【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术属于材料工程和纳米。更具体地，本专利技术描述了钽纳米颗粒制剂、其用途以及通过粉碎获得其的方法，即自上而下的方法。本专利技术提供了大量高纯度的五氧化二钽纳米颗粒。本专利技术的纳米颗粒制剂解决了这些和其他问题，并具有限定的组成、纯度、颗粒粒度谱和高比表面积，使其可用于多种应用。本专利技术还公开了一种通过受控粉碎从含钽矿物种类中获得纳米颗粒的方法，且所述方法没有化学反应或纳米颗粒合成的典型试剂造成的污染。本专利技术与现有技术形成鲜明对比，其提供了具有高纯度、确定的颗粒尺寸谱和非常高的比表面积的五氧化二钽纳米颗粒的大规模生产，使其能在多种工业应用中实际使用。
技术介绍
1、多种材料的颗粒，特别是陶瓷材料(包括陶瓷氧化物)的颗粒，在多种应用中都有很大用途。在这部分，所谓的粉末冶金一直是许多参与特殊材料开发的研究小组和公司的研究对象，其中尺寸限制或颗粒粒度分布谱是此类材料性能的关键因素。
2、在本专利技术的上下文中，特别相关的是，着重介绍了以下之间的区别：(i)在其他颗粒中包含一部分纳米颗粒的制剂；(ii)含有主要或全部处于纳...
【技术保护点】
1.钽纳米颗粒制剂，包含含量等于或大于95重量％的钽颗粒，其中50％至90％的颗粒(d50至d90)处于342纳米(nm)至2127纳米(nm)的颗粒粒度范围。
2.根据权利要求1所述的纳米颗粒制剂，其中90％至99％的颗粒(d90至d99)处于1402纳米(nm)至9938纳米(nm)的颗粒粒度范围。
3.根据权利要求1或2所述的纳米颗粒制剂，其中所述颗粒的尺寸在10纳米(nm)至492纳米(nm)的范围。
4.根据权利要求3所述的纳米颗粒制剂，其中所述颗粒的尺寸在10纳米(nm)至339纳米(nm)的范围。
5.根据...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.钽纳米颗粒制剂，包含含量等于或大于95重量％的钽颗粒，其中50％至90％的颗粒(d50至d90)处于342纳米(nm)至2127纳米(nm)的颗粒粒度范围。
2.根据权利要求1所述的纳米颗粒制剂，其中90％至99％的颗粒(d90至d99)处于1402纳米(nm)至9938纳米(nm)的颗粒粒度范围。
3.根据权利要求1或2所述的纳米颗粒制剂，其中所述颗粒的尺寸在10纳米(nm)至492纳米(nm)的范围。
4.根据权利要求3所述的纳米颗粒制剂，其中所述颗粒的尺寸在10纳米(nm)至339纳米(nm)的范围。
5.根据权利要求1或2所述的纳米颗粒制剂，其中所述纳米颗粒制剂包含含量等于或大于99重量％的钽颗粒。
6.根据权利要求1或2所述的纳米颗粒制剂，其中所述纳米颗粒由五氧化二钽制成。
7.根据权利要求1或2所述的纳米颗粒制剂，其中颗粒尺寸分布为：d10为83nm至97nm；d50为342nm至455nm；d90为1402nm至2127nm；或d99为5755nm至9938nm。
8.根据权利要求1或2所述的纳米颗粒制剂，其中所述颗粒的比表面积为：d10为7.54m2·g-1至8.82m2·g-1；d50为1.61m2·g-1至2.14m2·g-1；d90为0.34m2·g-1至0.52m2·g-1；或d99为0.07m2·g-1至0.13m2·g-1。
【专利技术属性】
技术研发人员：J·博阿雷托，R·C·D·克鲁兹，
申请(专利权)人：赫西里奥兰登研究所，
类型：发明
国别省市：
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