【技术实现步骤摘要】
本专利技术提供一种涂布供液系统，属于封装光刻胶涂布系统，特别涉及一种基于封装光刻胶的有机溶剂的涂布供液系统。
技术介绍
1、光刻胶是一种在半导体制造中使用的特殊涂料，主要用于保护光刻模板和制造微细图案。通过光刻曝光和显影过程，光刻胶可以将微细的图案转移到硅片表面，用于制造电路、晶体管和其他微细结构。涂布机是一种专门用于光刻胶涂布和加工的设备。它能确保光刻胶的厚度均匀，并控制涂布参数如速度、压力和温度，以保证涂布过程的一致性和稳定性。此外，涂布机还能进行光刻胶的预处理，如去气泡和去杂质，提高光刻胶的质量和性能。总体而言，光刻胶和涂布机在半导体制造领域中起着至关重要的作用，促进了微电子设备的制造与发展。
2、现有技术下的传统涂布系统中，由于参数控制和设计等问题，光刻胶的涂抹并不均匀，从而影响了产品的质量和性能，多数涂布体系中常借助人工调整和干预来调节涂布参数，以达到均匀涂布的效果，当该种方式存在人为因素的影响，不适应大规模生产，而且对于作业人员，存在着机械设备所带来的难以避免的安全隐患。
技术实现思路
【技术保护点】
1.一种基于封装光刻胶的有机溶剂的涂布供液系统，包括旋转涂布架(1)，其特征在于：所述旋转涂布架(1)上设有供液系统(2)，供液系统(2)和旋转涂布架(1)与监测控制系统(3)连接，旋转涂布架(1)和供液系统(2)通过传感器系统(4)与监测控制系统(3)实现信号闭环，所述监测控制系统(3)与旋转涂布架(1)、供液系统(2)和传感器系统(3)通过数字信号连接。
2.根据权利要求1所述的一种基于封装光刻胶的有机溶剂的涂布供液系统，其特征在于：所述供液系统(2)包括溶剂储存罐(21)，溶剂储存罐(21)通过限制系统(22)与旋转涂布架(1)连接。
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【技术特征摘要】
1.一种基于封装光刻胶的有机溶剂的涂布供液系统，包括旋转涂布架(1)，其特征在于：所述旋转涂布架(1)上设有供液系统(2)，供液系统(2)和旋转涂布架(1)与监测控制系统(3)连接，旋转涂布架(1)和供液系统(2)通过传感器系统(4)与监测控制系统(3)实现信号闭环，所述监测控制系统(3)与旋转涂布架(1)、供液系统(2)和传感器系统(3)通过数字信号连接。
2.根据权利要求1所述的一种基于封装光刻胶的有机溶剂的涂布供液系统，其特征在于：所述供液系统(2)包括溶剂储存罐(21)，溶剂储存罐(21)通过限制系统(22)与旋转涂布架(1)连接。
3.根据权利要求2所述的一种基于封装光刻胶的有机溶剂的涂布供液系统，其特征在于：所述限制系统(2)包括置于旋转涂布架(1)和溶剂储存罐(21)之间的管路(23)，管路(23)靠近容器储存罐(21)的一端依次连接有流量计(24)和电磁阀(25)。
4.根据权利要求3所述的一种基于封装光刻胶的有机溶剂的涂布供液系统，其特征在于：所述监测控制系统(3)接收流量计(24)的反馈信号并向电磁阀(25)发射控制信号。
5.根据权利要求3所述的一种基于封装光刻胶的有机溶剂的涂布供液系统，其特征在于：所述管路(23)、溶剂储存罐(21)和旋转涂布架(1)与传感器系统(4)之间通过超声波信号或光谱信号进行连接，传感器系统(4)向监测控制系统(3)发送反馈信号。
6.根据权利要求3或5所...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈阿康，
申请(专利权)人：苏州坤汇半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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