一种触摸屏结构制造技术

本技术涉及一种触摸屏结构，包括透明导电层及金手指区域，透明导电层上设有消影层，消影层整面设于透明导电层上，消影层上设有一层保护膜，保护膜在触摸屏的所述金手指区域设有开孔，其他区域整面覆盖，保护膜能够用于在后期蚀刻金手指区域时保护其他区域不受影响。保护膜为由贴膜或丝印工艺覆盖在消影层上，保护膜的厚度为小于等于10um，开孔能够用于后期蚀刻金手指区域时，蚀刻膏能够通过开孔流入到金手指区域。本技术在消影层上设有一层保护膜，该保护膜在丝印时在金手指区域设置开孔，蚀刻膏可以进入金手指区域，其余非蚀刻区域均为整面性覆盖，利用保护膜的隔绝作用，使得产品得到保护，杜绝不良品，出厂时，将保护膜撕掉即可。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及触摸屏，更具体地说，涉及一种触摸屏结构。

技术介绍

1、随着消费水平的提高，消费者对产品的质量和外观要求也相对较之前变高。触摸屏行业，在触摸屏线路面新增一层消影层均会提升产品的质量，且增加一层消影层也会使得触摸屏外观上更加一体化，外观上不易觉察线路图案。但由于新增消影层需要在触摸屏完成线路进行整面性镀膜，同样触摸屏的金手指位置会被消影层覆盖。为了后续触摸屏功能的实现，需要在出货前将金手指位置的消影层蚀刻掉以方便后续fpc的绑定。但由于蚀刻膏为固体液体的混合物，在丝印蚀刻膏时会存在边缘渗透问题，导致实际蚀刻掉区域大于丝印开口区域，从而使得被过度蚀刻区域保护不足或外观线路痕迹明显，如图1所示。

技术实现思路

1、本技术提出一种触摸屏结构，旨在解决现有技术中在后期丝印蚀刻膏时会因蚀刻膏网具破损导致蚀刻膏从破损位置漏点，也会造成非蚀刻区域的消影层被蚀刻掉。

2、具体的，本技术的技术方案为：一种触摸屏结构，包括透明导电层及金手指区域，透明导电层上设有消影层，消影层整面设于透明导电层上，消影层上设有一层保护膜，保护膜在触摸屏的所述金手指区域设有开孔，其他区域整面覆盖，保护膜能够用于在后期蚀刻金手指区域时保护其他区域不受影响。

3、作为优选的技术方案，保护膜为由贴膜或丝印工艺覆盖在消影层上，保护膜的厚度为小于等于10um。

4、作为优选的技术方案，开孔能够用于后期蚀刻金手指区域时，蚀刻膏能够通过开孔流入到金手指区域。

5、作为优选的技术方案，消影层包括氮氧化硅层及二氧化硅层。

6、作为优选的技术方案，二氧化硅层为由磁控溅射工艺制作而得的膜层。

7、作为优选的技术方案，二氧化硅层的折射率为1.45～1.60，厚度为65～75nm。

8、作为优选的技术方案，氮氧化硅层为由中频磁控溅射工艺制作而得的膜层。

9、作为优选的技术方案，氮氧化硅层的折射率为1.47～2.0。

10、作为优选的技术方案，氮氧化硅层的厚度为60～70nm。

11、作为优选的技术方案，触摸屏的透过率为大于等于90％。

12、本技术相对于现有技术取得了以下技术效果：本技术技术方案在消影层上设有一层保护膜层，该保护膜层在丝印时在金手指区域设置开孔，蚀刻膏可以进入金手指区域，其余非蚀刻区域均为整面性丝印覆盖保护膜。如此设置，在蚀刻金手指位置区域时，蚀刻膏从开孔进入丝印区域，其余位置用保护膜覆盖保护，不会受到蚀刻膏的浸入，引起产品性能问题，杜绝不良品的产生。该触摸屏在出厂时，将保护膜撕掉即可。

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【技术保护点】

1.一种触摸屏结构，其特征在于，包括透明导电层及金手指区域，所述透明导电层上设有消影层，所述消影层整面设于所述透明导电层上，所述消影层上设有一层保护膜，所述保护膜在所述触摸屏的所述金手指区域设有开孔，其他区域整面覆盖，所述保护膜能够用于在后期蚀刻所述金手指区域时保护其他区域不受影响。

2.根据权利要求1所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述保护膜为由贴膜或丝印工艺覆盖在所述消影层，所述保护膜的厚度为小于等于10um。

3.根据权利要求1所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述开孔能够用于后期蚀刻所述金手指区域时，蚀刻膏能够通过所述开孔流入到所述金手指区域。

4.根据权利要求1所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述消影层包括氮氧化硅层及二氧化硅层。

5.根据权利要求4所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述二氧化硅层为由磁控溅射工艺制作而得的膜层。

6.根据权利要求5所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述二氧化硅层的折射率为1.45～1.60，厚度为65～75nm。

7.根据权利要求4所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述氮氧化硅层为由中频磁控溅射工艺制作而得的膜层。

8.根据权利要求7所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述氮氧化硅层的折射率为1.47～2.0。

9.根据权利要求7所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述氮氧化硅层的厚度为60～70nm。

10.根据权利要求1-9任一项所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述触摸屏的透过率为大于等于90％。

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【技术特征摘要】

1.一种触摸屏结构，其特征在于，包括透明导电层及金手指区域，所述透明导电层上设有消影层，所述消影层整面设于所述透明导电层上，所述消影层上设有一层保护膜，所述保护膜在所述触摸屏的所述金手指区域设有开孔，其他区域整面覆盖，所述保护膜能够用于在后期蚀刻所述金手指区域时保护其他区域不受影响。

2.根据权利要求1所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述保护膜为由贴膜或丝印工艺覆盖在所述消影层，所述保护膜的厚度为小于等于10um。

3.根据权利要求1所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述开孔能够用于后期蚀刻所述金手指区域时，蚀刻膏能够通过所述开孔流入到所述金手指区域。

4.根据权利要求1所述的一种触摸屏结构，其特征在于，所述消影层包括氮氧化硅层及二氧化硅层。...

【专利技术属性】
技术研发人员：张杰，曾一鑫，
申请(专利权)人：信利光电股份有限公司，
类型：新型
国别省市：