装饰件及其制备方法、壳体和电子设备技术

技术编号:40907348 阅读:20 留言:0更新日期:2024-04-18 14:37
本申请提供了一种装饰件,包括基材以及设置在基材表面的纹理层,纹理层的表面具有纹理区,纹理区包括阵列排布的多个第一单元和多个第二单元,第一单元和第二单元交替设置,每一第一单元具有至少一条第一线状纹理,每一第二单元具有至少一条第二线状纹理,每一第一单元中的第一线状纹理与第一方向的夹角为γ,每一第二单元中的第二线状纹理与第一方向的夹角为δ,沿第一方向上,多个第一单元中的γ逐渐变化,多个第二单元中的δ逐渐变化,沿第二方向上,多个第一单元中的γ按第一函数关系式变化,多个第二单元中的δ按第二函数关系式变化,第一方向与第二方向垂直,第一函数关系式与第二函数关系式不同。该装饰件具有螺旋多光影的外观效果。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及电子设备,具体涉及装饰件及其制备方法、壳体和电子设备


技术介绍

1、随着电子设备的不断发展,消费者在关注电子设备性能的同时,越来越关注电子设备的外观效果。目前电子设备的外观效果较为单一且同质化现象严重,无法满足消费者的需求。因此,需要对电子设备的外观效果进行改善。


技术实现思路

1、有鉴于此,本申请提供了一种装饰件及其制备方法、壳体和电子设备,该装饰件可以实现螺旋多光影的效果,在视觉上更具有层次和立体感,极大地提升了装饰件的视觉效果。

2、第一方面,本申请提供了一种装饰件,所述装饰件包括基材以及设置在所述基材表面的纹理层,所述纹理层的表面具有纹理区,所述纹理区包括阵列排布的多个第一单元和多个第二单元,所述第一单元和所述第二单元交替设置,每一所述第一单元具有至少一条第一线状纹理,每一所述第二单元具有至少一条第二线状纹理,每一所述第一单元中的所述第一线状纹理与第一方向的夹角为γ,每一所述第二单元中的所述第二线状纹理与所述第一方向的夹角为δ,沿所述第一方向上,多个所述第一单元中的所述γ逐渐变本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种装饰件,其特征在于,所述装饰件包括基材以及设置在所述基材表面的纹理层,所述纹理层的表面具有纹理区,所述纹理区包括阵列排布的多个第一单元和多个第二单元,所述第一单元和所述第二单元交替设置,每一所述第一单元具有至少一条第一线状纹理,每一所述第二单元具有至少一条第二线状纹理,

2.如权利要求1所述的装饰件,其特征在于,所述第一函数关系式为:

3.如权利要求1所述的装饰件,其特征在于,所述第二函数关系式为:

4.如权利要求1所述的装饰件,其特征在于,沿所述第一线状纹理的延伸方向上,所述第一线状纹理的高度或深度逐渐变化。

5.如权利要求4所述...

【技术特征摘要】

1.一种装饰件,其特征在于,所述装饰件包括基材以及设置在所述基材表面的纹理层,所述纹理层的表面具有纹理区,所述纹理区包括阵列排布的多个第一单元和多个第二单元,所述第一单元和所述第二单元交替设置,每一所述第一单元具有至少一条第一线状纹理,每一所述第二单元具有至少一条第二线状纹理,

2.如权利要求1所述的装饰件,其特征在于,所述第一函数关系式为:

3.如权利要求1所述的装饰件,其特征在于,所述第二函数关系式为:

4.如权利要求1所述的装饰件,其特征在于,沿所述第一线状纹理的延伸方向上,所述第一线状纹理的高度或深度逐渐变化。

5.如权利要求4所述的装饰件,其特征在于,沿所述第一线状纹理的延伸方向上,所述第一线状纹理的高度或深度先增加后减小。

6.如权利要求4所述的装饰件,其特征在于,沿所述第一线状纹理的延伸方向上,所述第一线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

7.如权利要求1所述的装饰件,其特征在于,所述第一单元具有多条平行设置的所述第一线状纹理,沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上,多条所述第一线状纹理的高度或深度逐渐变化。

8.如权利要求7所述的装饰件,其特征在于,沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上,多条所述第一线状纹理的高度或深度先增加后减小。

9.如权利要求7所述的装饰件,其特征在于,沿垂直于所述第一线状纹理延伸方向的方向上,多条所述第一线状纹理的高度或深度呈线性变化或非线性变化。

10.如...

【专利技术属性】
技术研发人员:赖秀林张超何炜李木天赵菲
申请(专利权)人:比亚迪股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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