【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及石墨材料制备领域，更具体的说是一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉。
技术介绍
1、真空技术是指创造并维持低于大气压力的物理环境，以及在这样环境中进行各类工艺制作、物理测量和科学实验所需的技术。真空技术在许多领域都有广泛的应用，包括冶金、材料科学、电子制造、光学研究等。真空状态通常通过压力来表征，压力越低，表示真空度越高。此外，真空区域可以根据压力的不同进行划分，如高真空、超高真空等。获得真空主要通过真空泵等设备实现，如旋片泵、定片式真空泵、往复泵等。这些设备能够将容器内的气体排出，从而降低容器内的压力。在真空技术中，准确测量真空度是非常重要的。这通常通过真空测量装置来完成，如真空规管等。随着科学技术的不断发展，真空技术也在不断进步。例如，电真空技术方法在高真空获得和维持、电子枪设计制备等方面取得了飞速的发展。此外，真空光镊技术及其应用也在不断推进，为微粒的精准操控提供了有力支持。真空炉是在炉腔这一特定空间内利用真空系统实现真空状态，从而进行各类热处理工艺的设备。真空炉能够显著提高被处理材料和工件性能，使材料得到充分利用
2、公开号为cn2196625u的一篇中国技术专利，其公开了一种可观察高温石墨真空炉，包括探头基座、示镜安装口、安装座、安装槽、定位座、探头安装孔、调整机构，调整机构包括调整螺钉。本技术的有益效果：红外测温探头安装在定位座上，通过调整螺钉在安装座上螺纹旋合，进而驱动定位座在安装槽内滑动，调节红外测温探头与示镜安装口的轴向间距，降低了探头基座的加工精度，同时可方便红外测温
3、虽然上述真空炉实现了对加热过程中的石墨材料进行观测的功能，以满足在石墨材料加热时无法观测物料状态的问题，但是现有技术所提供的真空炉加热效率低下，并且多使用热对流等能耗高的加热方式。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是针对现有技术的不足之处，提供一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，以解决现有技术真空炉加热效率低，能耗大的问题。
2、本专利技术的技术解决措施如下：
3、一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，包括真空炉外壳，所述真空炉外壳上转动设置有外炉盖，所述真空炉外壳下方还设置有底座，所述底座一侧还设置有电源，所述真空炉外壳内部还设置有内炉，所述内炉内部还设置有摇摆式原料烧制组件，所述真空炉外壳后方设置有空气压缩机，所述空气压缩机上设置有真空管，所述内炉上方设置有真空管固定套，所述外炉盖上还设置有集成控制组件。
4、作为一种优选，所述内炉包括炉体，所述炉体下方设置有高压变压器，所述变压器上设置有四组导热棒。
5、作为一种优选，所述每组导热棒上都缠绕有电热丝。所述炉体内部还环绕设置有七组热辐射反射片组。
6、作为一种优选，所述热辐射反射片分为单向热辐射反射片和v型热辐射反射片，所述单向热辐射反射片设置在最上端和最下端，均向炉内偏转30°～ 45°,其余五组均为v型热辐射反射片。
7、作为一种优选，所述炉体上还转动设置有内炉盖，所述内炉盖外侧一圈均设置有气密层，所述内炉盖上还设置有把手a。
8、作为一种优选，所述内炉炉顶还设置有内外炉连接柱，所述内炉炉顶还设置有将温度变化转化为电信号的温控模块，所述温控模块一侧设置有温度监测装置。
9、作为一种优选，所述摇摆式原料烧制组件包括原料盘支撑柱，所述原料盘支撑柱上等距设置有六组原料盘，所述原料盘两侧均设置有圆杆夹头，所述原料盘支撑柱顶端设置有旋转轴，所述旋转轴上设置有摇摆杆，所述摇摆杆末端均设置有连杆，所述连杆上与原料盘对应设置有原料盘连接杆。
10、作为一种优选，所述真空炉外壳和外炉盖上下两侧均设置有若干组风扇，所述外炉盖上还设置有把手b。
11、作为一种优选，所述真空炉外壳与底座连接处设置有电路连接柱，所述电路连接柱上设置有断电保护装置。
12、作为一种优选，所述集成控制组件包括数据监测屏和设置在数据监测屏下方的操作键盘。
13、本专利技术的有益效果在于
14、本专利技术设置有热辐射反射片，通过设置热辐射反射片的角度，真空炉内炉产生的热辐射会被热辐射反射片集中反射至原料盘上，不仅提高了加热效率，还降低了能耗。
15、本专利技术还设置有摇摆式原料烧制组件，经过干燥后的石墨封堵剂原料粉末放置在原料盘上后，可通过原料盘的摆动将原料粉末均匀铺开，可对原料进行全方位加热烧制，避免出现受热不均的情况。
16、综上所述，本专利技术具有加热效率高，能耗低，操作方便等功能，适合石墨材料制备领域。
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1.一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，包括真空炉外壳（1），其特征在于：所述真空炉外壳（1）上转动设置有外炉盖（11），所述真空炉外壳（1）下方还设置有底座（12），所述底座（12）一侧还设置有电源（13），所述真空炉外壳（1）内部还设置有内炉（2），所述内炉（2）内部还设置有摇摆式原料烧制组件（3），所述真空炉外壳（1）后方设置有空气压缩机（14），所述空气压缩机（14）上设置有真空管（15），所述内炉（2）上方设置有真空管固定套（21），所述外炉盖（11）上还设置有集成控制组件（4）。
