方法。
30、与现有技术相比，本申请具有以下优点：
31、本申请提供一种恒压反应控制系统、方法、装置及电子设备，所述恒压反应控制系统，包括：恒压反应室、压力传感器、压力调节泵；所述恒压反应室与所述压力调节泵相通；所述压力传感器，用于检测所述恒压反应室内的气体压强，并将所述气体压强发送至所述压力调节泵；所述压力调节泵，用于在所述气体压强不满足所述恒压反应室对应的预设压强的情况下，根据所述气体压强和所述预设压强，调整所述压力调节泵的输出功率，使所述恒压反应室内的气体压强以预设的压力变化值匀速变化，以调整所述恒压反应室内的气体压强。
32、所述恒压反应控制系统，通过压力调节泵接收恒压反应室内的气体压强，并使所述压力调节泵基于反应室内的气体压强调整输出功率，以调整所述恒压反应室内的气体压强，使得恒压反应室内的气体压强处于预设压强，该方法实现了对恒压反应室内气体压强的自动控制，提高了利用化学气相沉积(cvd)的方式生长薄膜材料的效率。
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1.一种恒压反应控制系统，其特征在于，包括：恒压反应室、压力传感器、压力调节泵；所述恒压反应室与所述压力调节泵相通；
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述根据所述气体压强和预设压强，调整所述压力调节泵的输出功率，使所述恒压反应室内的气体压强以预设的压力变化值匀速变化，以调整所述恒压反应室内的气体压强，包括：
3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述压力调节泵，包括：第一控制器、泵体；
4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第一控制器为变频控制器。
5.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第一控制器通过总线通讯的方式控制所述泵体调整输出功率。
6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括：第二控制器、蝶阀；所述蝶阀安装在连通所述压力调节泵和所述恒压反应室的通道中；
7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述第二控制器与所述压力调节泵相连；
8.一种恒压反应控制方法，其特征在于，包括：
9.一种恒压反应控制装置，其特征在于，包括：
10.一
...【技术特征摘要】
1.一种恒压反应控制系统，其特征在于，包括：恒压反应室、压力传感器、压力调节泵；所述恒压反应室与所述压力调节泵相通；
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述根据所述气体压强和预设压强，调整所述压力调节泵的输出功率，使所述恒压反应室内的气体压强以预设的压力变化值匀速变化，以调整所述恒压反应室内的气体压强，包括：
3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述压力调节泵，包括：第一控制器、泵体；
4.根据权利要求3所述的系统，其特征在于，所述第一控制器为变频控制器。<...
【专利技术属性】
技术研发人员：向常汉，肖蕴章，董其赞，陈炳安，钟国仿，
申请(专利权)人：纳设智能装备江苏有限公司，
类型：发明
国别省市：
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