2.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述内炉（2）包括炉体（22），所述炉体（22）下方设置有高压变压器（23），所述变压器上设置有四组导热棒（24）。
3.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述导热棒（24）自下而上直插入炉体（22），所述每组导热棒（24）上都缠绕有电热丝（241）。所述炉体（22）内部还环绕设置有七组热辐射反射片组（25）。
4.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述热辐射反射片组（25）包括单向热辐射反射片（251）和V型热辐射反射片（252），所述单向热辐射反射片（251）设置在最上端和最下端，均向炉内偏转30°～ 45°,其余五组均为V型热辐射反射片（252）。
5.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述炉体（22）上还转动设置有内炉盖（26），所述内炉盖（26）外侧一圈均设置有气密层（261），所述内炉盖（26）上还设置有把手a（262）。
6.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述内炉（2）炉顶还设置有内外炉连接柱（27），所述内炉（2）炉顶还设置有将温度变化转化为电信号的温控模块（28），所述温控模块（28）一侧设置有温度监测装置（281）。
7.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述摇摆式原料烧制组件（3）包括原料盘支撑柱（31），所述原料盘支撑柱（31）上等距设置有六组原料盘（32），所述原料盘（32）两侧均设置有圆杆夹头（321），所述原料盘支撑柱（31）顶端设置有旋转轴（311），所述旋转轴（311）上设置有摇摆杆（33），所述摇摆杆（33）末端均设置有连杆（34），所述连杆（34）上与原料盘（32）对应设置有原料盘连接杆（35）。
8.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述真空炉外壳（1）和外炉盖（11）上下两侧均设置有若干组风扇（16），所述外炉盖（11）上还设置有把手b（17）。
9.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述真空炉外壳（1）与底座连接处设置有电路连接柱（18），所述电路连接柱（18）上设置有断电保护装置（181）。
10.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述集成控制组件（4）包括数据监测屏（41）和设置在数据监测屏（41）下方的操作键盘（42）。
...【技术特征摘要】
1.一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，包括真空炉外壳（1），其特征在于：所述真空炉外壳（1）上转动设置有外炉盖（11），所述真空炉外壳（1）下方还设置有底座（12），所述底座（12）一侧还设置有电源（13），所述真空炉外壳（1）内部还设置有内炉（2），所述内炉（2）内部还设置有摇摆式原料烧制组件（3），所述真空炉外壳（1）后方设置有空气压缩机（14），所述空气压缩机（14）上设置有真空管（15），所述内炉（2）上方设置有真空管固定套（21），所述外炉盖（11）上还设置有集成控制组件（4）。
2.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述内炉（2）包括炉体（22），所述炉体（22）下方设置有高压变压器（23），所述变压器上设置有四组导热棒（24）。
3.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述导热棒（24）自下而上直插入炉体（22），所述每组导热棒（24）上都缠绕有电热丝（241）。所述炉体（22）内部还环绕设置有七组热辐射反射片组（25）。
4.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述热辐射反射片组（25）包括单向热辐射反射片（251）和v型热辐射反射片（252），所述单向热辐射反射片（251）设置在最上端和最下端，均向炉内偏转30°～ 45°,其余五组均为v型热辐射反射片（252）。
5.根据权利要求1所述的一种用于制备耐高温耐氧化石墨微孔封堵剂的热循环真空炉，其特征在于，所述炉体（22）上还转动设置有内炉盖（26），所述内炉盖（...
【专利技术属性】
技术研发人员：周志强，邱嫣然，姜超，陈新宇，张慧敏，任世刚，
申请(专利权)人：浙江华熔科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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